集成电路及其设计系统技术方案

技术编号:21686463 阅读:38 留言:0更新日期:2019-07-24 14:45
本发明专利技术的实施例提供了一种集成电路结构,包括:在第一方向上延伸的第一多个单元行,第一多个单元行的每个均具有第一行高度并且包括设置在其中的多个第一单元;以及在第一方向上延伸的第二多个单元行,第二多个单元行的每个均具有与第一行高度不同的第二行高度,并且包括设置在其中的多个第二单元。多个第一单元包括第一多个有源区域,第一多个有源区域的每个均在第一方向上连续地延伸横跨多个第一单元,并且,多个第二单元包括第二多个有源区域,第二多个有源区域的每个均在第一方向上连续地延伸横跨多个第二单元。本发明专利技术的实施例还提供了集成电路结构的设计系统。

Integrated Circuit and Its Design System

【技术实现步骤摘要】
集成电路及其设计系统
本专利技术的实施例总体涉及半导体领域,更具体地,涉及集成电路及其设计系统。
技术介绍
通常,电子设计自动化(EDA)工具帮助半导体设计者对期望的电路进行纯粹的行为描述,并且致力于形成准备制造的电路的成品布局。该工艺通常采用电路的行为描述并且将其转换为功能描述,然后将功能描述分解为数千个布尔函数并且映射至相应的使用标准单元库的单元行。一旦映射,则实施合成以将结构设计转换为物理布局,构建时钟树以使各结构元素同步,并且在布局后优化设计。为了避免来自相应不同单元库的单元之间的未对准,通常使用来自标准单元库的单元,该单元具有等于单元行高度(下文中称为“行高度”)的单元高度。因此,通常在相对早期的设计阶段决定哪个“单个”单元高度用于设计,从而也固定对应的行高度。然而,通过使用仅单个单元高度,必须在电路性能、电路功率和制造工艺之间进行一些折衷。例如,可以通过沿着单元行并排设置多个单元来形成面向性能的电路,每个单元均具有较多数量的有源区域(例如,鳍);并且可以通过沿着单元行并排设置多个单元形成面向功率/面积的电路,每个单元均具有较少数量的有源区域。因此,为了设计消耗低功率并且占本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种集成电路结构,包括:第一多个单元行,在第一方向上延伸,所述第一多个单元行的每个单元行均具有第一行高度并且包括设置在其中的多个第一单元;以及第二多个单元行,在所述第一方向上延伸,所述第二多个单元行的每个单元行均具有与所述第一行高度不同的第二行高度,并且包括设置在其中的多个第二单元,其中,所述多个第一单元包括第一多个有源区域,所述第一多个有源区域的每个有源区域均在所述第一方向上连续地延伸横跨所述多个第一单元,并且,所述多个第二单元包括第二多个有源区域,所述第二多个有源区域的每个有源区域均在所述第一方向上连续地延伸横跨所述多个第二单元。

【技术特征摘要】
2017.11.28 US 62/591,358;2018.11.20 US 16/196,4341.一种集成电路结构,包括:第一多个单元行,在第一方向上延伸,所述第一多个单元行的每个单元行均具有第一行高度并且包括设置在其中的多个第一单元;以及第二多个单元行,在所述第一方向上延伸,所述第二多个单元行的每个单元行均具有与所述第一行高度不同的第二行高度,并且包括设置在其中的多个第二单元,其中,所述多个第一单元包括第一多个有源区域,所述第一多个有源区域的每个有源区域均在所述第一方向上连续地延伸横跨所述多个第一单元,并且,所述多个第二单元包括第二多个有源区域,所述第二多个有源区域的每个有源区域均在所述第一方向上连续地延伸横跨所述多个第二单元。2.根据权利要求1所述的集成电路结构,其中,所述第一多个有源区域的第一数量与所述第一行高度相关,并且所述第二多个有源区域的第二数量与所述第二行高度相关。3.根据权利要求2所述的集成电路结构,其中,所述第一数量与所述第二数量不同。4.根据权利要求1所述的集成电路结构,其中,所述第一多个有源区域和所述第二多个有源区域的每个有源区域均包括具有鳍形结构的区域。5.根据权利要求1所述的集成电路结构,其中,所述第一多个单元行和所述第二多个单元行沿着垂直于所述第一方向的第二方向以交替配置布置。6.一种集成电路结构,包括:多个第一单元,每个第一单元均具有第一单元高度,其中,第一单元行中的所述多个第一单元中的第一子集沿着第一方向设置;以及多个第二单元,每个第二单元均具有与所述第一单元高度不同的第二单元高度,其中,与所述第一单元行不同的第...

【专利技术属性】
技术研发人员:萧锦涛曾健庭刘逸群蔡逸群方上维杨超源黄星凯
申请(专利权)人:台湾积体电路制造股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾,71

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