多波导光场显示制造技术

技术编号:21637231 阅读:44 留言:0更新日期:2019-07-17 13:55
一种多波导光学结构,包括多个波导,该多个波导被堆叠为拦截顺序传播通过每个波导的光,每个波导与不同颜色和不同平面深度相关联,每个波导包括:第一粘合层;具有第一折射率的基板;以及图案化的层,该图案化的层被定位为使得第一粘合层位于图案化的层与基板之间,第一粘合层提供图案化的层与基板之间的粘合,图案化的层具有小于第一折射率的第二折射率,图案化的层限定衍射光栅,其中,与波导相关联的视场是基于第一折射率和第二折射率的。

Multi-waveguide optical field display

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】多波导光场显示相关申请的交叉引用本申请主张2016年11月30日提交的序列号为62/428,193的美国临时专利申请的优先权益。序列号为62/428,193的美国专利申请的全部内容通过引用并入此文。
本专利技术涉及波导显示,以及多波导光学结构。
技术介绍
衍射光栅是具有周期性结构的光学组件,该衍射光栅可以将光分裂并衍射成沿着不同方向行进的若干光束。这些光束的方向取决于光栅的间隔和光的波长。在一些示例中,衍射光栅由槽组构成,该槽组的间隔宽于光的波长以引起衍射。在光与光栅相互作用之后,衍射光由从光栅中的每个槽发出的干涉波的总和构成。槽的深度影响波到每个槽的路径长度,这相应地影响波距每个槽的相位,从而影响槽的衍射效率。如果槽具有均匀的深度,则光栅中的槽可具有均匀的衍射效率。如果槽具有不均匀的深度,则光栅中的槽具有不均匀的衍射效率。
技术实现思路
本说明书中描述的主题的创新方面可以包括一种多波导光学结构。该多波导光学结构包括:多个波导,其被堆叠为拦截顺序传播通过每个波导的光,每个波导与不同颜色和不同平面深度相关联,每个波导包括:第一粘合层;具有第一折射率的基板;以及图案化的层,其被定位为使得第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多波导光学结构,包括:多个波导,其被堆叠为拦截顺序传播通过每个波导的光,每个波导与不同颜色和不同平面深度相关联,每个波导包括:第一粘合层;具有第一折射率的基板;以及图案化的层,其被定位为使得所述第一粘合层位于所述图案化的层与所述基板之间,所述第一粘合层提供所述图案化的层与所述基板之间的粘合,所述图案化的层具有小于所述第一折射率的第二折射率,所述图案化的层限定衍射光栅,其中,与所述波导相关联的视场是基于所述第一折射率和所述第二折射率的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.11.30 US 62/428,1931.一种多波导光学结构,包括:多个波导,其被堆叠为拦截顺序传播通过每个波导的光,每个波导与不同颜色和不同平面深度相关联,每个波导包括:第一粘合层;具有第一折射率的基板;以及图案化的层,其被定位为使得所述第一粘合层位于所述图案化的层与所述基板之间,所述第一粘合层提供所述图案化的层与所述基板之间的粘合,所述图案化的层具有小于所述第一折射率的第二折射率,所述图案化的层限定衍射光栅,其中,与所述波导相关联的视场是基于所述第一折射率和所述第二折射率的。2.根据权利要求1所述的多波导光学结构,其中,每个波导进一步包括第二粘合层,所述第二粘合层被定位为使得所述基板位于所述第一粘合层与所述第二粘合层之间。3.根据权利要求2所述的多波导光学结构,进一步包括:波导支撑件,其连接和定位所述多个波导中的每一者,其中,每个波导的所述第一粘合层和所述第二粘合层中的至少一者粘附到所述波导支撑件。4.根据权利要求2所述的多波导光学结构,其中,每个波导进一步包括被定位在所述基板与所述第二粘合层之间的抗反射层。5.根据权利要求2所述的多波导光学结构,其中,每个波导进一步包括附加的图案化的层,所述附加的图案化的层被定位为使得所述第二粘合层被定位在所述基板与所述附加的图案化的层之间。6.根据权利要求1所述的多波导光学结构,其中,所述基板由玻璃或蓝宝石制成。7.根据权利要求1所述的多波导光学结构,其中,每个波导的视场至少为50度。8.根据权利要求1所述的多波导光学结构,其中,所述第一折射率为约1.5,所述第二折射率至少为1.7。9.根据权利要求1所述的多波导光学结构,其中,所述图案化的层包括小于50纳米的厚度的残留层。10.一种多波导光学结构,包括:多个波导,其被堆叠为拦截顺序传播通过每个波导的光,每个波导与不同颜色和不同平面深度相关联,每个波导包括:第一粘合层;抗反射层;被定位在所述第一粘合层与所述抗反射层之间的基板,所述基板具有第一折射率;第一图案化的层,其被定位为使得所述第一粘合层位于所述第一图案化的层与所述基板之间,所述第一粘合层提供所述第一图案化的层与所述基板之间...

【专利技术属性】
技术研发人员:F·Y·徐M·N·米勒K·罗V·辛格M·克卢格
申请(专利权)人:分子印记公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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