【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及在压印光刻工艺中配置光学层，更具体地涉及在一个加工工序中在衬底/基板上形成尺寸为不同数量级的特征。
技术介绍
1、纳米制造(例如，纳米压印光刻)可以包括制造具有约100纳米或更小的特征的非常小的结构。纳米制造产生重大影响的一个应用是集成电路的处理。半导体加工行业持续争取更大的产量，同时增加衬底的每单位面积在衬底上形成的电路数量。为此，纳米制造对于在半导体加工行业中实现期望结果变得越来越重要。纳米制造提供了更好的工艺控制，同时允许持续减小在衬底上形成的结构的最小特征尺寸。已经采用纳米制造的其它开发领域包括生物技术、光学技术、机械系统等。在一些示例中，纳米制造包括在衬底上制造被组装以形成光学器件的结构。
技术实现思路
1、本专利技术涉及以下认识：在衬底上压印三维(3d)图案的改进可以提高准确度和精度，同时降低与产生这种图案相关的成本和复杂性。常规压印光刻工艺可包括在第一工序中在衬底上压印纳米级图案，并且随后在第二后续工序中在衬底上压印更大数量级的特征。对于这样的工艺，在形成较大特征之前可能需要清洁和处理纳米级图案，这与额外的成本和额外的时间相关。此外，在后续工序中形成较大特征的方面有时会危害纳米图案化衬底的机械完整性和/或功能完整性。在这方面，所公开的压印光刻方法的各个方面可以允许在单个压印工序中压印具有不同数量级的特征的3d结构，所述特征具有多个功能(例如，光学功能、抗反射和间隔中的任何一个)。与替代方法相比，这些方法以降低的成本和持续时间产生精确、准确的结构。
...【技术保护点】
1.一种多层可佩戴目镜，包括：
2.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第二特征包括在所述衬底的所述面上的间隔物。
3.根据权利要求2所述的多层可佩戴目镜，其中，所述间隔物或所述抗反射特征或者两者位于所述衬底的所述面的外围边缘。
4.根据权利要求2所述的多层可佩戴目镜，其中，所述间隔物或所述抗反射特征或者两者位于所述衬底的所述面的内部区域。
5.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述衬底的所述面是所述衬底的第一面，并且在所述衬底的第二面上设置有具有第一尺寸范围的第三特征。
6.根据权利要求5所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第三特征包括位于所述衬底的第二面上的衍射光栅或抗反射特征。
7.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第二尺寸范围包括高度为约1μm至约50μm的范围、或宽度为约1μm至约100μm的范围、或者包括两者。
8.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第一尺寸范围包括高度最高约300nm的范围。
9.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其
10.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，还包括在所述衬底的所述面上的第二特征的顶部上的粘合剂物质。
11.根据权利要求10所述的多层可佩戴目镜，其中，第一波导和第二波导在所述衬底的所述面上的第二特征的顶部上的粘合剂物质处彼此附接，以形成所述第一波导与第二波导之间的所述间隙。
12.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第一波导和第二波导彼此对准。
13.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述间隙提供低折射率区域。
14.根据权利要求11所述的多层可佩戴目镜，其中，所述低折射率区域包括折射率为1的空气。
15.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，每个第二特征与每个第一特征横向隔开至少约5μm至约100μm。
16.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第一波导和第二波导利用沿着所述第一波导和第二波导的第一外围边缘和第二外围边缘的密封件彼此附接。
17.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第一波长范围和第二波长范围中的至少一者对应于波长在约560nm至约640nm范围内的红光、波长在约490nm至约570nm范围内的绿光或波长在约390nm至约470nm范围内的蓝光。
18.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，第一深度平面和第二深度平面是相同的。
19.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第二特征与所述衬底的所述面上的所述附加的第一特征横向间隔开。
20.根据权利要求19所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第二特征位于距所述附加的第一特征约5μm至约100μm处。
...【技术特征摘要】
1.一种多层可佩戴目镜，包括：
2.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第二特征包括在所述衬底的所述面上的间隔物。
3.根据权利要求2所述的多层可佩戴目镜，其中，所述间隔物或所述抗反射特征或者两者位于所述衬底的所述面的外围边缘。
4.根据权利要求2所述的多层可佩戴目镜，其中，所述间隔物或所述抗反射特征或者两者位于所述衬底的所述面的内部区域。
5.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述衬底的所述面是所述衬底的第一面，并且在所述衬底的第二面上设置有具有第一尺寸范围的第三特征。
6.根据权利要求5所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第三特征包括位于所述衬底的第二面上的衍射光栅或抗反射特征。
7.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第二尺寸范围包括高度为约1μm至约50μm的范围、或宽度为约1μm至约100μm的范围、或者包括两者。
8.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，所述第一尺寸范围包括高度最高约300nm的范围。
9.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，其中，第二特征位于第一特征的相对的横向侧上。
10.根据权利要求1所述的多层可佩戴目镜，还包括在所述衬底的所述面上的第二特征的顶部上的粘合剂物质。
11.根据权利要求10所述的多层可佩戴目镜，其中，第一波导和第二波导在所述衬底的所述面上...
【专利技术属性】
技术研发人员：V·辛格，M·N·米勒，F·Y·徐，
申请(专利权)人：分子印记公司，
类型：发明
国别省市：
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