【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光刻，涉及一种偏振波前投影的大面积全息复制曝光系统。
技术介绍
1、显示技术是元宇宙技术中的核心关键技术，现阶段包括一系列浮雕光栅、全息光栅和液晶光栅。光波导因其轻薄和外界光线的高穿透特性是显示技术中的核心器件，随着显示对效率和全可见光成像要求的不断增加，光波导结构由阵列光波导、几何光波导向着性能更优、面积更大的全息光波导、衍射光波导方向发展，而高质量的光波导曝光设备是限制光波导制备的核心关键设备。
2、现阶段主要采用双光路干涉曝光方式制备全息和衍射光波导，尽管双光路曝光具有曝光周期可调的优势，但双光路易受环境温度、振动扰动，导致曝结构质量差；同时这种方式仅仅只能曝光周期均匀结构，无法曝光复杂结构；且曝光存在的边缘衍射会引起拼接接缝宽和不均匀，导致大面积拼接质量差。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种偏振波前投影的大面积全息复制曝光系统。
2、为达到上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
3、偏振波前投影的大面积全息复制曝光系统，该系统包括硬件部分和软件部分；
4、所述硬件部分包括：
5、光源，用于发射光线；
6、快门，用于控制光路的连通和断开；
7、扩束准直器，用于控制激光发出的光扩束到指定尺寸，并输出平行光；
8、反射镜，用于偏转光方向，将其入射到曝光光路；
9、波前调制器，用于生成设计波前，并将波前光分为左右两束，
10、
11、空间频谱调制器，用于对4f曝光镜头中的各束光进行剪辑编译，实现波前调节、补偿、编译和滤波，编译后的两束光分别为左右旋圆偏光；
12、半透半反镜和显微镜，组成偏光显微系统，用于对曝光的平面实现调平调焦；
13、三维位移台，用于控制大面积复制拼接过程中的左右移动、上下移动和前后移动，实现焦面控制，大面积拼接；
14、控制系统，用于对硬件部分中的快门、波前调制器、空间频谱调制器、显微镜和三维位移台进行信号接收、运算和反馈控制；
15、所述软件部分包括：
16、波前控制模块，用于生成不同参数的波前，用于全息光栅曝光；
17、波前编译模块，用于实现4f曝光镜头的光束频谱的的剪切、编译、滤波、相位调制和偏振态调制，优化波前全息曝光；
18、调平调焦运算反馈模块，用于测量镜头的焦面倾角和距离，计算得到曝光面的位置，并反馈给三维位移台，实现焦面的调平调焦；
19、三维位移精密控制模块，用于接收调平调焦运算反馈模块的信号实现调平调焦，接收大面积拼接反馈模块的信号移动实现大面积拼接，控制三维位移台的左右移动、上下移动和前后移动；
20、大面积拼接反馈模块，用于接收显微镜的采集图像，实时反馈拼接接缝位置的对准情况，计算对准参数，实现拼接。
21、进一步，所述波前调制器为空间光调制器、掩膜版、微透镜或微透镜阵列。
22、进一步，所述4f曝光镜头由分别放置于焦点的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜和第八透镜组成；
23、第二透镜位于第一透镜的焦点，第三透镜位于第二透镜的焦点，第四透镜位于第三透镜的焦点，第五透镜位于第四透镜的焦点，第六透镜位于第五透镜的焦点，第七透镜位于第六透镜的焦点，第八透镜位于第七透镜的焦点。
24、本专利技术的有益效果在于：本专利技术通过采用共光路设计方案，大大降低了温度、振动扰动对曝光光路的影响，曝光设备可以实现对任意复杂波前的大面积复制，适用性更强，可适用于全息光栅和液晶光栅的曝光，且曝光光栅边缘接缝窄，有利于实现大面积显示器件的制备。
25、本专利技术的其他优点、目标和特征在某种程度上将在随后的说明书中进行阐述，并且在某种程度上，基于对下文的考察研究对本领域技术人员而言将是显而易见的，或者可以从本专利技术的实践中得到教导。本专利技术的目标和其他优点可以通过下面的说明书来实现和获得。
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1.偏振波前投影的大面积全息复制曝光系统，其特征在于：该系统包括硬件部分和软件部分；
2.根据权利要求1所述的偏振波前投影的大面积全息复制曝光系统，其特征在于：所述波前调制器为空间光调制器、掩膜版、微透镜或微透镜阵列。
3.根据权利要求1所述的偏振波前投影的大面积全息复制曝光系统，其特征在于：所述4F曝光镜头由分别放置于焦点的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜和第八透镜组成；
【技术特征摘要】
1.偏振波前投影的大面积全息复制曝光系统，其特征在于：该系统包括硬件部分和软件部分；
2.根据权利要求1所述的偏振波前投影的大面积全息复制曝光系统，其特征在于：所述波前调制器为空间光调制器、掩膜版、微透镜或...
【专利技术属性】
技术研发人员：谭滔，尹韶云，胡超，房启鹏，陈建军，
申请(专利权)人：中国科学院重庆绿色智能技术研究院，
类型：发明
国别省市：
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