【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光刻，涉及一种基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备。
技术介绍
1、显示技术是元宇宙技术中的核心关键技术，现阶段包括一系列浮雕光栅、全息光栅和液晶光栅以及复杂结构的微透镜阵列。光波导因其轻薄和外界光线的高穿透特性是显示技术中的核心器件，随着显示对效率和全可见光成像要求的不断增加，光波导结构由阵列光波导、几何光波导向着性能更优的全息光波导、衍射光波导方向发展，而高质量的光波导曝光设备是限制光波导制备的核心关键设备。
2、现阶段主要采用双光路干涉曝光方式制备全息和衍射光波导，尽管双光路曝光具有曝光周期可调的优势，但双光路易受环境温度、振动扰动，导致曝光质量差；同时这种方式仅仅只能曝光周期均匀结构，无法曝光复杂结构；且曝光存在的边缘衍射会引起拼接接缝宽和不均匀，导致大面积拼接质量差。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备。
2、为达到上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
3、基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备，包括外套筒；
4、所述外套筒内部依次布设有波前调制器、滑筒1、透镜1、透镜2、透镜3、透镜4、频谱调制器、透镜5、透镜6、透镜7、透镜8、滑筒2和曝光面；
5、所述透镜1～透镜8固定在外套筒内部；
6、所述滑筒1位于4f全息曝光设备最上面透镜1的焦点位置，能够上下同轴滑动和同平面选择；
7、所述滑筒2位于4f全息曝光设备最下面透镜8
8、所述频谱调制器用于实现对光束频谱的剪切、编译、滤波、相位调制和偏振态调制，包括滤除0级次光和将光束偏振态分别改变为左右旋圆偏光；
9、波前调制器生成指定相位和偏振态的光束，输入到曝光光路中。
10、进一步，所述滑筒2能拆除，曝光平面为任意具备左右上下调节的位移台上，以方便实现大面积曝光。
11、进一步，所述波前调制器包括掩膜版、微透镜、微透镜阵列和空间光调制器。
12、进一步，所述波前调制器设有波前调制器放置板，能够上下同轴滑动，来调整波前调制器位置位于焦点的位置，波前调制器放置板同平面旋转，来调整波前调制器的中心位置和方向。
13、进一步，所述曝光面设有曝光面放置板，曝光面放置板能够上下同轴滑动，来调整曝光面位于焦点的位置，曝光面放置板能够同平面旋转，来调整曝光面的角度。
14、进一步，所述曝光面设置在三维位移台上，实现大面积复制曝光。
15、进一步，所述透镜2位于透镜1的焦点，透镜3位于透镜2的焦点，透镜4位于透镜3的焦点，透镜5位于透镜4的焦点，透镜6位于透镜5的焦点，透镜7位于透镜6的焦点，透镜8位于透镜7的焦点。
16、本专利技术的有益效果在于：本专利技术通过采用共光路设计方案，大大降低了温度、振动扰动对曝光光路的影响，曝光设备可以实现对任意复杂波前的复制，适用性更强，可适用于全息光栅、液晶光栅以及微透镜阵列等微纳光子器件曝光，且曝光边缘接缝窄，有利于大面积拼接。
17、本专利技术的其他优点、目标和特征在某种程度上将在随后的说明书中进行阐述，并且在某种程度上，基于对下文的考察研究对本领域技术人员而言将是显而易见的，或者可以从本专利技术的实践中得到教导。本专利技术的目标和其他优点可以通过下面的说明书来实现和获得。
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1.基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备，其特征在于：包括外套筒；
2.根据权利要求1所述的基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备，其特征在于：所述滑筒2能拆除，曝光平面为任意具备左右上下调节的位移台上，以方便实现大面积曝光。
3.根据权利要求1所述的基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备，其特征在于：所述波前调制器包括掩膜版、微透镜、微透镜阵列和空间光调制器。
4.根据权利要求1所述的基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备，其特征在于：所述波前调制器设有波前调制器放置板，能够上下同轴滑动，来调整波前调制器位置位于焦点的位置，波前调制器放置板同平面旋转，来调整波前调制器的中心位置和方向。
5.根据权利要求1所述的基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备，其特征在于：所述曝光面设有曝光面放置板，曝光面放置板能够上下同轴滑动，来调整曝光面位于焦点的位置，曝光面放置板能够同平面旋转，来调整曝光面的角度。
6.根据权利要求5所述的基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备，其特征在于：所述曝光面设置在三维位移台上，实现大面积复制曝光。
7.根据
...【技术特征摘要】
1.基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备，其特征在于：包括外套筒；
2.根据权利要求1所述的基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备，其特征在于：所述滑筒2能拆除，曝光平面为任意具备左右上下调节的位移台上，以方便实现大面积曝光。
3.根据权利要求1所述的基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备，其特征在于：所述波前调制器包括掩膜版、微透镜、微透镜阵列和空间光调制器。
4.根据权利要求1所述的基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备，其特征在于：所述波前调制器设有波前调制器放置板，能够上下同轴滑动，来调整波前调制器位置位于焦点的位置，波前调制器放置板同平面旋转，来调整波前调制器的中心位置和方向。...
【专利技术属性】
技术研发人员：尹韶云，谭滔，胡超，房启鹏，陈建军，
申请(专利权)人：中国科学院重庆绿色智能技术研究院，
类型：发明
国别省市：
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