用于光学器件的边缘密封剂围限和光晕减轻制造技术

描述了使用围限结构和/或图案光栅减少或防止密封剂聚合物(例如胶水)芯吸到多层光学组装件的光学活性区中的技术。多层光学结构可包括压印了波导光栅图案的多个衬底层。可以使用封边胶，如树脂、环氧树脂、胶水等固定所述多个层。可沿各层的边缘压印围限结构，如边缘图案以控制和围限封边胶的毛细流动并防止封边胶芯吸到这些层的功能波导光栅图案中。此外，封边胶可用碳掺杂或以其它方式加黑以减少光从边缘反射回层内部，由此改进该组装件的光学功能。功能。功能。

【技术实现步骤摘要】
用于光学器件的边缘密封剂围限和光晕减轻
[0001]本申请是由分子印记公司2017年8月24日提交的国际申请号为PCT/US2017/048442的专利技术名称为“用于光学器件的边缘密封剂围限和光晕减轻”的国际申请的分案申请。该国际申请PCT/US2017/048442进入中国国家阶段的日期为2019年2月25日，国家申请号为201780051980.X。
[0002]对相关申请的交叉引用
[0003]本公开涉及并且要求2016年8月26日提交的名称为“Edge Sealant Confinement and Halo Reduction for Optical Devices”的美国临时专利申请序列号No.62/380,066的优先权，其全文经此引用并入本公开。

技术介绍

[0004]Molecular Imprints
TM
开发的Jet and Flash Imprint Technology(J
‑
FIL
TM
)提供了使用以纳米结构成型的模具在表面上图案化各种三维纳米结构的能力。使紫外线本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学结构，其包含：衬底，所述衬底包括形成衬底的光学功能区的第一光栅图案；和在衬底上且邻近衬底边缘的第二光栅图案，第二光栅图案包含围绕衬底整个周边形成的第一构件和围绕衬底整个周边形成的第二构件，其中第一构件和第二构件排列成通过将材料围限在第二光栅图案中而控制材料从衬底边缘毛细流动，从而抑制材料毛细流动进入到衬底的光学功能区。2.权利要求1的光学结构，其中：所述第一光栅图案在衬底的第一表面上；且所述第二光栅图案在衬底的第二表面上。3.权利要求1的光学结构，其中所述第一光栅图案和所述第二光栅图案在衬底的第一表面上。4.权利要求1的光学结构，其中所述衬底进一步包含形成衬底的第二光学功能区的第三光栅。5.权利要求1的光学结构，其中衬底的光学功能区包括正交光瞳扩展器(OPE)区和出瞳扩展器(EPE)区的一种或多种。6.权利要求1的光学结构，其中第二光栅图案包括排列成基本平行于衬底边缘的一个或多个构件。7.权利要求1的光学结构，其中第二光栅图案包括V形光栅图案、S形光栅图案和矩形光栅图案的一种或多种。8.权利要求1的光学结构，其中：第二光栅图案包括排列成基本垂直于衬底边缘的一个或多个第二构件；第二光栅图案包括一个或多个排列成基本平行于衬底边缘并阻止材料毛细流动到第二光栅图案外的第一构件；且所述一个或多个第二构件在深度、高度和宽度的至少一种上至少部分不同于所述一个或多个第一构件。9.权利要求1的光学结构，其中所述材料的折光指数低于所述衬底。10.权利要求1的光学结构，其中施加的材料具有根据与衬底边缘的距离变化的折光指数梯度。11.权利要求1的...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：分子印记公司，
类型：发明
国别省市：