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用于光学器件的边缘密封剂围限和光晕减轻制造技术
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下载用于光学器件的边缘密封剂围限和光晕减轻的技术资料
文档序号:33962308
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描述了使用围限结构和/或图案光栅减少或防止密封剂聚合物(例如胶水)芯吸到多层光学组装件的光学活性区中的技术。多层光学结构可包括压印了波导光栅图案的多个衬底层。可以使用封边胶,如树脂、环氧树脂、胶水等固定所述多个层。可沿各层的边缘压印围限结构...
该专利属于分子印记公司所有,仅供学习研究参考,未经过分子印记公司授权不得商用。
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