制造具有可变蚀刻深度的斜光栅的方法技术

提供制造具有拥有可变高度的沟槽的光栅的方法。在一个实例中，一种形成衍射光学元件的方法可包括：在衬底之上提供光学光栅层；在所述光学光栅层之上图案化硬掩模；以及在所述硬掩模之上形成牺牲层，所述牺牲层具有从所述光学光栅层的顶表面测量的非均匀高度。所述方法还可包括在所述光学光栅层中蚀刻成角度的多个沟槽以形成光学光栅，其中所述多个沟槽中的第一沟槽的第一深度不同于所述多个沟槽中的第二沟槽的第二深度。的第二沟槽的第二深度。的第二沟槽的第二深度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】制造具有可变蚀刻深度的斜光栅的方法


[0001]本专利技术的实施例大体涉及制造光学光栅的方法。更具体来说，本专利技术涉及制造具有拥有可变深度的沟槽的斜光学光栅的方法。

技术介绍

[0002]出于各种优势，一直以来使用例如光学透镜等光学元件来操纵光。近来，已在全息及增强/虚拟现实(augmented/virtual reality，AR及VR)装置中使用微衍射光栅。一种特定的AR及VR装置是一种穿戴式显示系统，例如被排列成在距离人眼的短距离内显示图像的头戴装置。此种穿戴式头戴装置有时被称为头戴式显示器，且设置有在距用户眼睛的若干厘米内显示图像的框架。所述图像可为在显示器(例如，微显示器)上由计算机产生的图像。对光学组件进行排列以将期望图像的光(其中所述光是在显示器上产生)输送至用户眼睛，使得所述图像对所述用户来说为可见。产生图像的显示器可形成光引擎的一部分，使得图像产生准直光束，所述光束由光学组件引导以提供对用户来说可见的图像。
[0003]已使用不同种类的光学组件来将图像自显示器传递到人眼。为在增强现实透镜或组合器中恰当地发挥作用，光学本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种形成衍射光学元件的方法，包括：在衬底之上提供光学光栅层；在所述光学光栅层之上图案化硬掩模；在所述硬掩模之上形成牺牲层，所述牺牲层具有从所述光学光栅层的顶表面测量的非均匀高度；以及在所述光学光栅层中蚀刻成角度的多个沟槽以形成光学光栅，其中所述多个沟槽中的第一沟槽的第一深度不同于所述多个沟槽中的第二沟槽的第二深度。2.根据权利要求1所述的方法，其中形成所述牺牲层包括：在所述硬掩模顶部沉积所述牺牲层；以及蚀刻所述牺牲层以形成具有斜坡底表面的沟槽。3.根据权利要求2所述的方法，还包括执行垂直蚀刻以形成所述沟槽。4.根据权利要求2所述的方法，还包括：蚀刻所述光学光栅层，以使所述沟槽凹陷到所述光学光栅层中；沿所述沟槽的所述斜坡底表面形成第二硬掩模；在所述硬掩模及所述第二硬掩模之上形成光学平坦化层及光致抗蚀剂；穿过所述光学平坦化层、所述光致抗蚀剂及所述第二硬掩模蚀刻多个垂直沟槽；以及移除所述光学平坦化层及所述光致抗蚀剂，其中在移除所述光学平坦化层及所述光致抗蚀剂之后，所述多个沟槽被蚀刻到所述光学光栅层中。5.根据权利要求1所述的方法，其中所述蚀刻包括相对于由所述光学光栅层的所述顶表面界定的平面的垂线以非零角度执行成角度离子蚀刻。6.根据权利要求5所述的方法，其中所述成角度离子蚀刻是由反应离子束执行，且其中所述衬底被相对于所述反应离子束沿扫描方向扫描。7.根据权利要求1所述的方法，还包括在所述衬底之上形成蚀刻终止层，其中所述光学光栅层形成在所述蚀刻终止层顶部。8.一种形成衍射光学元件的方法，包括：在衬底之上提供光学光栅层；在所述光学光栅层之上提供硬掩模，所述硬掩模包括一组开口；在所述硬掩模之上形成牺牲层；在所述牺牲层中形成凹陷，其中所述凹陷使所述牺牲层具有从所述光学光栅层的顶表面测量的非均匀高度；以及穿过所述光学光栅层蚀刻成角度的多个沟槽以形成光学光栅，其中成角度的所述多个沟槽中的第一沟槽的第一深度不同于所述多个沟槽中的第二沟槽的第二深度。9.根据权利要求8所述的方法，其中形成所述牺牲层包括：在所述硬掩模顶部沉积所述牺牲层；以及蚀刻所述牺牲层，以形成所述沟槽的斜坡底表面。10.根据权利要求9所述的方法，还包括：蚀刻所述光学光栅层，以使所述沟槽凹陷到所述光学光栅层中...

【专利技术属性】
技术研发人员：摩根，
申请(专利权)人：应用材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：