抛光头真空吸附结构及抛光头制造技术

本实用新型专利技术公开了一种抛光头真空吸附结构及抛光头，其中，该吸附结构包括主体，主体的吸附面上设置有环形吸附槽和多个直线吸附槽，每个直线吸附槽的一端均设置在环形吸附槽的中心，每个直线吸附槽的另一端与环形吸附槽相连，相邻两个直线吸附槽之间的夹角相等。本实用新型专利技术提供的抛光头真空吸附结构及抛光头，通过设置环形吸附槽和多个均匀分布的直线吸附槽，实现了使承载盘受力均衡，同时使抛光头与承载盘之间的吸附更为紧密，有效避免了抛光过程中承载盘的相对转动或滑动，保证了衬底在抛光过程中的受力稳定性，有效改善了衬底的平整度。

【技术实现步骤摘要】
抛光头真空吸附结构及抛光头
本技术涉及光伏组件制造
，尤其涉及一种抛光头真空吸附结构及抛光头。
技术介绍
砷化镓衬底在光伏组件制造领域被广泛应用。在加工砷化镓衬底时需经过抛光工序，以提升衬底的平整度。对单面抛光机而言，衬底的平整度通常由承载衬底的承载盘和大盘的平整度决定，在大盘加工精度一定的情况下，承载盘的平整度决定了衬底平整度的优劣。现有技术中，承载盘一般通过抛光头上的吸附点利用真空作用实现吸附固定，而为了防止承载盘被吸附后发生脱落，吸附点在抛光头上的分布通常较分散。在抛光时，承载盘上在靠近吸附点的位置处受到的吸附力较强，而远离吸附点的部位受到的吸附力相对较弱，而同时由于吸附点较分散，这导致了承载盘上各处的受力严重不均匀，长期以往，易导致承载盘逐渐变形，最终使得衬底加工后的平整度越来越差。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种可以使承载盘的受力均匀，提升承载盘平整度的抛光头真空吸附结构及抛光头，以解决上述现有技术中因吸附点较分散而导致承载盘上各处的受力不均匀。本技术提供了一种抛光头真空吸附结构，其中，包括：主体，所述主体的吸附面上设置有环形吸附槽和多个直线吸附槽，每个所述直线吸附槽的第一端均设置在所述环形吸附槽的中心，每个所述直线吸附槽的第二端均与所述环形吸附槽相连通，相邻两个直线吸附槽之间的夹角相等。如上所述的抛光头真空吸附结构，其中，优选的是，所述环形吸附槽包括具有相同中心的第一环形槽和第二环形槽，所述第一环形槽与所述直线吸附槽的第二端相连通；所述第二环形槽与所述直线吸附槽的1/2位置处相连通。如上所述的抛光头真空吸附结构，其中，优选的是，所述环形吸附槽还包括第三环形槽和第四环形槽，所述第三环形槽与所述直线吸附槽上以所述第一环形槽的几何中心为起点的1/4位置处相连通；所述第四环形槽与所述直线吸附槽上以所述第一环形槽的中心为起点的3/4位置处相连通。如上所述的抛光头真空吸附结构，其中，优选的是，所述直线吸附槽的数量为三个或六个。如上所述的抛光头真空吸附结构，其中，优选的是，所述直线吸附槽中均匀设置有多组支撑板，所述支撑板上设置有支撑面，所述支撑面与所述吸附面平齐。如上所述的抛光头真空吸附结构，其中，优选的是，所述支撑板上设置有开口。如上所述的抛光头真空吸附结构，其中，优选的是，还包括缓冲垫，所述缓冲垫设置在所述吸附面上。本技术还提供了一种抛光头，包括气路，其中，所述抛光头还包括本技术提供的抛光头真空吸附结构，所述气路与所述环形吸附槽和所述直线吸附槽连通。本技术提供的抛光头真空吸附结构及抛光头，通过设置环形吸附槽和多个均匀分布的直线吸附槽，实现了使承载盘受力均衡，同时使抛光头与承载盘之间的吸附更为紧密，有效避免了抛光过程中承载盘的相对转动或滑动，保证了衬底在抛光过程中的受力稳定性，有效改善了衬底的平整度。附图说明图1为本技术实施例提供的一种抛光头真空吸附结构的结构示意图；图2为本技术实施例提供的另一种抛光头真空吸附结构的结构示意图；图3为本技术实施例提供的又一种抛光头真空吸附结构的结构示意图；图4为直线吸附槽的剖视图；图5为图4中在A-A向的剖视图。附图标记说明：100-吸附面200-环形吸附槽210-第一环形槽220-第二环形槽230-第三环形槽240-第四环形槽300-直线吸附槽310-支撑板311-开口具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能解释为对本技术的限制。如图1所示，本技术实施例提供了一种抛光头真空吸附结构，其包括主体，主体的吸附面100上设置有环形吸附槽200和多个直线吸附槽300，每个直线吸附槽300的第一端均设置在环形吸附槽200的中心，每个直线吸附槽300的第二端均与环形吸附槽200相连通，相邻两个直线吸附槽300之间的夹角相等，由此形成一种均匀发散式的吸附结构，相对于现有技术中吸附点式的吸附结构，可以使承载盘受力均衡，同时可以使抛光头与承载盘之间的吸附更为紧密，有效避免了抛光过程中承载盘的相对转动或滑动，保证了衬底在抛光过程中的受力稳定性，有效改善了衬底的平整度。其中，直线吸附槽300的数量具体可以为三个或六个，在本实施例中，直线吸附槽300的数量优选为六个。其中，如果直线吸附槽300的数量为三个，那么相邻两个直线吸附槽300之间的夹角为120°，当吸附承载盘时，承载盘上在三个直线吸附槽300的部位受到的吸附力较大，而在相邻两个直线吸附槽300之间区域的承载盘受力较小，而由于在相邻两个直线吸附槽300之间的区域面积较大，由此容易导致承载盘上大面积区域在直线吸附槽300位置处发生弯折变形，进而导致衬底加工后的平整度变差。为此，在本实施例中，如图2所示，环形吸附槽200包括具有相同中心的第一环形槽210和第二环形槽220，第一环形槽210与直线吸附槽300的第二端相连通；第二环形槽220与直线吸附槽300的1/2位置处相连通。由此，可以通过设置第二环形槽220，使承载盘上位于各直线吸附槽300之间区域的部位获得吸附力，由此避免了承载盘大面积部分向直线吸附槽300处弯折变形，延长了承载盘的使用寿命，保证了对衬底加工的平整度。进一步，如图3所示，环形吸附槽200还包括第三环形槽230和第四环形槽240，第三环形槽230与直线吸附槽300上以第一环形槽210的几何中心为起点的1/4位置处相连通；第四环形槽240与直线吸附槽300上以第一环形槽210的中心为起点的3/4位置处相连通。由此，通过设置第三环形槽230和第四环形槽240，可以使抛光头与承载盘之间的吸附更为紧密，进一步避免了抛光过程中承载盘的相对转动或滑动，进而保证了衬底在抛光过程中的受力稳定性。进一步，如图4所示，为了实现对承载盘施加的吸附力和支撑力均衡，避免承载盘长期受吸附力而发生变形，在本实施例中，可以在直线吸附槽300中均匀设置多组支撑板310，支撑板310上设置有支撑面，该支撑面与吸附面100平齐。进一步，如图5所示，支撑板310上可以设置有开口311，由此可以使各支撑板310之间的吸附槽连通，从而实现各支撑板310之间的气流自动调节均衡，进而保证在吸附过程中的吸附力均衡。为了避免在抛光头和承载盘之间发生刚性接触而造成对承载盘的磨损，该抛光头真空吸附结构还可以包括缓冲垫，缓冲垫设置在吸附面100上。本技术实施例还提供了一种抛光头，包括气路，其中，抛光头还包括本技术任意实施例提供的抛光头真空吸附结构，气路与环形吸附槽200和直线吸附槽300连通，以提供吸附力。本技术实施例提供的抛光头真空吸附结构及抛光头，通过设置环形吸附槽和多个均匀分布的直线吸附槽，实现了使承载盘受力均衡，同时使抛光头与承载盘之间的吸附更为紧密，有效避免了抛光过程中承载盘的相对转动或滑动，保证了衬底在抛光过程中的受力稳定性，有效改善了衬底的平整度。以上依据图式所示的实施例详细说明了本技术的构造、特征及作用效果，以上所述仅为本技术的较佳实施例，但本技术不以图面所示限定实施范围，凡是依照本技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光头真空吸附结构，其特征在于，包括：主体，所述主体的吸附面上设置有环形吸附槽和多个直线吸附槽，每个所述直线吸附槽的第一端均设置在所述环形吸附槽的中心，每个所述直线吸附槽的第二端均与所述环形吸附槽相连通，相邻两个直线吸附槽之间的夹角相等。

【技术特征摘要】
1.一种抛光头真空吸附结构，其特征在于，包括：主体，所述主体的吸附面上设置有环形吸附槽和多个直线吸附槽，每个所述直线吸附槽的第一端均设置在所述环形吸附槽的中心，每个所述直线吸附槽的第二端均与所述环形吸附槽相连通，相邻两个直线吸附槽之间的夹角相等。2.根据权利要求1所述的抛光头真空吸附结构，其特征在于，所述环形吸附槽包括具有相同中心的第一环形槽和第二环形槽，所述第一环形槽与所述直线吸附槽的第二端相连通；所述第二环形槽与所述直线吸附槽的1/2位置处相连通。3.根据权利要求2所述的抛光头真空吸附结构，其特征在于，所述环形吸附槽还包括第三环形槽和第四环形槽，所述第三环形槽与所述直线吸附槽上以所述第一环形槽的几何中心为起点的1/4位置处相连通；所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘桂勇，宋士佳，李琳琳，
申请(专利权)人：东泰高科装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11