流体流动设备及其制造方法以及其应用技术

本发明专利技术的一种流体流动设备（１００）包括一个被一封闭片（２０）覆盖的叠层（３０），所述叠层（３０）包括一个支撑晶片（３６）、一绝缘材料层（３４）、以及一硅层（３２）。所述封闭片（２０）和／或所述硅层（３２）加工成在所述封闭片（２０）和所述硅层（３２）之间形成一个空腔（３８）。所述支撑晶片（３６）中至少有一个管道（１０２）完全贯通该层，所述绝缘材料层（３４）至少具有一个完全没有材料的区域（３５），该区域至少与所述管道（１０２）在一条直线上从而与所述空腔（３８）配合并在所述硅层（３２）内形成一个移动部件（４０），该移动部件适于在所述空腔（３８）的液体压力下反向移向所述支撑晶片（３６），直至所述移动部件（４０）和所述支撑片（３６）接触为止。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种流体流动设备（１００，４００，５００），其包括一个被一封闭片（２０）覆盖的叠层（３０），所述叠层（３０）包括一个支撑晶片（３６）、一覆盖所述至少一部分支撑晶片（３６）的绝缘材料层（３４）、以及覆盖所述绝缘材料层（３４）并被所述封闭片（２０）所覆盖的单晶硅或多晶硅层（３２），所述封闭片（２０）和／或所述硅层（３２）加工成在所述封闭片（２０）和所述硅层（３２）之间形成一个空腔（３８）以便注入液体，所述支撑晶片（３６）中至少有一个完全贯通支撑晶片的管道（１０２，４１２， ４１２’），以及所述绝缘材料层（３４）由氧化硅材料制成并至少具有一个完全没有材料的区域（３５），该区域至少与所述...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：HT范林特尔，D马耶费，S甘佩，
申请(专利权)人：生物技术公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]