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本发明的一种流体流动设备（１００）包括一个被一封闭片（２０）覆盖的叠层（３０），所述叠层（３０）包括一个支撑晶片（３６）、一绝缘材料层（３４）、以及一硅层（３２）。所述封闭片（２０）和／或所述硅层（３２）加工成在所述封闭片（２０）和所述硅层...
该专利属于生物技术公司所有，仅供学习研究参考，未经过生物技术公司授权不得商用。

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