一种连接器内导体补偿结构制造技术

技术编号:21497000 阅读:34 留言:0更新日期:2019-06-29 12:49
本实用新型专利技术公开了一种连接器内导体补偿结构,包括内导体,所述内导体上设有倒刺,所述内导体外部还包裹有绝缘介质,所述绝缘介质设有灌封层,所述内导体上设置有一段中间槽,所述中间槽和绝缘介质形成有一段空气腔室;所述灌封层设置于所述绝缘介质中间,所述倒刺部位形成有一段低阻抗段,所述中间槽部位形成有一段高阻抗段;所述内导体通过旋转压配至所述绝缘介质内部,所述中间槽的深度为5mm;所述低阻抗段的宽度为所述绝缘介质的宽度,所述所述低阻抗段的长度为所述倒刺的长度,所述高阻抗段的宽度为所述绝缘介质的宽度,所述高阻抗段的长度为所述中间槽的长度。

【技术实现步骤摘要】
一种连接器内导体补偿结构
本技术涉及通信设备领域,具体涉及一种连接器内导体补偿结构。
技术介绍
转接器在对插使用时,内导体主要起微波传输的作用,因此需要有较好接触可靠性和稳定性,目前常用的结构是采用倒刺压配与环氧树脂灌封两种结构,而倒刺压配结构由于其装配方式简单,射频泄漏较小的优点深受大家喜欢。现有技术的主要缺点如下:内导体上的倒刺体现了其直径尺寸的不一致,导致了阻抗的不连续,呈现出电感性阻抗变低,微波传输时在此处会产生反射,使用在高于6GHz的频段时性能会比较差。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种连接器内导体补偿结构,以克服上述
技术介绍
中现有内导体上的倒刺体现了其直径尺寸的不一致,导致了阻抗的不连续,呈现出电感性阻抗变低,微波传输时在此处会产生反射,使用在高于6GHz的频段时性能会比较差的问题。为实现上述目的,本技术采用如下技术方案:一种连接器内导体补偿结构,包括内导体,所述内导体上设有倒刺,所述内导体外部还包裹有绝缘介质,所述绝缘介质设有灌封层,所述内导体上设置有一段中间槽,所述中间槽和绝缘介质形成有一段空气腔室。所述灌封层设置于所述绝缘介质中间,所述倒刺部位形成有一段低阻抗段,所述中间槽部位形成有一段高阻抗段。所述内导体通过旋转压配至所述绝缘介质内部,所述中间槽的深度为5mm。所述低阻抗段的宽度为所述绝缘介质的宽度,所述所述低阻抗段的长度为所述倒刺的长度,所述高阻抗段的宽度为所述绝缘介质的宽度,所述高阻抗段的长度为所述中间槽的长度。本技术的有益效果是:通过给倒刺后部增加一个中间槽,形成高阻抗,与倒刺处低阻抗形成补偿,电性能大大提高,最高可达12.4GHz。附图说明图1是本技术第一实施例的结构示意图。图2是本技术第二实施例的结构示意图。图3是本技术第三实施例的结构示意图。1-内导体,2-倒刺,3-绝缘介质,4-灌封层,5-中间槽,6-空气腔室,7-低阻抗段,8-高阻抗段。具体实施方式下面结合附图,对本技术作详细说明,但本技术的保护范围不限于下述实施例,即但凡以本技术申请专利范围及说明书内容所作的简单的等效变化与修饰,皆仍属本技术专利涵盖范围之内。图1是本技术第一实施例的结构示意图。图2是本技术第二实施例的结构示意图。图3是本技术第三实施例的结构示意图。如图1、图2和图3所示,一种连接器内导体补偿结构,包括内导体1,所述内导体1上设有倒刺2,所述内导体1外部还包裹有绝缘介质3,所述绝缘介质3设有灌封层4,所述内导体1上设置有一段中间槽5,所述中间槽5和绝缘介质3形成有一段空气腔室6。其中,所述灌封层4设置于所述绝缘介质3中间,所述倒刺2部位形成有一段低阻抗段7,所述中间槽5部位形成有一段高阻抗段8。内导体1通过旋转压配至所述绝缘介质3内部,所述中间槽5的深度为5mm。低阻抗段7的宽度为所述绝缘介质3的宽度,所述所述低阻抗段7的长度为所述倒刺2的长度,所述高阻抗段8的宽度为所述绝缘介质3的宽度,所述高阻抗段8的长度为所述中间槽5的长度。图3第三实施例中,在内导体上有锥形倒刺的后面增加一个槽,此槽宽度一般为内导体直径的0.5倍,其直径为内导体直径的0.8倍,内导体装配后这个槽与绝缘介质之间会形成一截空气段,这样一段空气呈电容性阻抗变高,与前面的低阻抗倒刺即形成电性能的补偿。本方案给倒刺后部增加一个中间槽,可形成高阻抗,与倒刺处低阻抗形成补偿,电性能大大提高,可达12.4GHz。上述仅为本技术的较佳实施例。本领域技术人员会理解,本技术不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本技术的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本技术进行了较为详细的说明,但是本技术不仅仅限于以上实施例,在不脱离本技术构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本技术的范围由所附的权利要求范围决定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种连接器内导体补偿结构,其特征在于:包括内导体(1),所述内导体(1)上设有倒刺(2),所述内导体(1)外部还包裹有绝缘介质(3),所述绝缘介质(3)设有灌封层(4),所述内导体(1)上设置有一段中间槽(5),所述中间槽(5)和绝缘介质(3)形成有一段空气腔室(6)。

【技术特征摘要】
1.一种连接器内导体补偿结构,其特征在于:包括内导体(1),所述内导体(1)上设有倒刺(2),所述内导体(1)外部还包裹有绝缘介质(3),所述绝缘介质(3)设有灌封层(4),所述内导体(1)上设置有一段中间槽(5),所述中间槽(5)和绝缘介质(3)形成有一段空气腔室(6)。2.根据权利要求1所述连接器内导体补偿结构,其特征在于:所述灌封层(4)设置于所述绝缘介质(3)中间,所述倒刺(2)部位形成有一段低阻抗段(7),所述中间槽(...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵亮
申请(专利权)人:苏州泰莱微波技术有限公司
类型:新型
国别省市:江苏,32

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