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一种连接器内导体补偿结构制造技术
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文档序号:21497000
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本实用新型公开了一种连接器内导体补偿结构,包括内导体,所述内导体上设有倒刺,所述内导体外部还包裹有绝缘介质,所述绝缘介质设有灌封层,所述内导体上设置有一段中间槽,所述中间槽和绝缘介质形成有一段空气腔室;所述灌封层设置于所述绝缘介质中间,所述...
该专利属于苏州泰莱微波技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州泰莱微波技术有限公司授权不得商用。
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