【技术实现步骤摘要】
一种镀膜机真空室
本技术涉及一种镀膜机，特别涉及一种镀膜机真空室。
技术介绍
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜，对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。在现有的镀膜机的技术条件基础上，在使用的范围性以及便捷性上依然存在很多不足，大部分镀膜机在使用的过程中内部结构较为简单，缺乏自我监测功能，且内部清洁以及温度控制多为不便，影响设备工艺质量，十分不便。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种镀膜机真空室，该设备通过设置的监控组件可分别对内部进行实时监测，通过内部具有除尘结构，可提升设备镀膜工艺质...
【技术保护点】
1.一种镀膜机真空室，包括镀膜机主体(1)，其特征在于，所述镀膜机主体(1)的两侧均设置有扩散泵接口(3)，所述镀膜机主体(1)的顶端设置有增压泵端口(4)，所述镀膜机主体(1)的内侧中央设置有冷却辊(8)，所述冷却辊(8)的顶端两侧分别设置有收卷辊(9)和放卷辊(10)，所述收卷辊(9)和放卷辊(10)的底端均连接有导向辊(11)、张力辊(12)和压力辊(14)，所述张力辊(12)的底端设置有张力检测器(13)，所述张力检测器(13)的一侧设置有监测探头(16)，所述收卷辊(9)的底端设置有离子清洁器(17)。
【技术特征摘要】
1.一种镀膜机真空室，包括镀膜机主体(1)，其特征在于，所述镀膜机主体(1)的两侧均设置有扩散泵接口(3)，所述镀膜机主体(1)的顶端设置有增压泵端口(4)，所述镀膜机主体(1)的内侧中央设置有冷却辊(8)，所述冷却辊(8)的顶端两侧分别设置有收卷辊(9)和放卷辊(10)，所述收卷辊(9)和放卷辊(10)的底端均连接有导向辊(11)、张力辊(12)和压力辊(14)，所述张力辊(12)的底端设置有张力检测器(13)，所述张力检测器(13)的一侧设置有监测探头...
【专利技术属性】
技术研发人员：熊景峰，
申请(专利权)人：上海祺登电子有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31
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