一种阵列基板及其制作方法、掩膜版、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种阵列基板及其制作方法、掩膜版、显示装置，涉及显示技术领域，能够解决因像素支撑柱对大角度光线的反射而导致的显示Mura的问题；该阵列基板包括设置于基板上的像素支撑层，像素支撑层包括像素支撑柱；像素支撑柱的上表面设置有多个凸起。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制作方法、掩膜版、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、掩膜版、显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，简称OLED)显示器因其具有自发光、轻薄、功耗低、高对比度、高色域、可实现柔性显示等优点，备受市场的关注。OLED显示器的面板中，一般在相邻的亚像素之间设置有由像素支撑柱(PixelSupport，PS)组成的像素支撑层，然而由于亚像素中的有机发光二极管发出的大角度光线入射至像素支撑柱后会发生反射而不能正常出射，从而导致在像素支撑柱的位置出现暗区域，从显示面板的可视大范围来看，就会出现特殊的显示云纹(Mura)，造成显示画面的品质降低。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种阵列基板及其制作方法、掩膜版、显示装置，能够解决因像素支撑柱对大角度光线的反射而导致的显示Mura的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例提供一种阵列基板，包括设置于基板上的像素支撑层，所述像素支撑层包括像素支撑柱；所述像素支撑柱的上表面设置有多个凸起。在一些实施例中，所述凸起为圆形凸起和/或椭圆凸起。在一些实施例中，所述凸起均匀分散排列。在一些实施例中，所述像素支撑柱的上表面设置的多个所述凸起中：位于相邻两行的凸起错位排列。在一些实施例中，位于相邻两行的凸起中，其中一行的凸起与另一行的凸起之间的间隔正对设置。在一些实施例中，所述凸起的高度为1.0μm～2.0μm。在一些实施例中，所述像素支撑柱的上表面设置有5～10个所述凸起。本专利技术实施例还提供一种显示装置，包括前述的阵列基板。本专利技术实施例还提供一种掩膜版，包括像素支撑图案区以及位于相邻的像素支撑图案区之间的间隔区；所述掩膜版在所述间隔区为全透过区；所述掩膜版在所述像素支撑图案区包括多个不透过区以及位于所述不透过区之间的半透过区。本专利技术实施例还提供一种阵列基板的制作方法，包括：在基板上形成有机薄膜；采用曝光工艺透过如前述的掩膜版对所述有机薄膜进行曝光处理；对所述曝光处理后的基板进行显影处理，以形成包括像素支撑柱的像素支撑层；其中，所述像素支撑柱的上表面具有多个凸起。本专利技术实施例提供一种阵列基板及其制作方法、掩膜版、显示装置，该阵列基板包括设置于基板上的像素支撑层，像素支撑层包括像素支撑柱；像素支撑柱的上表面设置有多个凸起；综上所述，相比于相关技术中在像素支撑柱的位置形成暗域而言，本专利技术中在像素支撑柱的上表面设置有多个凸起，像素支撑柱的上表面形成凹凸面，也即像素支撑柱作为厚度非均匀的单层介质薄膜，使得发光单元中大角度的全波段光线入射至像素支撑柱内时，以低反射率反射，高透射率出射，也即该阵列基板在应用至显示装置进行显示时，在像素支撑柱的位置处有光线出射，从而降低了显示画面在像素支撑柱位置处的亮度差异，进而提升了画质均一性，并且有利于面板的大尺寸化。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的平面结构示意图；图2为图1沿O-O’位置的剖面示意图；图3为本专利技术实施例提供的单个亚像素中的放大结构示意图；图4为本专利技术实施例提供一种阵列基板的局部结构示意图；图5为相关技术中提供的一种阵列基板的局部结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的一种像素支撑柱的平面示意图；图7为本专利技术实施例提供的一种像素支撑柱的平面示意图；图8为本专利技术实施例提供的一种像素支撑柱的平面示意图；图9为本专利技术实施例提供的一种像素支撑柱的结构示意图；图10为本专利技术实施例提供的一种掩膜版的结构示意图；图11为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作流程图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。除非另外定义，本专利技术实施例中使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本专利技术实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。本专利技术一些实施例提供一种显示装置，该显示装置可以为电视、手机、电脑、笔记本电脑、平板电脑、个人数字助理(personaldigitalassistant，PDA)、车载电脑等。该显示装置包括框架、设置于框架内的显示面板、电路板以及其他电子配件等。上述显示面板可以为：有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示面板；量子点发光二极管(QuantumDotLightEmittingDiodes，简称QLED)显示面板等，本专利技术对此不做具体限定。以下实施例均是以OLED显示面板为例进行说的。上述OLED显示面板包括阵列基板；在一些实施例中，该显示面板还包括与阵列基板对合的封装盖板；在一些实施例中，显示面板采用薄膜封装，此时阵列基板也可以视为显示面板。如图1所示，上述阵列基板01包括：显示区(activearea，AA；简称AA区；也可称为有效显示区)和围绕AA区一圈设置的周边区；并且，该阵列基板01在AA区中包括多种颜色的子像素(subpixel)P以及位于相邻子像素P之间的像素支撑柱PS。上述多种颜色的子像素至少包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素，第一颜色、第二颜色和第三颜色为三基色(例如红色、绿色和蓝色)。如图2(图1沿O-O’位置的剖面图)所示，上述阵列基板01包括设置于基板100上、位于每一亚像素P中的发光单元200(即，OLED)。其中，发光单元200位于像素定义层(PixelDefineLayer，PDL)的开口区(也即发光区)内；前述的像素支撑柱PS设置于像素定义层PDL上(即像素定义层PDL背离基板100的一侧)，对应相邻的开口区之间的位置(也即非发光区)。该阵列基板01在每一亚像素P内还设置有像素电路C；该像素电路C可以位于基板100和发光单元200(OLED)之间。如图3(图2中亚像素的内部结构放大图)所示，上述OLED包括阴极和阳极，以及位于阴极和阳极之间的发光功能层。其中，发光功能层可以包括有机发光层EML、位于有机发光层EML和阳极之间的空穴传输层HTL、位于有机发光层EML和阴极之间的电子传输层ETL。当然，根据需要,在一些实施例中，还可以在空穴传输层HTL和阳极之间设置空穴注本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括设置于基板上的像素支撑层，其特征在于，所述像素支撑层包括像素支撑柱；所述像素支撑柱的上表面设置有多个凸起。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括设置于基板上的像素支撑层，其特征在于，所述像素支撑层包括像素支撑柱；所述像素支撑柱的上表面设置有多个凸起。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起为圆形凸起和/或椭圆凸起。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起均匀分散排列。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素支撑柱的上表面设置的多个所述凸起中：位于相邻两行的凸起错位排列。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，位于相邻两行的凸起中，其中一行的凸起与另一行的凸起之间的间隔正对设置。6.根据权利要求1-5任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起的高度为1.0μm～2.0μm。7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋卓林，江大平，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11