The invention relates to the technical field of electrolytic copper foil production equipment, in particular to a dynamic cleaning device for sealing rings used in copper foil electrolysis production, including a guide wheel assembly, a cleaning device and a workbench with multiple guiding sealing rings. The end of the workbench is provided with a cleaning water tank, and the two sides of the workbench are provided with a cleaning water tank for the purpose of cleaning the sealing rings. The sealing ring is pressed and attached to the pressing device on the cathode roll, and the driving components for driving the rotation of the pressing device are arranged on both sides of the worktable, the guiding wheel components are arranged on the side of the pressing device, the leading wheel is arranged on the upper side of the cleaning water tank, and the exporting wheel is arranged on the other side of the cleaning water tank. The cleaning component and the horizontal moving component are arranged on the side wall of the cleaning water tank, and the output terminal of the horizontal moving component is vertically provided with an installation rod. The cleaning component is installed on the installation rod, and the output terminal of the cleaning component extends to the cleaning box. The device can efficiently clean the sealing ring.
【技术实现步骤摘要】
一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置
本专利技术涉及电解铜箔生产设备
,具体地,涉及一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置。
技术介绍
铜箔是覆铜板及印制电路板制造的重要材料。在当今电子信息产业高速发展进程中,电解铜箔被称为电子信号与电力传输的“神经网络”。铜箔具有低表面氧气特性,可以附着与各种不同基材,如金属,绝缘材料等,拥有较宽的温度使用范围。主要应用于电磁屏蔽及抗静电,将导电铜箔置于衬底面,结合金属基材,具有优良的导通性,并提供电磁屏蔽的效果。可分为:自粘铜箔、双导铜箔、单导铜箔等。电子级铜箔(纯度99.7%以上,厚度5um-105um)是电子工业的基础材料之一电子信息产业快速发展,电子级铜箔的使用量越来越大,产品广泛应用于工业用计算器、通讯设备、QA设备、锂离铜箔子蓄电池,民用电视机、录像机、CD播放机、复印机、电话、冷暖空调、汽车用电子部件、游戏机等。国内外市场对电子级铜箔,尤其是高性能电子级铜箔的需求日益增加。有关专业机构预测,到2015年,中国电子级铜箔国内需求量将达到30万吨,中国将成为世界印刷电路板和铜箔基地的最大制造地,电子级铜箔尤其是高性能箔市场看好。电解铜箔是由生箔机生产出来的,电解铜箔生箔机主要包括阳极槽、阴极辊、收卷辊和两侧的闭合循环密封装置,闭合循环密封装置主要包括密封圈和导向轮,因为所述密封圈的断面为O型,所以所述密封圈通常也称为O型圈。电解铜箔生箔机的工作原理为:在生箔机工作时,由阳极槽、阴极辊和两侧的闭合循环密封装置围成一电解区域,硫酸铜溶液从阳极槽底部泵入到上述的电解区域,再进行电解,电解区域中的铜离子逐渐 ...
【技术保护点】
1.一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置,其特征在于:包括有多个引导密封圈的引导轮组件、清洁装置和安装有阴极辊的工作台(1),所述工作台(1)的端均设置有清洁水箱(2),工作台(1)两侧均设置有用于将密封圈按压贴合在阴极辊上的按压装置(3),所述工作台(1)的两侧还设置有驱动按压装置(3)转动的驱动组件(4),引导轮组件设置在按压装置(3)的侧部,清洁水箱(2)的上方的一侧设置有导入轮(5),清洁水箱(2)的另一侧设置有导出轮(6),清洁水箱(2)内还设置有多个按压轮(7),清洁装置包括有清洁组件(8)和水平移动组件(9),所述水平移动组件(9)设置在清洁水箱(2)的侧壁上,水平移动组件(9)的输出端上竖直设置有安装杆(10),所述清洁组件(8)安装在安装杆(10)上,并且清洁组件(8)的输出端延伸至清洁箱内。
【技术特征摘要】
1.一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置,其特征在于:包括有多个引导密封圈的引导轮组件、清洁装置和安装有阴极辊的工作台(1),所述工作台(1)的端均设置有清洁水箱(2),工作台(1)两侧均设置有用于将密封圈按压贴合在阴极辊上的按压装置(3),所述工作台(1)的两侧还设置有驱动按压装置(3)转动的驱动组件(4),引导轮组件设置在按压装置(3)的侧部,清洁水箱(2)的上方的一侧设置有导入轮(5),清洁水箱(2)的另一侧设置有导出轮(6),清洁水箱(2)内还设置有多个按压轮(7),清洁装置包括有清洁组件(8)和水平移动组件(9),所述水平移动组件(9)设置在清洁水箱(2)的侧壁上,水平移动组件(9)的输出端上竖直设置有安装杆(10),所述清洁组件(8)安装在安装杆(10)上,并且清洁组件(8)的输出端延伸至清洁箱内。2.根据权利要求1所述的一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置,其特征在于:所述按压装置(3)包括有第一转轴(11)、按压杆(12)、按压滚轮和多个设置在工作台(1)上的第一安装座(13),第一转轴(11)水平轴接在第一安装座(13)上,并且第一转轴(11)的延伸方向与阴极辊的轴线的延伸方向平行,所述第一转轴(11)的两端均设置有伸缩机构,所述按压杆(12)与对应的伸缩机构的输出端固定连接,按压滚轮轴接在按压杆(12)的端部。3.根据权利要求2所述的一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置,其特征在于:所述伸缩机构包括有第一固定杆(14)、第一滑竿(15)、第一安装板(16)、第一电机(17)和第一齿轮(18),所述第一固定杆(14)水平设置在第一转轴(11)的端部,第一滑竿(15)滑动连接在第一固定杆(14)的侧部,第一安装板(16)设置在第一固定杆(14)上,第一电机(17)安装在第一安装板(16)上,第一齿轮(18)与第一电机(17)的输出端固定连接,第一滑竿(15)的侧部还设置有第一齿条,所述第一齿轮(18)与第一齿轮(18)啮合连接,所述按压杆(12)固定连接在第一滑竿(15)的端部。4.根据权利要求3所述的一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置,其特征在于:所述驱动组件(4)包括有螺纹杆(19)、第二电机(20)和对称设置在工作台(1)上的第二安装座(21),所述螺纹杆(19)轴接在第二安装座(21)上,并且螺纹杆(19)的轴线与第一转轴(11)的轴线垂直设置,第二电机(20)固定设置在工作台(1)上,并且螺纹杆(19)的一端与第二电机(20)的输出端固定连接,第一转轴(11)上还固定安装有第二齿轮(22),所述第二齿轮(22)与螺纹杆(19)啮合连接。5.根据权利要求4所述的一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置,其特征在于:所述引导轮组件包括有第一引导轮(25)机构和第二引导轮(26)机构,所述第一引导轮(25)机构包括有第三安装座(23)、第二转轴(24)和第一引导轮(25),第三安装座(23)设置在工作台(1)上,第二转轴(24)水平轴接在第三安装座(23)上,第一引导轮(25)固定设置在第二转轴(24)上,第二引导轮(26)机构包括有第二引导轮(26)和竖直轴接在工作台(1...
【专利技术属性】
技术研发人员:张剑萌,熊以俊,薛国元,陆峰,付赞辉,崔建华,
申请(专利权)人:赣州逸豪新材料股份有限公司,
类型:发明
国别省市:江西,36
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