一种双光子聚合有机硅光刻胶组合物及其固化方法技术

本发明专利技术提供了一种双光子聚合有机硅光刻胶组合物，由以下原料制备得到：100重量份的有机‑无机杂化光敏有机硅树脂；0.05～5重量份的光引发剂；0～15重量份的稀释剂。本申请还提供了一种双光子聚合有机硅光刻胶组合物的固化方法。本发明专利技术提供的光刻胶组合物为有机‑无机杂化结构，具有的Si‑O‑Si链节无机结构赋予了优异的机械和高温稳定性；丙烯酸酯基团的引入可赋予材料光固化性能，烷氧基团可赋予材料对不同基材的良好粘接性，而通过芳香基团的引入可得到高折光率光刻胶组合物。本发明专利技术提供的光刻胶组合物可采用近红外飞秒激光作为激发光源引发双光子聚合，可广泛用于微透镜、光子晶体及超材料等微纳光子器件的制作。

【技术实现步骤摘要】
一种双光子聚合有机硅光刻胶组合物及其固化方法
本专利技术涉及光刻胶
，尤其涉及一种双光子聚合有机硅光刻胶组合物及其固化方法。
技术介绍
随着纳米光电子学及生物医学组织工程领域的发展，器件的小型化、结构多样化及高度集成化，给微纳器件制造领域带来了新的挑战。飞秒激光可以与包括玻璃、陶瓷、半导体、金属、塑料、树脂等各类物质发生相互作用，其相互作用原理不同，加工方法也不同。利用非线性光学效应-双光子吸收的飞秒微纳加工技术是最独特，也是最具有应用前景的微纳加工技术。利用显微物镜将飞秒激光聚焦到加工介质时激光光强在焦点处呈三维空间分布，双光子吸收过程仅产生在具有足够激光强度的微小区域，通过控制激光光强可以调节双光子吸收的产生范围，在适当的激光强度时，可以突破光学衍射极限的限制，将双光子吸收过程控制到远小于激光波长甚至纳米尺度范围，从而达到进行纳米加工的目的。飞秒激光双光子微纳加工技术具有真三维、一次成型及高加工分辨率的特点，是三维微纳结构制备的理想工具之一。通过“理论计算-计算机辅助图形设计-微纳激光制造”这样一个简单的流程可以实现制备可设计的复杂三维微细结构，因此在光子学微器件、微机电系本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双光子聚合有机硅光刻胶组合物，由以下原料制备得到：有机‑无机杂化光敏有机硅树脂            100重量份；光引发剂                               0.05～5重量份；稀释剂                                 0～15重量份；所述有机‑无机杂化光敏有机硅树脂的结构如式(Ⅰ)所示；

【技术特征摘要】
1.一种双光子聚合有机硅光刻胶组合物，由以下原料制备得到：有机-无机杂化光敏有机硅树脂100重量份；光引发剂0.05～5重量份；稀释剂0～15重量份；所述有机-无机杂化光敏有机硅树脂的结构如式(Ⅰ)所示；其中，R1为如式(Ⅱ)、式(Ⅲ)或式(Ⅳ)的取代基；R2为苯基或萘基；m为2～25；n为0或1；2.根据权利要求1所述的双光子聚合有机硅光刻胶组合物，其特征在于，所述m为5～15。3.根据权利要求1所述的双光子聚合有机硅光刻胶组合物，其特征在于，所述引发剂选自IRGACURE369、IRGACURE819、IRGACUREOXE01、Darocure4265、4,4'-双(二甲氨基)二苯甲酮、ITX、H-NU470和DIDMA中的一种或多种。4.根据权利要求1所述的双光子聚合有机硅光刻胶组合物，其特征在于，所述稀释剂选自醋酸丙酯、丙二醇甲醚乙酸酯、异丙醇和4-甲基-2-戊酮中的一种或两种。5.根据权利要求1所述的双光子聚合有机硅光刻胶组合物，其特征在于，所述有机-无机杂化光敏有机硅树脂的制备方法具体为：将如式(Ⅴ)所示...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐强，史强，
申请(专利权)人：史强，
类型：发明
国别省市：山东,37