一种调控粗化速率的增原子扩散模型制造技术

本发明专利技术涉及薄膜技术领域，具体涉及一种调控粗化速率的增原子扩散模型，本发明专利技术将增原子扩散理论指导实践，简化了复杂的扩散只考虑影响表面粗化速率的上坡和下坡扩散，建立了一个“增原子扩散”模型，定量地揭示了微观增原子扩散与宏观表面粗化之间的关系，提出的控制粗化速率的增原子扩散模型不仅能够指导实验原位的制备出各种表面粗糙度的薄膜，而且还够预测出薄膜表面粗糙度的变化程度，广泛适用于各种沉积制备方法。

【技术实现步骤摘要】
一种调控粗化速率的增原子扩散模型
本专利技术涉及薄膜
，具体涉及一种调控粗化速率的增原子扩散模型。
技术介绍
近年来，越来越多具有特殊表面的薄膜材料被应用在电化学、储能、催化等热门领域。在这些应用中吗，为了获得相应的表面特性，薄膜表面粗糙度起着至关重要的作用。例如为了获得快亲水-疏油转变性能，共聚物-含氟表面活性剂复合膜的粗糙度需要达到10nm以下；为了提高微机电系统中小型移动机械部件的耐用性和可靠性，滑动销上镀制的耐久保护膜的粗糙度至少需要达到1nm以下；为了提高热传导效率增加太阳能收集率，吸收面涂层的粗糙度需要达到至少30nm以上。在传统的原位制备方法中人们经常会观察到表面粗化现象，即粗糙度随膜厚增加而增加的现象，其中随着膜厚的增加表面粗糙度增长的速度即为粗化速率。然而，从原子尺度上定量地理解薄膜生长和裁剪表面形貌仍处于起步阶段。尽管人们普遍认为薄膜沉积过程中的表面粗化与增原子扩散行为密切相关，但由于缺少一个“桥梁”，微观原子扩散与宏观表面演变的依赖关系一直没有被很好地理解，有效控制薄膜表面形貌的方法一直没有被提出。因此，从微观原理出发，专利技术一种调控粗化速率的增原子扩散本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种调控粗化速率的增原子扩散模型，其特征在于，包括以下步骤：(1)通过台阶仪测量膜厚为d，通过原子力显微镜测量均方根粗糙度为RMS；(2)通过计算RMS‑d的直线的斜率，斜率为粗化速率νR；(3)将步骤(1)中的RMS和d导入导入Gwyddion软件中，通过Gwyddion软件模拟表面形貌；(4)通过Gwyddion软件模拟上可知薄膜表面的突出尺寸数据h和s,，h为凸起在垂直方向的尺寸，s为凸起在水平方向的尺寸；(5)选取薄膜进行沉积，随着增原子的不断沉积，当薄膜厚度增加到d0+Δd时，凸起在垂直方向的尺寸为h0+Δh，在水平方向的尺寸为s0+Δs，均方根粗糙度为RMS0+ΔRMS，通过G...

【技术特征摘要】
1.一种调控粗化速率的增原子扩散模型，其特征在于，包括以下步骤：(1)通过台阶仪测量膜厚为d，通过原子力显微镜测量均方根粗糙度为RMS；(2)通过计算RMS-d的直线的斜率，斜率为粗化速率νR；(3)将步骤(1)中的RMS和d导入导入Gwyddion软件中，通过Gwyddion软件模拟表面形貌；(4)通过Gwyddion软件模拟上可知薄膜表面的突出尺寸数据h和s,，h为凸起在垂直方向的尺寸，s为凸起在水平方向的尺寸；(5)选取薄膜进行沉积，随着增原子的不断沉积，当薄膜厚度增加到d0+Δd时，凸起...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡超权，毕超斌，文懋，郑伟涛，
申请(专利权)人：吉林大学，
类型：发明
国别省市：吉林,22