The invention relates to a holding device for holding a substrate, such as a circuit board, a metal plate, a film, etc. The holding device includes an adsorption surface, in which the adsorption surface has multiple adsorption nozzles and the adsorption nozzle can load a negative pressure relative to the ambient pressure by means of a negative pressure providing device to provide a holding force for one or more substrates, in which the negative pressure providing device provides a holding force for one or more substrates. Negative pressure makes the ratio of the cumulative pressure drop of all adsorption nozzles and the cumulative pressure drop of all adsorption nozzles and nozzles to the input pipeline of the negative pressure supply device more than 0.25%, especially more than 1%, and the optimum selection is more than 25%, especially more than 35%, and the optimum selection is more than 40%.
【技术实现步骤摘要】
用于保持电路板等的保持设备
本专利技术涉及一种用于保持基底,如电路板、金属板、薄膜等的保持设备,所述保持设备包括吸附面,其中吸附面具有多个吸附喷嘴并且其中吸附喷嘴能够借助于负压提供装置加载有相对于环境压力的负压,以提供用于一个或多个基底的保持力。本专利技术同样涉及一种用于保持基底,如电路板、金属板、薄膜等的方法,其中一个或多个基底借助于吸附面保持,其中吸附面具有多个吸附喷嘴,并且其中吸附喷嘴加载有相对于环境压力的负压,以提供用于一个或多个基底的保持力。本专利技术还涉及一种喷墨打印设备。
技术介绍
电路板、金属板、薄膜、纸等——在下文中统称为基底——根据应用领域和制造方式能够具有极其不同的强度。这些基底是从刚性的至高柔性的。此外,基底通常具有直至大面积的开口的穿通的钻孔。因此,电路板例如能够具有钻孔,以便借助于螺旋连接将所述电路板紧固在载体上。通过预先加工或通过其制造工艺,基底通常不再是平坦的,而是具有百分之几的沿对角线的弯曲,在基底不弯曲的情况下作为垂直于对角线的最大偏差来测量。现在为了进一步加工所述基底,通常将所述基底设置在平面的加工台上并且暂时地紧固,以便能够实现加工,例如基底的表面印刷、切割、钻孔、借助于激光器的加工,运输或自动的光学检查。基底在此必须在加工期间非常可靠地固定在通常可移动的且平面的加工台上,以便能够实现精确的和快速的加工。为此,以已知的方式将基底定位在吸附板的吸附面上并且借助于负压或吸附流固持或紧固在所述吸附面上。在此问题是,吸附面的不由基底覆盖的区域能够造成保持力崩溃,因此基底不再按照规定地固定或紧固在用于加工的加工台上。为了解决所 ...
【技术保护点】
1.一种用于保持基底,如电路板、金属板、薄膜等的保持设备(1),所述保持设备包括:吸附面(3),其中所述吸附面(3)具有多个吸附喷嘴(5)并且其中所述吸附喷嘴(5)能够借助于负压提供装置(6,9)加载有相对于环境压力的负压,以提供用于一个或多个基底的保持力,其特征在于,所述负压提供装置(6,9)提供负压,使得由所有吸附喷嘴(5)的累积压降和所有吸附喷嘴(5)以及输入管路(6a,6b)的累积压降构成的比例大于0.25%,尤其大于1%,优选大于25%,尤其大于35%,优选大于40%,其中所述输入管路是所述吸附喷嘴直至所述负压提供装置(6,9)的输入管路。
【技术特征摘要】
2017.11.14 DE 102017220296.3;2018.01.22 DE 10201821.一种用于保持基底,如电路板、金属板、薄膜等的保持设备(1),所述保持设备包括:吸附面(3),其中所述吸附面(3)具有多个吸附喷嘴(5)并且其中所述吸附喷嘴(5)能够借助于负压提供装置(6,9)加载有相对于环境压力的负压,以提供用于一个或多个基底的保持力,其特征在于,所述负压提供装置(6,9)提供负压,使得由所有吸附喷嘴(5)的累积压降和所有吸附喷嘴(5)以及输入管路(6a,6b)的累积压降构成的比例大于0.25%,尤其大于1%,优选大于25%,尤其大于35%,优选大于40%,其中所述输入管路是所述吸附喷嘴直至所述负压提供装置(6,9)的输入管路。2.根据权利要求1所述的保持设备,其特征在于,所述吸附喷嘴(5)中的至少一个具有吸附口(4),使得所述吸附口(4)的横截面积大于所述吸附喷嘴(5)的横截面积。3.根据权利要求2所述的保持设备,其特征在于,所述吸附口(4)的横截面积(100)与所述吸附喷嘴(5)的横截面积(101)的比例为0.01和10000之间,优选为1和400之间,尤其为4和144之间,尤其为25和81之间,优选为36和64之间。4.根据权利要求1至3中任一项所述的保持设备,其特征在于,所述负压提供装置(6,9)包括用于将吸附流分配到所述吸附喷嘴(5)上的分配装置(6)。5.根据权利要求4所述的保持设备,其特征在于,借助于所述分配装置(6)能够限定并且能够分开地控制吸附板(2)的多个吸附区域(7a,7b)。6.根据权利要求4或5所述的保持设备,其特征在于,所述分配装置(6)具有一个或多个输入管路(6a,6b),所述输入管路用于供给所述吸附面(3)的或者一个或多个吸附区域(7a,7b)的吸附喷嘴(5),其中对于所述吸附面(3)或对于每个吸附区域(7a,7b)而言,由相应的输入管路(6a,6b)的累积横截面积和在所述吸附面(3)中或在所述吸附区域(7a,7b)中的吸附喷嘴(5)的累积横截面积构成的比例至少为0.3,优选为1和20之间,尤其为1.5和6之间。7.根据权利要求4至6中任一项所述的保持设备,其特征在于,所述分配装置(6)具有切换阀(8),以控制不同的吸附区域(7a,7b)。8.根据权利要求7所述的保持设备,其特征在于,所述负压提供装置(6,9)具有吸附脉冲装置(10),尤其所述吸...
【专利技术属性】
技术研发人员:延斯·明克尔,扬·舍内费尔德,迈克尔·多兰,
申请(专利权)人:概念系统公司,
类型:发明
国别省市:德国,DE
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