The utility model provides a detection device, which relates to the detection technology field. The detection device comprises a support platform for supporting the object to be detected, which is configured to rotate around the first and second axes that are not parallel, and a spraying device for spraying gas to the object to be detected.
【技术实现步骤摘要】
检测设备
本技术涉及检测
，尤其涉及一种检测设备。
技术介绍
随着集成电路制造技术的发展，芯片的特征尺寸越来越小，芯片上存在的缺陷对芯片性能的影响越来越大。因此，在芯片的制作工艺中加入了许多检测步骤，以便剔除不合格芯片，提高良率。颗粒污染是影响芯片良率的因素。尽管晶圆在工艺处理和传递过程中有严格的保护措施，但仍不可避免地会额外增加一些颗粒的污染。
技术实现思路
本技术实施例提供了一种检测设备，能够利用喷射装置有效去除待检测物体表面的颗粒物。根据本技术实施例的一方面，提供一种检测设备，包括：用于支撑待检测物体的支撑平台，所述支撑平台被配置为绕不平行的第一轴和第二轴旋转；和喷射装置，用于向所述待检测物体喷射气体。在一些实施例中，所述支撑平台和所述喷射装置位于腔体中，所述腔体中的压强大于所述腔体外的压强。在一些实施例中，所述腔体具有进气口和出气口，从所述进气口进入所述腔体的气体流向所述出气口。在一些实施例中，所述喷射装置喷射所述气体的方向与所述待检测物体的表面之间的夹角的范围为10度至45度。在一些实施例中，所述第二轴被配置为绕所述第一轴旋转；所述检测设备还包括至少一个光...
【技术保护点】
1.一种检测设备，其特征在于，包括：用于支撑待检测物体的支撑平台，所述支撑平台被配置为绕不平行的第一轴和第二轴旋转；和喷射装置，用于向所述待检测物体喷射气体。
【技术特征摘要】
1.一种检测设备，其特征在于，包括：用于支撑待检测物体的支撑平台，所述支撑平台被配置为绕不平行的第一轴和第二轴旋转；和喷射装置，用于向所述待检测物体喷射气体。2.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述支撑平台和所述喷射装置位于腔体中，所述腔体中的压强大于所述腔体外的压强。3.根据权利要求2所述的检测设备，其特征在于，所述腔体具有进气口和出气口，从所述进气口进入所述腔体的气体流向所述出气口。4.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述喷射装置喷射所述气体的方向与所述待检测物体的表面之间的夹角的范围为10度至45度。5.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述第二轴被配置为绕所述第一轴旋转；所述检测设备还包括至少一个光源；其中，当所述支撑平台旋转到使得所述待检测物体的表面平行于所述第一轴时，与所述第一轴垂直、且经过所述支撑平台沿所述第一轴方向的边界点的平面为第一分界面；当所述第二轴与所述喷射装置喷射所述气体的方向垂直时，经过所述第一轴和第二轴的平面为第二分界面；其中，所述光源和所述喷射装置位于所述第一分界面远离所述支撑平台的一侧；或者，所述光源和所述喷射装置分别位于所述第二分界面的两侧...
【专利技术属性】
技术研发人员：皮林立，马砚忠，杨乐，张朝前，陈鲁，
申请(专利权)人：深圳中科飞测科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44
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