检测设备制造技术

技术编号:12994331 阅读:89 留言:0更新日期:2016-03-10 04:07
一种检测设备,用以检测基材,该检测设备包括光源装置、光接收装置及控制装置。光源装置包含发光模组及透光片。发光模组具有发光区。透光片具有入光面与出光面。出光面形成有多个微结构。当基材的未有缺陷的区块经过检测区域时,发光模组的光线沿预设路径并经过基材而行进,以使控制装置取得的光线强度为第一强度。当基材的形成有至少一缺陷的区块经过检测区域时,沿经基材缺陷的光线产生偏折而脱离预设路径并有至少部分光线行进至光接收装置的接收区,以使控制装置取得的光线强度为高于第一强度的第二强度,藉以得知缺陷位于基材上的位置。本实用新型专利技术的检测设备能进行基材缺陷有无及位置判断,提升了基材的缺陷检测速度及准确性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种检测设备,且特别涉及一种用以检测基材的缺陷位置的检测设备。
技术介绍
现今的产品大都以大量生产来降低生产成本,而在产品进行大量生产的同时,检测设备如何能够有效地进行检测,则成为重要的课题之一。例如:在产品生产前,制作产品所需的材料大都须先经检测,藉以淘汰具有缺陷的材料,进而提高产品的良率且降低生产成本。许多产品以基材制造生产,因此,基材的检测对于产品的良率具有不可忽视的影响,其中,基材的检测常需要确认基材的正反两个表面是否有缺陷,例如:凹陷、凸起、破损、擦伤、异物吸附或刮伤等问题。因此为了提供品质较佳的基材,通常会通过人工进行目视检测,通过将基材设置于输送装置上,并以人眼进行观测,检测这些基材是否有缺陷,并记录这些缺陷区域。然而,上述通过人眼进行检测的方式,容易因为眼睛在长时间的观测下而产生疲劳或误判,开始产生基材缺陷辨别率下降的情形,且对于单一产品的缺陷判断标准也会不一致。此外,也由于是通过人眼进行检测,因此基材在输送装置上的速度也不能太快。进一步来说,当缺陷很小或是待检测的基材是薄膜基材时,人眼就无法进行辨识,若要辨识也需要通过图像放大器进行观测,然而,还是会产生前述问题。
技术实现思路
本技术实施例在于提供一种检测设备,其能有效地改善常用基材检测上的缺陷。本技术实施例提供一种检测设备,用以检测一基材,该检测设备包括:一光源装置、一光接收装置及一控制装置,光源装置包含:一发光模组,具有用以发出光线的一发光区;及一透光片,具有位于相对侧的一入光面与一出光面,该透光片的出光面上形成有多个微结构,并且这些微结构用以导引该发光模组所发出的光线沿一预设路径行进,并且经由这些微结构导引的光线路径区域定义为一检测区域;光接收装置与该光源装置彼此相对应地设置,并且该光接收装置设有一接收区,而该接收区与该透光片的出光面彼此相向,并且该接收区设置于该预设路径以外的位置;控制装置电性连接于该光接收装置,用以取得该光接收装置所接收的光线强度;其中,当该基材的未形成有缺陷的区块经过该检测区域时,该发光模组所发出的光线沿该预设路径并经过该基材而行进,以使该控制装置取得的光线强度为一第一强度;其中,当该基材的形成有至少一缺陷的区块经过该检测区域时,该发光模组所发出的光线沿该预设路径并经过该基材而行进,于沿经该基材的缺陷的光线产生偏折而脱离该预设路径,并有至少部分光线行进至该光接收装置的接收区,以使该控制装置取得的光线强度为高于该第一强度的一第二强度,藉以得知该缺陷位于该基材上的位置。进一步地,所述光源装置的所述发光模组与所述透光片以及所述光接收装置沿一高度方向排列,并且所述检测设备用以供所述基材沿垂直于所述高度方向的一横轴方向穿过所述检测区域。进一步地,多个所述微结构为彼此相同的构造,并且垂直于所述横轴方向的所述透光片的截面呈圆弧状。进一步地,在垂直于所述横轴方向的所述透光片的截面上,每个所述微结构的形状呈等腰直角三角形。进一步地,垂直于所述横轴方向的所述透光片的圆弧状截面的圆心角不大于90度。进一步地,多个所述微结构为彼此相异的构造,并且所述透光片为平板状。进一步地,垂直于所述横轴方向的所述透光片的截面形状等同于一菲涅尔透镜沿其中心轴截取的截面形状。进一步地,所述检测设备进一步包括有一输送装置,并且所述输送装置包括多个滚轮,用以输送所述基材穿过所述检测区域。进一步地,在垂直于所述横轴方向的所述检测区域的截面上,所述检测区域自多个所述微结构朝所述接收区的方向逐渐地缩小。进一步地,所述检测设备进一步限定为用以检测一透光基材的穿透式检测设备或是用以检测一非透光基材的反射式检测设备。综上所述,本技术实施例所提供的检测设备,其通过透光片搭配发光模组与光接收装置,藉以使沿经该基材的光线能够依其强度大小而呈现出基材的局部结构特性,以利于控制装置进行基材缺陷有无及位置判断,进而提升基材的缺陷检测速度及准确性。为能更进一步了解本技术的特征及
技术实现思路
,请参阅以下有关本技术的详细说明与附图,然而所附图式仅提供参考与说明用,并非用来对本技术的权利范围作任何的限制。附图说明图1为本技术检测设备第一实施例的立体示意图。图2A为图1垂直于横轴方向的剖视示意图(一)。图2B为图2A的检测数据示意图。图3A为图1垂直于横轴方向的剖视示意图(二)。图3B为图3A的检测数据示意图。图4A为图1垂直于横轴方向的剖视示意图(三)。图4B为图4A的检测数据示意图。图5为本技术检测设备另一态样的示意图。图6为本技术检测设备第二实施例的透光片示意图。【符号说明】100检测设备1光源装置11发光模组111发光区12透光片121入光面122出光面1221微结构2光接收装置21接收区3控制装置4输送装置41滚轮200、200’基材201、202缺陷X0、X1、X2长度位置L、L’光线a第一强度b第二强度X纵轴方向Y横轴方向Z高度方向具体实施方式[第一实施例]请参阅图1至图5,其为技术的第一实施例,需先说明的是,本实施例对应图式所提及的相关数量与外型,仅用以具体地说明本技术的实施方式,以便于了解其内容,而非用以局限本技术的权利范围。如图1所示,本实施例为一种检测设备100,用以检测一基材200上的缺陷201、202的位置。其中,上述基材200可以是透光基材200(例如是透光率85%以上的透光薄膜)或是非透光基材200’。也就是说,所述检测设备100可以是通过光线穿透上述透光基材200,以进行透光基材200的缺陷201、202位置检测的光穿透式检测设备100(如图1所示)。或者,所述检测设备100亦可以是通过光线照射于上述非透光基材200’,以经由非透光基材200’的反射光线而进行缺陷(未标示)位置检测的反射式检测设备100(如图5)。由于上述光穿透式检测设备100与反射式检测设备100于本实施例中的主要运作原理大致相同,因而为便于说明,下述仅以光穿透式检测设备100为例作一介绍。所述检测设备100包括一光源装置1、相对应于上述光源装置1设置的一光接收装置2、电性连接于光接收装置2的一控制装置3及用以输送基本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种检测设备,用以检测一基材,其特征在于,所述检测设备包括:一光源装置,所述光源装置包含:一发光模组,所述发光模组具有用以发出光线的一发光区;及一透光片,所述透光片具有位于相对侧的一入光面与一出光面,所述透光片的所述出光面上形成有多个微结构,并且多个所述微结构用以导引所述发光模组所发出的光线沿一预设路径行进,并且经由多个所述微结构导引的光线路径区域定义为一检测区域;一光接收装置,所述光接收装置与所述光源装置彼此相对应地设置,并且所述光接收装置设有一接收区,而所述接收区与所述透光片的所述出光面彼此相向,并且所述接收区设置于所述预设路径以外的位置;以及一控制装置,所述控制装置电性连接于所述光接收装置,用以取得所述光接收装置所接收的光线强度;其中,当所述基材的未形成有缺陷的区块经过所述检测区域时,所述发光模组所发出的光线沿所述预设路径并经过所述基材而行进,以使所述控制装置取得的光线强度为一第一强度;其中,当所述基材的形成有至少一缺陷的区块经过所述检测区域时,所述发光模组所发出的光线沿所述预设路径并经过所述基材而行进,于沿经所述基材的缺陷的光线产生偏折而脱离所述预设路径,并有至少部分光线行进至所述光接收装置的所述接收区,以使所述控制装置取得的光线强度为高于所述第一强度的一第二强度,藉以得知所述缺陷位于所述基材上的位置。...

【技术特征摘要】
1.一种检测设备,用以检测一基材,其特征在于,所述检测设备包括:
一光源装置,所述光源装置包含:
一发光模组,所述发光模组具有用以发出光线的一发光
区;及
一透光片,所述透光片具有位于相对侧的一入光面与一出
光面,所述透光片的所述出光面上形成有多个微结构,并且多
个所述微结构用以导引所述发光模组所发出的光线沿一预设
路径行进,并且经由多个所述微结构导引的光线路径区域定义
为一检测区域;
一光接收装置,所述光接收装置与所述光源装置彼此相对应地
设置,并且所述光接收装置设有一接收区,而所述接收区与所述透
光片的所述出光面彼此相向,并且所述接收区设置于所述预设路径
以外的位置;以及
一控制装置,所述控制装置电性连接于所述光接收装置,用以
取得所述光接收装置所接收的光线强度;
其中,当所述基材的未形成有缺陷的区块经过所述检测区域
时,所述发光模组所发出的光线沿所述预设路径并经过所述基材而
行进,以使所述控制装置取得的光线强度为一第一强度;
其中,当所述基材的形成有至少一缺陷的区块经过所述检测区
域时,所述发光模组所发出的光线沿所述预设路径并经过所述基材
而行进,于沿经所述基材的缺陷的光线产生偏折而脱离所述预设路
径,并有至少部分光线行进至所述光接收装置的所述接收区,以使
所述控制装置取得的光线强度为高于所述第一强度的一第二强度,
藉以得知所述缺陷位于所述基材上的位置。
2.根据权利要求1所述的检测设备,其特征在于,所述光源装置的所
述...

【专利技术属性】
技术研发人员:许轩兢
申请(专利权)人:香港商微觉视检测技术股份有限公司
类型:新型
国别省市:中国台湾;71

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