基材缺陷检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种基材缺陷检测装置，用以检测一基材。基材缺陷检测装置包括一输送装置、一光源产生装置、一图像获取装置、一控制装置以及一集尘装置。输送装置包括第一和第二输送装置。光源产生装置包括一用于产生一照射在位于一第一检测区域内的基材上的第一检测光源的第一光源产生单元及一用于产生一照射在位于一第二检测区域内的基材上的第二检测光源的第二光源产生单元。图像获取装置包括一第一图像获取单元及一第二图像获取单元。第一图像获取单元用于获取位于第一检测区域内的一第一图像信息。第二图像获取单元用于获取位于第二检测区域内的一第二图像信息。借此，本实用新型专利技术所公开的基材缺陷检测装置能够改善基材表面缺陷辨识率。

Substrate defect detecting device

The utility model discloses a base material defect detecting device, which is used for detecting a base material. The substrate defect detecting device comprises a conveying device, a light source producing device, an image acquiring device, a control device and a dust collecting device. The conveying device includes first and second conveying devices. Light source generating device comprises a generating unit and a second light source for generating unit generates a radiation detection light source located on a substrate in second second in the detection region of the radiation in the first generates a detection light source located on a substrate a first detection region on the first light source. The image acquisition device includes a first image acquisition unit and a second image acquisition unit. The first image acquisition unit is used to obtain a first image information located in the first detection area. The second image acquisition unit is used to obtain a second image information located in the second detection area. Therefore, the defect detecting device for the base material disclosed by the utility model can improve the recognition rate of the surface defects of the base material.

【技术实现步骤摘要】
基材缺陷检测装置
本技术涉及一种缺陷检测装置，特别是涉及一种通过判断基材表面是否有缺陷的存在以达到提升基材检测速度及准确性的基材缺陷检测装置。
技术介绍
现今的产品大都以大量生产来降低生产成本，而大量生产的同时，检测装置如何能有效地检测成为重要的课题之一，而在产品生产前，制作产品所需的材料大都须先经检测，藉以淘汰具有缺陷的材料，进而提高产品的合格率且降低生产成本。许多产品以基材制造生产，因此，基材检测对于生产的合格率具有不可忽视的影响，其中，基材的检测常需要确认或基材的正反两表面是否有缺陷，例如：凹陷、凸起、破损、擦伤或刮伤等问题。因此为了提供品质较佳的基材，通常会通过人工进行目视检测，通过将基材设置于一输送带上，并以人眼进行观测，检测这些基材是否有瑕疵，并纪录该些瑕疵区域。然而，上述通过人眼进行检测的方式，容易因为眼睛在长时间的观测下而产生疲劳或误判，开始产生基材缺陷辨别率下降的情形，且对于单一产品的缺陷判断标准也会不一致。此外，也由于是通过人眼进行检测，因此基材在输送带上的速度也不能太快。进一步来说，当缺陷很小时，人眼就无法进行辨识，若要辨识也需要通过图像放大器进行观测，然而，还是会产生前述问题。还有，基材的检测常需要确认基材的正反两表面是否有缺陷，而现有的检测机具大都先检测基材的一表面，再将基材翻转进行另一表面的检测，借此，而达到基材双面检测的效果。然而，现有检测机具将基材翻转进行双面检测的方式，对于易碎或是易弯折的基材势必造成检测上的不便与问题。因此，如何提供一种能够改善基材表面缺陷辨识率，以及避免进一步翻转基材，以克服上述的缺陷，已然成为该行业所要解决的重要课题之一。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题在于，针对现有技术的不足提供一种基材缺陷检测装置，以达到快速检测基材及避免翻动基材的效果。为了解决上述的技术问题，本技术所采用的其中一技术方案是，提供一种基材缺陷检测装置，用以检测一基材的一第一表面及一相对于所述第一表面的第二表面，其中，所述基材缺陷检测装置包括一输送装置、一光源产生装置、一图像获取装置、一控制装置以及一集尘装置。所述输送装置包括一第一输送单元及一第二输送单元。所述第一输送单元具有一第一承载面，其中所述基材设置于所述第一承载面上，所述基材通过所述第一输送单元以进行传送。所述第二输送单元与所述第一输送单元彼此相对应设置，其中所述第二输送单元具有一第二承载面，所述第一输送单元传送所述基材至所述第二输送单元的所述第二承载面上。所述光源产生装置包括一第一光源产生单元及一第二光源产生单元。所述第一光源产生单元用于产生一照射在位于一第一检测区域内的所述基材上的第一检测光源。所述第二光源产生单元用于产生一照射在位于一第二检测区域内的所述基材上的第二检测光源，其中所述第二检测区域位于所述第一输送单元及所述第二输送单元之间。所述图像获取装置与所述光源产生装置相对应设置，所述图像获取装置包括一第一图像获取单元及一第二图像获取单元。所述第一图像获取单元与所述第一光源产生单元彼此相对应设置，所述第一图像获取单元用于获取位于所述第一检测区域内的所述基材的一第一图像信息。所述第二图像获取单元与所述第二光源产生单元彼此相对应设置，所述第二图像获取单元用于获取位于所述第二检测区域内的所述基材的一第二图像信息。所述控制装置电性连接于所述第一图像获取单元及所述第二图像获取单元，以接收所述第一图像获取单元所获取到的所述第一图像信息及所述第二图像获取单元所获取到的所述第二图像信息。所述集尘装置邻近地设置于所述第一输送单元的侧边。其中，所述第一图像信息及所述第二图像信息通过所述控制装置的运算，以得到位于所述基材上的一第一瑕疵区域的一第一瑕疵信息及一第二瑕疵区域的一第二瑕疵信息。更进一步地，所述基材为铜箔衬底。更进一步地，所述基材缺陷检测装置还进一步包括：一支撑装置，所述支撑装置包括一设置于所述第一输送单元及所述第二输送单元之间的导轮单元，其中所述导轮单元承载经过所述第一输送单元及所述第二输送单元之间的所述基材。更进一步地，所述支撑装置用于承载经过所述第一输送单元及所述第二输送单元之间的所述基材的侧边。更进一步地，所述基材缺陷检测装置还进一步包括：一承载装置，所述承载装置设置于所述第一输送单元及所述第二输送单元之间，所述承载装置具有一承载平面，所述承载平面面对所述第一承载面及所述第二承载面，且所述承载平面与所述第一承载面及所述第二承载面相距一预定间距。更进一步地，所述基材缺陷检测装置还进一步包括：一支撑装置，所述支撑装置包括一用于提供一气体的气体供给单元，经过所述第一输送单元及所述第二输送单元之间的所述基材通过所述气体的支撑，以将所述基材压合于所述承载平面上。更进一步地，所述承载装置还具有一滚轮，所述滚轮带动所述承载平面的移动，所述基材通过所述承载平面的带动以朝所述第二输送单元的方向移动。更进一步地，所述第一输送单元还进一步包括一第一输送轮及一第一输送带，所述第一承载面位于所述第一输送带上，所述第二输送单元还进一步包括一第二输送轮及一第二输送带，所述第二承载面位于所述第二输送带上。更进一步地，所述第一图像获取单元所投射的第一检测区域位于所述基材的所述第一表面，所述第二图像获取单元所投射的第二检测区域位于所述基材的所述第二表面。更进一步地，所述第一检测光源及第二检测光源为线性光源。本技术的有益效果可以在于，本技术实施例所提供的基材缺陷检测装置能通过第二光源产生单元所产生一照射在位于一第二检测区域内的第二检测光源，以使得第二图像获取单元能够获取位于第二检测区域内的基材的一第二图像信息，进而判断基材的第二表面是否具有缺陷。此外，通过第二图像获取单元检测基材第二表面，基材不需要进行翻面，故待检测基材不受易碎或易弯折的限制，因此，可受检测的基材类型较广。还有，通过连贯的流程进行检测，可快速得到基材上下两个表面的检测结果。为使能更进一步了解本技术的特征及
技术实现思路
，请参阅以下有关本技术的详细说明与附图，然而所提供的附图仅提供参考与说明用，并非用来对本技术加以限制。附图说明图1为本技术第一实施例的基材缺陷检测装置的立体示意图。图2为本技术第一实施例的基材缺陷检测装置的其中一前视示意图。图3为本技术第一实施例的基材缺陷检测装置的另外一前视示意图。图4为本技术实施例的基材的缺陷示意图。图5为本技术第二实施例的基材缺陷检测装置的前视示意图。图6为本技术第二实施例的基材缺陷检测装置的俯视示意图。图7为本技术第三实施例的基材缺陷检测装置的其中一前视示意图。图8为本技术第三实施例的基材缺陷检测装置的另外一前视示意图。图9为本技术第三实施例的基材缺陷检测装置的再一前视示意图。具体实施方式以下是通过特定的具体实例来说明本技术所公开有关“基材缺陷检测装置”的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本技术的优点与效果。本技术可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用，在不悖离本技术的精神下进行各种修饰与变更。另外，本技术的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘，予以声明。以下的实施方式将进一步详本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基材缺陷检测装置，用以检测一基材的一第一表面及一相对于所述第一表面的第二表面，其特征在于，所述基材缺陷检测装置包括：一输送装置，所述输送装置包括：一第一输送单元，所述第一输送单元具有一第一承载面，其中所述基材设置于所述第一承载面上，所述基材通过所述第一输送单元以进行传送；以及一第二输送单元，所述第二输送单元与所述第一输送单元彼此相对应设置，其中所述第二输送单元具有一第二承载面，所述第一输送单元传送所述基材至所述第二输送单元的所述第二承载面上；一光源产生装置，所述光源产生装置包括：一第一光源产生单元，所述第一光源产生单元用于产生一照射在位于一第一检测区域内的所述基材上的第一检测光源；以及一第二光源产生单元，所述第二光源产生单元用于产生一照射在位于一第二检测区域内的所述基材上的第二检测光源，其中所述第二检测区域位于所述第一输送单元及所述第二输送单元之间；一图像获取装置，所述图像获取装置与所述光源产生装置相对应设置，所述图像获取装置包括：一第一图像获取单元，所述第一图像获取单元与所述第一光源产生单元彼此相对应设置，所述第一图像获取单元用于获取位于所述第一检测区域内的所述基材的一第一图像信息；以及一第二图像获取单元，所述第二图像获取单元与所述第二光源产生单元彼此相对应设置，所述第二图像获取单元用于获取位于所述第二检测区域内的所述基材的一第二图像信息；一控制装置，所述控制装置电性连接于所述第一图像获取单元及所述第二图像获取单元，以接收所述第一图像获取单元所获取到的所述第一图像信息及所述第二图像获取单元所获取到的所述第二图像信息；以及一集尘装置，所述集尘装置邻近地设置于所述第一输送单元的侧边；其中，所述第一图像信息及所述第二图像信息通过所述控制装置的运算，以得到位于所述基材上的一第一瑕疵区域的一第一瑕疵信息及一第二瑕疵区域的一第二瑕疵信息。...

【技术特征摘要】
1.一种基材缺陷检测装置，用以检测一基材的一第一表面及一相对于所述第一表面的第二表面，其特征在于，所述基材缺陷检测装置包括：一输送装置，所述输送装置包括：一第一输送单元，所述第一输送单元具有一第一承载面，其中所述基材设置于所述第一承载面上，所述基材通过所述第一输送单元以进行传送；以及一第二输送单元，所述第二输送单元与所述第一输送单元彼此相对应设置，其中所述第二输送单元具有一第二承载面，所述第一输送单元传送所述基材至所述第二输送单元的所述第二承载面上；一光源产生装置，所述光源产生装置包括：一第一光源产生单元，所述第一光源产生单元用于产生一照射在位于一第一检测区域内的所述基材上的第一检测光源；以及一第二光源产生单元，所述第二光源产生单元用于产生一照射在位于一第二检测区域内的所述基材上的第二检测光源，其中所述第二检测区域位于所述第一输送单元及所述第二输送单元之间；一图像获取装置，所述图像获取装置与所述光源产生装置相对应设置，所述图像获取装置包括：一第一图像获取单元，所述第一图像获取单元与所述第一光源产生单元彼此相对应设置，所述第一图像获取单元用于获取位于所述第一检测区域内的所述基材的一第一图像信息；以及一第二图像获取单元，所述第二图像获取单元与所述第二光源产生单元彼此相对应设置，所述第二图像获取单元用于获取位于所述第二检测区域内的所述基材的一第二图像信息；一控制装置，所述控制装置电性连接于所述第一图像获取单元及所述第二图像获取单元，以接收所述第一图像获取单元所获取到的所述第一图像信息及所述第二图像获取单元所获取到的所述第二图像信息；以及一集尘装置，所述集尘装置邻近地设置于所述第一输送单元的侧边；其中，所述第一图像信息及所述第二图像信息通过所述控制装置的运算，以得到位于所述基材上的一第一瑕疵区域的一第一瑕疵信息及一第二瑕疵区域的一第二瑕疵信息。2.如权利要求1所述的基材缺陷检测装置，其特征在于，所述基材为...

【专利技术属性】
技术研发人员：许轩兢，
申请(专利权)人：香港商微觉视检测技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71