The present invention relates to a method for producing hydrogenated silane, in which siloxane containing Si H group reacts in the presence of cationic Si (II) compounds as catalysts.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于生产氢化硅烷的方法
本专利技术涉及一种用于在作为催化剂的阳离子Si(II)化合物存在下通过使氢化硅氧烷反应制备氢化硅烷的方法。
技术介绍
氢化硅烷和氢化硅氧烷在技术中起着重要作用。通常称为氢化硅烷化的乙烯基化合物的这种添加例如用于交联硅酮聚合物，并且广泛用于经由碳间隔区将官能团连接到硅中心。氢化硅烷具有工业意义，特别是在电子工业中获得。例如，二甲基硅烷用于CVD工艺中以生产介电涂层。因此，一种用于制备高度易燃和高反应性氢化硅烷的简单、可靠且成本有效的方法具有重要的工业重要性。特别地，对于电子工业中的氢化硅烷的应用，存在高纯度要求。由于必要的安全相关负担，例如通过蒸馏随后纯化氢化硅烷显著增加了生产过程的成本。WO2007/005037描述了一种方法，其中氢化硅烷可以在作为催化剂的通式BR3的路易斯酸性硼化合物，特别是硼化合物B(C6F5)3的存在下生产。在该反应中也称为歧化反应，氢化硅烷由包含Si-H基团的硅氧烷形成，其中还形成包含Si-H基团的更高分子量的硅氧烷。该方法的缺点(如在工作实施例和Macromolecules2006,39,3802中所述)是硅氧烷...
【技术保护点】
1.一种用于制备氢化硅烷的方法，其中包含Si‑H基团的硅氧烷在作为催化剂的阳离子Si(II)化合物的存在下反应。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于制备氢化硅烷的方法，其中包含Si-H基团的硅氧烷在作为催化剂的阳离子Si(II)化合物的存在下反应。2.如权利要求1所述的方法，其中使用的包含Si-H基团的硅氧烷具有通式IR1R2HSiO(1/2)Z(I)，其中Z表示通式Ia(SiO4/2)a(RxSiO3/2)b(Rx2SiO2/2)c(Rx3SiO1/2)d(Ia)R1和R2各自独立地为烃基团、卤素原子或氢原子，Rx各自独立地为氢，卤素，无支链、支链、直链、无环或环状、饱和或单不饱和或多不饱和的C1-C20烃基团或无支链、支链、直链或环状、饱和或单不饱和或多不饱和的C1-C20烃氧基基团，其中在每种情况下，各个非相邻的CH2基团可以被氧原子或硫原子取代，并且各个CH基团可以被氮原子取代，并且在每种情况下碳原子可以带有卤素取代基，并且a、b、c和d在每种情况下各自独立地为从1到10000的整数值，其中a、b、c和d一起的总和至少具有值1。3.如权利要求2所述的方法，其中基团R1和R2各自独立地为氢、氯、直链饱和的C1-C10基团、环状饱和或单不饱和或多不饱和的C1-C10烃基团。4.如权利要求2或3所述的方法，其中基团Rx选自甲基、乙基、正丙基、异丙基、丁基、苯...
【专利技术属性】
技术研发人员：埃尔克·弗里茨朗哈尔斯，
申请(专利权)人：瓦克化学股份公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE
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