一种以二氧化硅和氧化铝为原料的陶瓷砖抛光抑制剂制造技术

一种以二氧化硅和氧化铝为原料的陶瓷砖抛光抑制剂，所述抑制剂为二氧化硅和氧化铝的至少一种；所述抑制剂中合有黄腊石和碳酸钙的至少一种；首先按质量百分比计，将10～20％的抑制剂、10～20％陶瓷砖抛光废渣和60～70％的公知陶瓷砖坯体原料进行混合；然后将混合料成型制成坯体；最后将其高温烧结，获得平整致密的陶瓷制品；本发明专利技术采用了二氧化硅和氧化铝作为抑制剂，具有抑制效率高、易于控制和适应范围广的特点；解决陶瓷砖抛光废渣生产陶瓷砖的工艺实施和控制难度高的问题；实现陶瓷砖抛光废渣的高效的资源化利用，提高陶瓷砖的结构和外观质量，降低生产的原料成本，利用率高、减少废渣废料的排放污染，制备工艺简单、易于操控、适用性广、便于实施和推广。

A Polishing Inhibitor for Ceramic Tiles Using Silica and Alumina as Raw Materials

A ceramic tile polishing inhibitor using silica and alumina as raw materials is described. The inhibitor is at least one of silica and alumina. At least one of the inhibitors is composed of pyrophyllite and calcium carbonate. Firstly, 10-20% inhibitor, 10-20% ceramic tile polishing waste and 60-70% known ceramic tile body raw materials are mixed according to the mass percentage. The mixtures are moulded into green bodies and sintered at high temperature to obtain smooth and compact ceramic products; the present invention adopts silica and alumina as inhibitors, which has the characteristics of high inhibition efficiency, easy control and wide adaptability; solves the problem of high difficulty in process implementation and control of ceramic tile polishing waste residue production; and realizes the high efficiency of ceramic tile polishing waste residue. Utilization of resources can improve the structure and appearance quality of ceramic tiles, reduce the cost of raw materials, improve the utilization ratio, reduce the pollution of waste residue and waste, and make the preparation process simple, easy to control, wide applicability, easy to implement and promote.

【技术实现步骤摘要】
一种以二氧化硅和氧化铝为原料的陶瓷砖抛光抑制剂
本专利技术涉及建筑陶瓷
，尤其涉及一种以二氧化硅和氧化铝为原料的陶瓷砖抛光抑制剂。
技术介绍
现有技术将未接触过抛光磨块的抛光废渣以一定的比例加入常规粉料中，用于生产瓷质抛光砖；而最难处理的是接触过抛光磨块的抛光废渣，现有对接触过抛光磨块的抛光废渣有两种处理方法：一种是利用接触过抛光磨块的抛光废渣的高温发泡性能来生产呼吸砖、泡沫陶板、透水砖、空心陶瓷板、轻质砖、多孔陶粒、洞石等产品；另一种是把接触过抛光磨块的抛光废渣以一定比例加入常规粉料中，用于生产瓷质砖，主要需要解决接触过抛光磨块的抛光废渣中碳化硅高温发泡问题。广东宏陶陶瓷有限公司专利(公布号CN102617123)《利用抛光废渣制造瓷砖坯体和釉面砖的配方及方法》公开一种利用抛光废渣制造瓷砖坯体和釉面砖配方及方法，采用特定的温度下保温、延长烧成时间、增加氧化气氛等手段以保证陶瓷抛光废渣的气体排放，克服因陶瓷抛光废渣在高温下因排放的气体过多而使产品发泡的缺点，但仍然存在工艺较为复杂，既需要调整配方，又需要改变窑炉原有的烧成制度和烧成气氛，工艺实施和控制的难度大，普适性低，不易于进行推广的缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提出一种抑制效果好且利用率高的可抑制陶瓷砖抛光废渣高温烧结发泡的抑制剂。本专利技术的另一个目的在于提出一种工艺简单且易于控制的抑制陶瓷砖抛光污泥高温烧结发泡的方法。为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：一种以二氧化硅和氧化铝为原料的陶瓷砖抛光抑制剂，所述抑制剂为二氧化硅和氢氧化铝的至少一种。进一步说明，所述抑制剂为二氧化硅∶氧化铝＝2～4∶1的混合物。进一步说明，所述抑制剂中含有黄腊石和碳酸钙的至少一种。一种抑制陶瓷砖抛光污泥高温烧结发泡的方法，首先按质量百分比计，将10～20％的抑制剂、10～20％陶瓷砖抛光废渣和60～70％的公知陶瓷砖坯体原料进行混合；然后将混合料成型制成坯体；最后将其高温烧结，获得平整致密的陶瓷制品。进一步说明，所述陶瓷砖坯体原料包括粘土类原料、砂石类原料和滑石；所述粘土类原料为高岭土、伊利石、膨润土、A级黑泥、佛冈黑泥和花都黑泥中一种或多种组合；所述砂石类原料为龙山钾砂、阳江铝钾砂、贵广高铝钾钠砂、富港钠砂、高铝钾砂和广西钾砂中一种或多种组合。进一步说明，所述混合料制成坯体之前还包括球磨、除铁和喷雾干燥工序，获得颗粒粉料；所述球磨细度为350目筛余0.5～1％。进一步说明，所述高温烧结的烧成温度为1190～1220℃。进一步说明，所述坯体在高温烧结之前还包括抛坯工序。本专利技术的有益效果：本专利技术采用了二氧化硅和氧化铝作为抑制剂，通过抑制剂阻止陶瓷砖抛光废渣中碳化硅被氧化，避免大量的气体排出，不会出现鼓泡、翘曲变形的情形，对陶瓷砖抛光废渣的高温发泡起到了很好的抑制效果，具有抑制效率高、效果明显、易于控制和适应范围广的特点；在采用陶瓷砖抛光废渣制备陶瓷砖的过程中，通过引入所述抑制剂，有效抑制所述陶瓷砖抛光污泥高温烧结发泡的情况，解决对于陶瓷砖抛光废渣生产陶瓷砖的工艺实施和控制难度高的问题；实现陶瓷砖抛光废渣的高效的资源化利用，制备得无发泡、变形、表面平整致密的瓷砖，提高陶瓷砖的结构和外观质量，大大减小瓷砖生产工艺的限制，降低生产的原料成本，利用率高、减少废渣废料的排放污染，制备工艺简单、易于操控、适用性广、便于实施和产业化推广运用。具体实施方式实施例：一种抑制陶瓷砖抛光污泥高温烧结发泡的方法，包括如下步骤：(1)首先称取陶瓷砖坯体原料、陶瓷砖抛光废渣和抑制剂制得混合料，其中按照质量百分比计，包括20％陶瓷砖抛光废渣、70％陶瓷砖坯体原料和10％抑制剂；所述抑制剂为黄腊石，所述陶瓷砖坯体原料为高岭土、伊利石、A级黑泥、花都黑泥、龙山钾砂、贵广高铝钾钠砂、高铝钾砂、广西钾砂和滑石；所述陶瓷砖抛光废渣按质量百分比，包括：65％SiO2、19％Al2O3、0.7％CaO、3％MgO、3％K2O、4％Na2O和5％SiC；(2)将步骤(1)制得的混合料加入球磨机中，通过湿法球磨制得浆料，所述浆料的球磨粒度为350目筛余0.5％，并进行过筛除铁；(3)将除铁后的浆料通过喷雾干燥塔进行喷雾干燥，获得颗粒粉料；(4)将所述颗粒粉料送至压机进行压制成型，获得砖坯；(5)将步骤(4)获得的砖坯进行干燥，入窑炉烧成，所述烧成的温度为1190℃，获得瓷砖。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种以二氧化硅和氧化铝为原料的陶瓷砖抛光抑制剂，其特征在于：所述抑制剂为二氧化硅和氧化铝的至少一种。

【技术特征摘要】
1.一种以二氧化硅和氧化铝为原料的陶瓷砖抛光抑制剂，其特征在于：所述抑制剂为二氧化硅和氧化铝的至少一种。2.根据权利要求1所述的一种以二氧化硅和氧化铝为原料的陶瓷砖抛光抑制剂，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：佘玲英，
申请(专利权)人：佘玲英，
类型：发明
国别省市：陕西,61