The magnetorheological polishing processing system provided by the invention includes a magnetorheological polishing wheel connected with the first manipulator, a magnetorheological circulating system connected with the second manipulator, a workpiece (such as an optical element) fixed on the worktable, a magnetorheological circulating system connected with the magnetorheological polishing wheel through a circulating supply loop, and a magnetorheological polishing wheel driven by the first manipulator under the control of a motion program, and a magnetorheological polishing wheel driven by the first manipulator. Working principle, the workpiece on the worktable is processed to make the processing process high-speed and smooth. At the same time, driven by the second manipulator, with the help of the magnetorheological circulation system, the liquid supply and circulation support of the magnetorheological polishing wheel are realized, which ensures the normal operation of the magnetorheological polishing processing system and further improves the overall efficiency of the polishing and magnetorheological polishing processing system.
【技术实现步骤摘要】
一种磁流变抛光加工系统
本专利技术涉及光学精密加工领域,特别涉及一种磁流变抛光加工系统。
技术介绍
随着现代科学技术的发展,对应用于各种光学系统中的光学元件提出了越来越高的要求。通常情况下要求最终生产的光学元件具有高的面形精度、好的表面质量及尽量减少亚表面破坏层。高的面形精度可以保证好的成像质量,平滑的表面可以减少散射,较低的亚表面破坏层可以避免在高能应用中的破坏。因而光学元件的性能在很大程度上取决于制造过程。已经研究出多种加工方法可以获得高精度的加工表面,其中典型的加工方法有塑性研磨、化学抛光、浮法抛光、弹性发射加工、粒子束抛光、射流抛光等等。这些加工方法或者抛光效率太低,或者产生较大的亚表面破坏层,或者抛光不易控制,各自存在一定的缺陷。磁流变液是将微米尺寸的磁性颗粒分散于绝缘载液中形成的具有可控流变行为的悬浮液体,其流变特性随外加磁场变化而变化。磁流变液在未加磁场时流变特性与普通牛顿流体相似,当受到一定强度磁场作用时,在磁场的作用下能产生明显的磁流变效应,其表观粘度系数增加2个数量级以上,会变成类似固体的状态,一旦去掉磁场后,又变成可以流动的液体。在磁场作用下 ...
【技术保护点】
1.一种磁流变抛光加工系统,其特征在于,包括第一机械臂、安装在所述第一机械臂一端的磁流变抛光轮、第二机械臂、安装于所述第二机械臂一端的用于提供磁流变液的磁流变循环系统、用于放置工件的工作台以及与所述磁流变循环系统的出口连通用于输送所述磁流变液的循环供给回路;所述循环供给回路与所述磁流变抛光轮连接,当所述第一机械臂带动所述磁流变抛光轮进行抛光加工操作时所述第二机械臂带动所述磁流变循环系统移动至所述磁流变抛光轮的预设范围内,所述预设范围的半径小于等于所述循环供给回路的最大供液距离。
【技术特征摘要】
1.一种磁流变抛光加工系统,其特征在于,包括第一机械臂、安装在所述第一机械臂一端的磁流变抛光轮、第二机械臂、安装于所述第二机械臂一端的用于提供磁流变液的磁流变循环系统、用于放置工件的工作台以及与所述磁流变循环系统的出口连通用于输送所述磁流变液的循环供给回路;所述循环供给回路与所述磁流变抛光轮连接,当所述第一机械臂带动所述磁流变抛光轮进行抛光加工操作时所述第二机械臂带动所述磁流变循环系统移动至所述磁流变抛光轮的预设范围内,所述预设范围的半径小于等于所述循环供给回路的最大供液距离。2.根据权利要求1所述的磁流变抛光加工系统,其特征在于,所述第一机械臂和所述第二机械臂均为具有六自由度的机械臂。3.根据权利要求1所述的磁流变抛光加工系统,其特征在于,所述工作台设置在所述第一机械臂和所述第二机械臂之间。4.根据权利要求1所述的磁流变抛光加工系统,其特征在于,所述磁流变循环系统可转动的安装在所述第二机械臂的一端。5.根据权利要求1所述的磁流变抛光加工系统,其特征在于,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:张学军,薛栋林,张鑫,李龙响,宋驰,
申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,
类型:发明
国别省市:吉林,22
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