显示面板及其制作方法技术

本申请提出了一种显示面板及其制作方法，提供一衬底，在所述衬底上依次形成有源层、第一绝缘层及第一金属层；在所述第一金属层上形成第一光阻层，对所述第一光阻层进行第一光罩工艺；对所述有源层、所述第一绝缘层及所述第一金属层进行第一次蚀刻工艺；对所述第一光阻层进行灰化处理；对所述第一金属层进行第二蚀刻工艺，使得所述第一金属层形成第一栅极和第二栅极；在所述第一栅极及所述第二栅极上形成源漏极。本申请通过一道光罩工艺同时完成有源层、栅极层及栅绝缘层的图案化处理，简化了显示面板的制作工艺，提高了制程效率，降低了生产成本，提高了产品的良率。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制作方法
本申请涉及显示领域，特别涉及一种显示面板及其制作方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示器具有轻薄、主动发光、响应速度快、可视角大、色域宽、亮度高和功耗低等众多优点，逐渐成为继液晶显示器后的第三代显示技术。在现有AMOLED显示面板中，驱动发光的阵列层的膜层较多，因此需要进行光罩的次数较多，不仅增加时间以及物料成本，工艺的复杂性也使得良率受到影响。
技术实现思路
本申请提供一种显示面板及其制作方法，以解决现有显示面板工艺复杂的技术问题。为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：本申请提出了一种显示面板的制作方法，其包括：提供一衬底，在所述衬底上依次形成有源层、第一绝缘层及第一金属层；在所述第一金属层上形成第一光阻层，对所述第一光阻层进行第一光罩工艺；对所述有源层、所述第一绝缘层及所述第一金属层进行第一次蚀刻工艺；对所述第一光阻层进行灰化处理；对所述第一金属层进行第二蚀刻工艺，使得所述第一金属层形成第一栅极和第二栅极；在所述第一栅极及所述第二栅极上形成源漏极。在本申请的制作方法中，在所述第一金属层上形成第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供一衬底，在所述衬底上依次形成有源层、第一绝缘层及第一金属层；在所述第一金属层上形成第一光阻层，对所述第一光阻层进行第一光罩工艺；对所述有源层、所述第一绝缘层及所述第一金属层进行第一次蚀刻工艺；对所述第一光阻层进行灰化处理；对所述第一金属层进行第二蚀刻工艺，使得所述第一金属层形成第一栅极和第二栅极；在所述第一栅极及所述第二栅极上形成源漏极。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供一衬底，在所述衬底上依次形成有源层、第一绝缘层及第一金属层；在所述第一金属层上形成第一光阻层，对所述第一光阻层进行第一光罩工艺；对所述有源层、所述第一绝缘层及所述第一金属层进行第一次蚀刻工艺；对所述第一光阻层进行灰化处理；对所述第一金属层进行第二蚀刻工艺，使得所述第一金属层形成第一栅极和第二栅极；在所述第一栅极及所述第二栅极上形成源漏极。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述第一金属层上形成第一光阻层，对所述第一光阻层进行第一光罩工艺的步骤包括：在所述第一金属层上形成所述第一光阻层；利用一多段式掩膜版，对所述第一光阻层曝光及显影处理；其中，图案化处理后的所述第一光阻层包括第一光阻区和第二光阻区，所述第一光阻区包括第一光阻子区域和第二光阻子区域，所述第二光阻区包括第三光阻子区域和第四光阻子区域，第一光阻子区域、第二光阻子区域、第三光阻子区域、及第四光阻子区域的厚度不相同。3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述第一光阻区包括一所述第一光阻子区域和两所述第二光阻子区域，所述第二光阻子区域位于所述第一光阻子区域的两侧；所述第二光阻区包括一所述第三光阻子区域和一所述第四光阻子区域，所述第三光阻子区域位于所述第四光阻子区域的一侧。4.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述第一光阻子区域的厚度大于所述第二光阻子区域的厚度；所述第三光阻子区域的厚度大于所述第四光阻子区域的厚度。5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，对所述有源层、所述第一绝缘层及所述第一金属层进行第一次蚀刻工艺的步骤包括：对所述第一金属层进行第一湿法蚀刻工艺，图案化处理后的所述第一金属层包括第一金属区和第二金属区；对所述第一绝缘层进行第一干法蚀刻工艺，图案化处理后的所述第一绝缘层包括第一绝缘区和第二绝缘区；对所述有源层进行第二湿法蚀刻工艺，图案化处理后的所述有源层包括第一有源...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐甲，任章淳，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44