【技术实现步骤摘要】
一种显示基板线路修补方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示基板线路修补方法。
技术介绍
TFT(薄膜晶体管)作为柔性OLED(有机发光二极管)显示屏的像素驱动电路，在显示屏结构中扮演着举足轻重的作用。由于柔性OLED器件由多层薄膜堆叠而成，有效显示区(AA区)的TFT的电学特性无法进行直接测试，主要借助于TEG区(TestElementGroup，测试单元组)的TFT来表征。TEG区的TFT是彼此独立的，而AA区的TFT是彼此互联的，又有周围物理因素(电容等)的影响，再加上工艺制成的不稳定性，TEG区的TFT很难真实地表征AA区TFT的特性，因此，对AA区的TFT进行线路修补对于FA分析、不良改善就显得尤为重要。目前，AA区进行TFT线路修补时，主要经过TFT定位、打孔、金属扎针盘(Pad)沉积等步骤，形成初步的源极、栅极、漏极扎针盘(Pad)，再将电学测试设备的三个手动探针(Pin)与TFT的源极、栅极和漏极扎针盘连接，来测试TFT的电学性质(如特性曲线)，以进行FA分析。作为TFT线路修补的第一步，对TFT线路修补位置进行清晰准确地定位是至关重要的...
【技术保护点】
1.一种显示基板线路修补方法，用于对显示基板上的薄膜晶体管进行线路修补；其特征在于，所述方法包括：提供一形成有像素驱动电路的基板样品，所述基板样品上的像素驱动电路包括薄膜晶体管及多种信号走线；利用光学显微镜，获取所述基板样品的光镜图像；利用双束聚焦离子束设备，获取所述基板样品的电镜图像；根据所述光镜图像与所述电镜图像，确定所述基板样品上待线路修补的薄膜晶体管的源极、漏极和栅极定位位置；在所述基板样品上对应所述待线路修补的薄膜晶体管的所述源极、所述漏极和所述栅极定位位置打孔；在所述源极、所述漏极和所述栅极打孔位置处分别沉积金属扎针盘，以进行线路修补；通过电学测试设备，利用所述...
【技术特征摘要】
1.一种显示基板线路修补方法，用于对显示基板上的薄膜晶体管进行线路修补；其特征在于，所述方法包括：提供一形成有像素驱动电路的基板样品，所述基板样品上的像素驱动电路包括薄膜晶体管及多种信号走线；利用光学显微镜，获取所述基板样品的光镜图像；利用双束聚焦离子束设备，获取所述基板样品的电镜图像；根据所述光镜图像与所述电镜图像，确定所述基板样品上待线路修补的薄膜晶体管的源极、漏极和栅极定位位置；在所述基板样品上对应所述待线路修补的薄膜晶体管的所述源极、所述漏极和所述栅极定位位置打孔；在所述源极、所述漏极和所述栅极打孔位置处分别沉积金属扎针盘，以进行线路修补；通过电学测试设备，利用所述金属扎针盘对线路修补后的薄膜晶体管进行电学测试。2.根据权利要求1所述的显示基板线路修补方法，其特征在于，所述方法中，所述提供一形成有像素驱动电路的基板样品，所述基板样品上的像素驱动电路包括薄膜晶体管及多种信号走线，具体包括：提供一衬底基板，在所述衬底基板上形成像素驱动电路的薄膜晶体管及多种信号走线；并将形成有像素驱动电路的衬底基板通过刻蚀液刻蚀至所述衬底基板上最上层的信号走线暴露，以得到所述基板样品。3.根据权利要求2所述的显示基板线路修补方法，其特征在于，所述方法中，所述提供一形成有像素驱动电路的基板样品，所述基板样品上的像素驱动电路包括薄膜晶体管及多种信号走线，具体包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成像素驱动电路的薄膜晶体管及多种信号走线，其中，在所述衬底基板上形成薄膜晶体管及多种信号走线的多层膜层时，直至制作至所述衬底基板最上层的信号走线所在膜层为止，以得到所述基板样品。4.根据权利要求1所述的显示基板线路修补方法，其特征在于，所述根据所述光镜图像与所述电镜图像，确定所述基板样品上待线路修补的薄膜晶体管的源极、漏极和栅极定位位置，具体包括：将所述光镜图像导入到所述双束聚焦离子束设备；将所述光镜图像与所述电镜图像进行粗对位；将所述电镜图像和所述光镜图像中的所述基板样品上的预设图像作为对位基准，将所述电镜图像与所述光镜图像进行精对位，使所述光镜图像与所述电镜图像进行完全重合，所述预设图像包括暴露于所述基板样品的表面上的信号走线图像和/或暴露于所述基板样品的表面上的过孔图像；调节所述光镜图像的透明度，直至所述光镜图像中所述薄膜晶体管的栅极、源极和漏极的图像清晰度达到第一预定值，并根据当前所述光镜图像...
【专利技术属性】
技术研发人员：包征，辛燕霞，李雪萍，胡红伟，吴奕昊，魏文浩，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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