液体处理装置及表面处理系统制造方法及图纸

一种液体处理装置及表面处理系统，表面处理系统包含液体处理装置，所述液体处理装置包括容器、第一隔板、以及第二隔板。所述容器界定出腔室，腔室底端处形成有位于相对两侧的进液口及出液口，且所述腔室顶端处形成有排气口。所述第一隔板设置于所述容器的腔室并邻近进液口，且第一隔板由腔室底面向上并朝腔室顶端处的方向斜向延伸。所述第二隔板设置于容器的腔室并邻近腔室顶端处，且第二隔板是由上往下延伸而使其最高点高于所述第一隔板的最高点，且所述第二隔板的最低点低于所述第一隔板的最高点。液体流经所述液体处理装置，溶解于液体中的含泡气体沿第一隔板上升而浮于液体表面，并被第二隔板留滞于腔室的顶端，含泡气体由排气口排出。

【技术实现步骤摘要】
液体处理装置及表面处理系统
本技术涉及一种液体处理装置，特别是涉及一种用于去除在液体管路中的液体内的含泡气体的液体处理装置。
技术介绍
一般来说，目前于半导体产业的制程中，在半导体晶圆或印刷电路板进行湿式处理的过程时，贮存于容置槽内例如用于湿式处理的液体药剂，会经由制程管路传输至处理室内，以对放置于处理室内的半导体晶圆或印刷电路板进行表面处理。然而，若所述液体药剂中含有含泡气体，会导致制程管路内的液体药剂的压力不足，因而影响浓度侦测器所测量到的液体药剂的浓度的准确性，或影响液体药剂的流量控制的稳定度，致使实际供应至处理室的液体药剂浓度或流量不精确，进而影响半导体晶圆或印刷电路板的质量及其制程良率。甚至，含有含泡气体的液体药剂更可能导致制程管路内的液体药剂的流量不均，让流量计误判流量值或者是侦测不到当前的液体药剂的流量，而导致设备机台停机的情况。
技术实现思路
因此，本技术的其中一目的，即于可供一种液体处理装置，以改善上述先前技术的缺点以及不足。于是，本技术液体处理装置在一些实施态样中，是包含容器、第一隔板，以及第二隔板。所述容器界定出腔室，所述腔室底端处形成有位于相对两侧的进液口及出液口本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液体处理装置；其特征在于：所述的液体处理装置包含：容器，界定出腔室，所述腔室底端处形成有位于相对两侧的进液口及出液口，且所述腔室顶端处形成有排气口；第一隔板，设置于所述容器的所述腔室并邻近所述进液口，且所述第一隔板由所述腔室底面向上并朝所述腔室顶端处的方向斜向延伸；及第二隔板，设置于所述容器的所述腔室并邻近所述腔室顶端处，且所述第二隔板是由上往下延伸而使其最高点高于所述第一隔板的最高点，且所述第二隔板的最低点低于所述第一隔板的所述最高点。

【技术特征摘要】
1.一种液体处理装置；其特征在于：所述的液体处理装置包含：容器，界定出腔室，所述腔室底端处形成有位于相对两侧的进液口及出液口，且所述腔室顶端处形成有排气口；第一隔板，设置于所述容器的所述腔室并邻近所述进液口，且所述第一隔板由所述腔室底面向上并朝所述腔室顶端处的方向斜向延伸；及第二隔板，设置于所述容器的所述腔室并邻近所述腔室顶端处，且所述第二隔板是由上往下延伸而使其最高点高于所述第一隔板的最高点，且所述第二隔板的最低点低于所述第一隔板的所述最高点。2.根据权利要求1所述的液体处理装置，其特征在于：所述第二隔板是朝向所述出液口的方向斜向延伸。3.根据权利要求1所述的液体处理装置，其特征在于：所述腔室具有底壁，所述第一隔板由所述底壁向上并朝所述腔室顶端处的方向斜向延伸。4.根据权利要求3所述的液体处理装置，其特征在于：所述腔室具有与所述底壁相对的顶壁，且所述第二隔板是由所述顶壁向下斜向延伸，且所述第二隔板远离于所述顶壁的一端朝向所述出液口的方向。5.根据权利要求3所述的液体处理装置，其特征在于：所述腔室具有由所述底壁的周缘向上延伸的围绕壁，且所述第二隔板连接于所述围绕壁的相反两侧并朝向所述出液口的方向向下斜向延伸。6.根据权利要求3所述的液体处理装置，其特征在于：所述进液口形成于所述腔室的所述底壁，且所述出液口形成于所述腔室的所述底壁的与所述进液口相对的另一侧。7.根据权利要求3所述的液体处理...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡文平，李威震，
申请(专利权)人：辛耘企业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71