一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备及其抛光方法技术

本发明专利技术公开了一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备及其抛光方法，其技术方案要点是：一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备，包括上料缸、下料缸，待抛光模具设置于上料缸与下料缸之间，所述上料缸与下料缸之间设置有用于抛光待抛光模具的流体介质，上料缸与下料缸之间设置有流体抛光芯块，所述流体抛光芯块与所述待抛光模具的抛光面之间留有供流体介质穿过的流道，流道在待抛光模具任意径向截面位置的面积均相等，所述流体介质匀速穿过流道，所述待抛光模具任意位置的抛光面受所述流体介质的压力相同。本发明专利技术达到保持流体介质在流道内匀速流动，实现高精度异型表面产品的均匀抛光，提高抛光的均匀性，并提高生产效率。

A Fluid Medium Equivalent Flow Velocity Polishing Equipment for Bevel Gear Mould and Its Polishing Method

The invention discloses a fluid medium equal velocity polishing equipment for bevel gear dies and a polishing method thereof. The technical scheme points are as follows: a fluid medium equal velocity polishing equipment for bevel gear dies, including a feeding cylinder and a feeding cylinder, a polishing die is arranged between the feeding cylinder and the feeding cylinder, and a fluid medium for polishing the waiting polishing die is arranged between the feeding cylinder and the feeding cylinder. A fluid polishing core is arranged between the feeding cylinder and the feeding cylinder, and a flow passage for the fluid medium is left between the fluid polishing core and the polishing surface of the polishing die to be polished. The area of the flow passage is equal at any radial section position of the polishing die, and the fluid medium passes through the flow passage at a uniform speed. The polishing surface at any position of the polishing die to be polished is subject to the pressure phase of the fluid medium. Same. The invention can keep the fluid medium flowing uniformly in the runner, realize uniform polishing of high precision profiled surface products, improve the uniformity of polishing, and improve the production efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备及其抛光方法
本专利技术涉及模具抛光领域，尤其涉及到一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备及其抛光方法。
技术介绍
在精密锻造模具的抛光加工中，通过流体介质完成成形模具的抛光，某种程度上，可以克服人工抛光时的高强度和不均匀性。流体介质抛光的原理是，根据给定的形状的产品，设计一个与该产品表面相同或相近的治具，然后将它们装配在一起，并设置一定的距离(间隙)，这样一来在产品与治具表面之间就形成了流体介质的流道，当流体介质(含有一定比例的金刚粉)在柱塞作用下，以一定的速度流过流道时，金刚粉的磨削作用就可以去除模具表面的放电层。相比人工抛光、固态介质抛光(粉状)等方法，对于复杂的曲面造型模具表面，流体介质的抛光具有一定的优势。如图1所示，以锥形模具及其治具表面为例，治具表面任一点到产品表面的垂直距离相等。即两个不同截面A和B，他们的间隙值t是相等的。但该设计方法对于轴向变截面的模具产品，变截面导致单位时间的流量不同，即通过该截面任一点的流体介质流速不同，导致模具表面任一点的蚀除量不同，最终造成了抛光不均匀，难于保证模具的高精度要求。因此，我们有必要对这样一种结构进行改善，以克服上述缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备及其抛光方法达到保持流体介质在流道内匀速流动，实现高精度异型表面产品的均匀抛光，提高抛光的均匀性，并提高生产效率。本专利技术的上述技术目的是通过以下技术方案实现的：一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备，包括上料缸、下料缸，待抛光模具设置于上料缸与下料缸之间，所述上料缸与下料缸之间设置有用于抛光待抛光模具的流体介质，上料缸与下料缸之间设置有流体抛光芯块，所述流体抛光芯块与所述待抛光模具的抛光面之间留有供流体介质穿过的流道，流道在待抛光模具任意径向截面位置的面积均相等，所述流体介质匀速穿过流道，所述待抛光模具任意位置的抛光面受所述流体介质的压力相同。本专利技术的进一步设置为：所述上料缸设置有抵接于待抛光模具的上支撑板，所述下料缸设置有抵接于待抛光模具的下支撑板，所述下支撑板设置有固定所述流体抛光芯块相对于待抛光模具位置的固定组件；所述固定组件包括设置于所述流体抛光芯块与所述下支撑板之间的垫块，所述流体抛光芯块、垫块及下支撑板之间穿设有螺栓，所述螺栓螺纹连接有固定流体抛光芯块相对位置的螺母。本专利技术的进一步设置为：一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光方法，包括如下步骤：(a)将流体介质放置于下料缸，将待抛光模具放置下支撑板，并使用螺栓将流体抛光芯块、垫块固定于下支撑板上，上支撑板覆于待抛光模具上端面，流体抛光芯块与待抛光模具之间形成有供流体介质穿过的流道；(b)预设上料缸与下料缸之间的模腔压力，并设定流体介质在上料缸与下料缸之间往复流动次数；(c)上料缸下压至上支撑板，使得上料缸与下料缸之间形成闭合腔体；(d)下料缸将流体介质顶出，流体介质流经流体抛光芯块与待抛光模具之间的流道后进入上料缸；然后上料缸将流体介质压下，流体介质流经流体抛光芯块与待抛光模具之间的流道后进入下料缸，如此反复流动，进行抛光；(e)完成抛光后，停止流体抛光设备，抬起上料缸，取出抛光后的模具；在步骤(a)中，流体抛光芯块与待抛光模具之间流道在待抛光模具任意径向截面位置的面积均相等，所述流体介质匀速流过流道任意截面位置。综上所述，本专利技术具有以下有益效果：1)通过流道在待抛光模具任意径向截面位置的面积均相等，即实现等截面流道，可以达到保持流体介质匀速流过流道，实现均匀抛光，提高抛光待抛光模具的精度；2)通过螺栓及螺母，方便拆装流体抛光芯块，并且便于更换待抛光模具；3)通过伞齿轮模具流体介质等流速抛光方法达到便于抛光伞齿轮精锻模具，并提高抛光伞齿轮精锻模具的精度，并且通过流道不同截面位置的周长C与相应的流道间隙t的乘积来确定流道不同截面位置的面积，确保实现等截面流道，从而实现流体介质匀速流过流道，均匀抛光伞齿轮精锻模具。附图说明图1是现有技术的剖视图；图2是实施例一的剖视图；图3是图2中A-A的截面图；图4是图2中B-B的截面图；图5是实施例二的流程图；图6是圆环形流道的示意图；图7是矩环形流道的示意图；图8是不规则流道的示意图。图中数字所表示的相应部件名称：1、上料缸；2、上支撑板；3、流体抛光芯块；4、待抛光模具；5、垫块；6、下支撑板；7、螺母；8、螺栓；9、流体介质；10、下料缸。具体实施方式为了使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合图示与具体实施例，进一步阐述本专利技术。实施例一：如图1至图4所示，本专利技术提出的一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备，包括上料缸1、下料缸10，待抛光模具4安装于上料缸1与下料缸10之间，其中待抛光模具4为伞齿轮精锻模具。上料缸1与下料缸10之间设置有用于抛光待抛光模具4的流体介质9，在上料缸1与下料缸10之间安装有流体抛光芯块3，流体抛光芯片侧壁靠近于待抛光模具4的抛光面，并且流体抛光芯块3与待抛光模具4的抛光面之间留有供流体介质9穿过的流道，流道呈环状设置。流道在待抛光模具4任意径向截面位置的面积均相等，即流体介质9在待抛光模具4任意径向截面位置的流量相同，从而保持流体介质9匀速流过流道，并保持待抛光模具4任意位置的抛光面受到的流体介质9的压力相同。这样通过流道在待抛光模具4任意径向截面位置的面积均相等，即实现等截面流道，可以达到保持流体介质9匀速流过流道，实现均匀抛光，提高抛光待抛光模具4的精度。为了方便固定待抛光模具4及流体抛光芯块3，上料缸1与待抛光模具4之间安装有上支撑板2，在下料缸10与待抛光模具4之间安装有下支撑板6，通过上料缸1、上支撑板2、待抛光模具4、下支撑板6及下料缸10形成闭合腔体；并且下支撑板6设置有固定流体抛光芯块3相对位置的固定组件，固定组件包括设置于流体抛光芯块3与下支撑板6之间的垫块5，流体抛光芯块3、垫块5以及下支撑板6之间穿设有螺栓8，螺栓8螺纹连接有螺母7，通过螺栓8及螺母7将流体抛光芯块3、垫块5固定于下支撑板6。通过螺栓8及螺母7，方便拆装流体抛光芯块3，并且便于更换待抛光模具4。为实现流体介质9在流道内等速流动，通过对流体抛光芯块3结构设计，使得流道在产品型腔范围内轴线方向各个截面的面积保持恒定。实施例二：如图5所示，利用实施例一所述的伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备的抛光方法，包括如下步骤：(a)将流体介质9放置于下料缸10，将待抛光模具4放置于下支撑板6，并使用螺栓8将流体抛光芯块3、垫块5固定于下支撑板6上，上支撑板2覆于模具上端面，流体抛光芯块3与待抛光模具4之间形成有供流体介质9穿过的流道；(b)预设上料缸1与下料缸10之间的模腔压力，并设定流体介质9在上料缸1与下料缸10之间往复流动次数；(c)上料缸1下压至上支撑板2，使得上料缸1与下料缸10之间形成闭合腔体；(d)下料缸10将流体介质9顶出，流体介质9流经流体抛光芯块3与待抛光模具4之间的流道后进入上料缸1；然后上料缸1将流体介质9压下，流体介质9流经流体抛光芯块3与待抛光模具4之间的流道后进入下料缸10，如此反复流动，进行抛光；(e)完成抛光后，停止流体抛光机，抬起上料缸1，取出抛光后的产品；在步本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备，包括上料缸(1)、下料缸(10)，待抛光模具(4)设置于上料缸(1)与下料缸(10)之间，所述上料缸(1)与下料缸(10)之间设置有用于抛光待抛光模具(4)的流体介质(9)，其特征在于：上料缸(1)与下料缸(10)之间设置有流体抛光芯块(3)，所述流体抛光芯块(3)与所述待抛光模具(4)的抛光面之间留有供流体介质(9)穿过的流道，流道在待抛光模具(4)任意径向截面位置的面积均相等，所述流体介质(9)匀速穿过流道，所述待抛光模具(4)任意位置的抛光面受所述流体介质(9)的压力相同。

【技术特征摘要】
1.一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备，包括上料缸(1)、下料缸(10)，待抛光模具(4)设置于上料缸(1)与下料缸(10)之间，所述上料缸(1)与下料缸(10)之间设置有用于抛光待抛光模具(4)的流体介质(9)，其特征在于：上料缸(1)与下料缸(10)之间设置有流体抛光芯块(3)，所述流体抛光芯块(3)与所述待抛光模具(4)的抛光面之间留有供流体介质(9)穿过的流道，流道在待抛光模具(4)任意径向截面位置的面积均相等，所述流体介质(9)匀速穿过流道，所述待抛光模具(4)任意位置的抛光面受所述流体介质(9)的压力相同。2.根据权利要求1所述的一种伞齿轮模具流体介质等流速抛光设备，其特征在于：所述上料缸(1)设置有抵接于待抛光模具(4)的上支撑板(2)，所述下料缸(10)设置有抵接于待抛光模具(4)的下支撑板(6)，所述下支撑板(6)设置有固定所述流体抛光芯块(3)相对于待抛光模具(4)位置的固定组件；所述固定组件包括设置于所述流体抛光芯块(3)与所述下支撑板(6)之间的垫块(5)，所述流体抛光芯块(3)、垫块(5)及下支撑板(6)之间穿设有螺栓(8)，所述螺栓(8)螺纹连接有固定流体抛光芯块(3)相对位置的螺母(7)。3.一...

【专利技术属性】
技术研发人员：王欣，刘加亮，陈志英，辛绍杰，张栋，牛龙江，刘钊，刘鹏，钱燕红，
申请(专利权)人：上海电机学院，江苏飞船股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31