一种简便有效可防止液体回流的底座制造技术

本实用新型专利技术提供一种简便有效可防止液体回流的底座，包括吸盘机构、底座、旋转机构和挡水机构，旋转机构包括旋转台和驱动单元，底座的中心位置设置有中心孔，挡水机构包括固定架、调整单元和挡水板块。在底座上安装一个挡水机构，将晶圆吸附在吸盘机构上，进而通过旋转机构驱动吸盘机构转动。因此，使得晶圆进行旋转清洗，若有清洗液回流至晶圆的背面，通过挡水机构会将导流至挡水板块上，继而通过固定架将清洗液引导至底座的外部，有效的避免清洗液回流至晶圆背面，保证晶圆的清洗效率，同时提高底座的使用寿命。

A simple and effective base to prevent liquid reflux

The utility model provides a simple and effective base which can prevent liquid reflux, including a sucker mechanism, a base, a rotating mechanism and a water retaining mechanism. The rotating mechanism includes a rotating platform and a driving unit. The central position of the base is provided with a central hole, and the water retaining mechanism includes a fixing frame, an adjusting unit and a water retaining plate. A water retaining mechanism is installed on the base, and the wafer is adsorbed on the sucker mechanism, and then the sucker mechanism is driven to rotate by the rotating mechanism. Therefore, the wafer is rotated and cleaned. If the cleaning fluid is returned to the back of the wafer, it will be diverted to the water-retaining plate through the water-retaining mechanism, and then the cleaning fluid will be guided to the outside of the base through the fixture, effectively avoiding the reflux of the cleaning fluid to the back of the wafer, ensuring the cleaning efficiency of the wafer and improving the service life of the base.

【技术实现步骤摘要】
一种简便有效可防止液体回流的底座
本技术涉及机械结构领域，尤其涉及一种简便有效可防止液体回流的底座。
技术介绍
在制作晶圆的工序中，其中一道工序需要对晶圆的正面进行清洗，在进行旋转清洗的过程中，有部分清洗液会回流到晶圆的背面造成脏污，进而还会导致清洗的机台进水，使得机台的使用寿命降低，造成生产成本较高。
技术实现思路
为此，需要提供一种简便有效可防止液体回流的底座，解决现有晶圆清洗机台具有清洗液回流至晶圆背面的问题。为实现上述目的，专利技术人提供了一种简便有效可防止液体回流的底座，包括吸盘机构、底座、旋转机构和挡水机构；所述旋转机构包括旋转台和驱动单元，所述底座的中心位置设置有中心孔，吸盘机构的导管设置在中心孔内，吸盘机构设置在旋转台上，驱动单元设置在旋转台的底面上；所述挡水机构包括固定架、调整单元和挡水板块，固定架设置在底座的顶面上，固定架位于底座的中心孔的一侧，调整单元设置在固定架上，挡水板块设置在调整单元上；所述吸盘机构的顶面相对于底座之间的间距大于挡水机构的顶面相对于底座之间的间距，挡水机构用于阻挡位于吸盘上的晶圆的清洗液回流至晶圆的底面和/或流入底座内。进一步地，所述调整单元包括螺栓和弹簧，所述固定架的顶面设置有螺纹孔，挡水板块设置在螺栓上，螺栓设置在螺纹孔内，所述弹簧套设在螺栓上，且弹簧位于挡水板块与固定架之间。进一步地，所述吸盘机构包括吸盘、真空泵和导管，吸盘设置在导管一端的端口上，导管套设于底座的中心孔内，导管的另一端与真空泵的吸气口管连接设置，真空泵设置在旋转台上。进一步地，所述导管与底座的中心孔之间设置有轴承。进一步地，所述吸盘机构的顶面与挡水机构的顶面之间的间距为0.69mm～0.71mm。区别于现有技术，上述技术方案在底座上安装一个挡水机构，将晶圆吸附在吸盘机构上，进而通过旋转机构驱动吸盘机构转动。因此，使得晶圆进行旋转清洗，若有清洗液回流至晶圆的背面，通过挡水机构会将导流至挡水板块上，继而通过固定架将清洗液引导至底座的外部，有效的避免清洗液回流至晶圆背面，保证晶圆的清洗效率，同时提高底座的使用寿命。附图说明图1为具体实施方式所述的简便有效可防止液体回流的底座的剖视图。附图标记说明：10、吸盘机构；101、吸盘；102、真空泵；103、导管；11、底座；111、中心孔；112、轴承；12、旋转机构；121、旋转台；122、驱动单元；13、挡水机构；131、固定架；132、调整单元；133、挡水板块；1321、螺栓；1322、弹簧；1323、螺纹孔；具体实施方式为详细说明技术方案的
技术实现思路
、构造特征、所实现目的及效果，以下结合具体实施例并配合附图详予说明。请参阅图1，本实施例提供一种简便有效可防止液体回流的底座，包括吸盘机构10、底座11、旋转机构12和挡水机构13；所述旋转机构包括旋转台121和驱动单元122，驱动单元可以为伺服电机，所述底座的中心位置设置有中心孔111，吸盘机构的导管设置在中心孔内，吸盘机构设置在旋转台上，驱动单元设置在旋转台的底面上；所述挡水机构包括固定架131、调整单元132和挡水板块133，固定架设置在底座的顶面上，固定架位于底座的中心孔的一侧，调整单元设置在固定架上，挡水板块设置在调整单元上；所述吸盘机构的顶面相对于底座之间的间距大于挡水机构的顶面相对于底座之间的间距，挡水机构用于阻挡位于吸盘上的晶圆的清洗液回流至晶圆的底面和/或流入底座内。本实施例中在底座上安装一个挡水机构，通过挡水机构将回流至晶圆背面水滴状的清洗液导流至底座外部，首先避免清洗液脏污晶圆背面，其次避免清洗液滴入底座内，导致底座内部零件进水生锈或电线短路等等情况，有效的解决清洗液在清洗晶圆时，清洗液回流至晶圆背面的情况。具体的，使用吸盘机构将晶圆吸附晶圆，再开启旋转机构带动吸盘机构旋转，进而使得晶圆转动，此时将清洗液喷向晶圆正面上，通过离心作用对晶圆进行清洗，然而清洗液仍会有部分回流至晶圆背面形成水滴。因此，通过挡水机构会将该水滴导流至挡水板块上，因为挡水板块的横截面为斜面的环形板或L字型面的环形板，所以清洗液通过挡水板块朝外导流，继而通过固定架将清洗液引导至底座的外部，固定架液位环形板，其横截面也可以为斜面形状或弧面形状，因此可以将清洗液引导至底座的外部，使得清洗液不会对晶圆背面造成脏污，以及滴入底座内部形成损坏，有效的提高了底座的使用寿命。为了能够有效阻挡清洗液回流，挡水板块可以通过调整单元在一定范围内调整距离晶圆的间距，因此在不接触晶圆的同时，有效的将清洗液导流至挡水板块上。具体的，本实施例中吸盘机构的顶面与挡水机构的顶面之间的间距为0.69mm～0.71mm，即挡水板块与晶圆之间的间距为0.69mm～0.71mm。由于水滴具有的张力和吸附性，在该范围内可以有效的将水滴导流至挡水板块上。而调整单元可以设置多个，通过多个调整单元调整环形的挡水板块，为了协同多个调整单元的调整，本实施例中，调整单元包括螺栓1321和弹簧1322，所述固定架的顶面设置有螺纹孔1323，挡水板块设置在螺栓上，螺栓设置在螺纹孔内，所述弹簧套设在螺栓上，且弹簧位于挡水板块与固定架之间。螺栓上的螺纹可以为矩形螺纹或60度角的螺纹。通过弹簧和螺栓将挡水板块固定在固定架的同时，可以调整挡水板块的高度，弹簧和螺栓的组数可以设置三组，因此通过设定螺栓转动的圈数调整挡水板块的高度，而螺距为0.01mm，因此使得调整精度达到0.01mm，弹簧可以有效的避免挡水板块回落，同时挡水板块可以采用塑料进行制作，有效的降低挡水板块的重量，提高挡水机构的实用性。本实施例中所述吸盘机构包括吸盘101、真空泵102和导管103，吸盘设置在导管一端的端口上，导管套设于底座的中心孔内，导管的另一端与真空泵的吸气口管连接设置，真空泵设置在旋转台上。所述导管与底座的中心孔之间设置有轴承112。通过真空泵抽真空，使得吸盘稳固的吸附晶圆，避免晶圆飞离吸盘，使得产品损坏，导管可以为硬质类材质的管道，例如不锈钢管。因此通过轴承与底座的中心孔配合，使得导管可以随着旋转台转动，保证清洗的正常运行。需要说明的是，尽管在本文中已经对上述各实施例进行了描述，但并非因此限制本技术的专利保护范围。因此，基于本技术的创新理念，对本文所述实施例进行的变更和修改，或利用本技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，直接或间接地将以上技术方案运用在其他相关的
，均包括在本技术专利的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种简便有效可防止液体回流的底座，其特征在于：包括吸盘机构、底座、旋转机构和挡水机构；所述旋转机构包括旋转台和驱动单元，所述底座的中心位置设置有中心孔，吸盘机构的导管设置在中心孔内，吸盘机构设置在旋转台上，驱动单元设置在旋转台的底面上；所述挡水机构包括固定架、调整单元和挡水板块，固定架设置在底座的顶面上，固定架位于底座的中心孔的一侧，调整单元设置在固定架上，挡水板块设置在调整单元上；所述吸盘机构的顶面相对于底座之间的间距大于挡水机构的顶面相对于底座之间的间距，挡水机构用于阻挡位于吸盘上的晶圆的清洗液回流至晶圆的底面和/或流入底座内。

【技术特征摘要】
1.一种简便有效可防止液体回流的底座，其特征在于：包括吸盘机构、底座、旋转机构和挡水机构；所述旋转机构包括旋转台和驱动单元，所述底座的中心位置设置有中心孔，吸盘机构的导管设置在中心孔内，吸盘机构设置在旋转台上，驱动单元设置在旋转台的底面上；所述挡水机构包括固定架、调整单元和挡水板块，固定架设置在底座的顶面上，固定架位于底座的中心孔的一侧，调整单元设置在固定架上，挡水板块设置在调整单元上；所述吸盘机构的顶面相对于底座之间的间距大于挡水机构的顶面相对于底座之间的间距，挡水机构用于阻挡位于吸盘上的晶圆的清洗液回流至晶圆的底面和/或流入底座内。2.根据权利要求1所述的一种简便有效可防止液体回流的底座，其特征在于：所述调整...

【专利技术属性】
技术研发人员：汤建兴，许哲维，
申请(专利权)人：福建省福联集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：福建,35