微型发光元件结构制造技术

本发明专利技术提供一种微型发光元件结构，包括基板、至少一微型发光元件、固定结构以及至少一缓冲结构。微型发光元件配置于基板上，且微型发光元件与基板之间具有垂直距离。固定结构配置于基板上且直接接触微型发光元件。缓冲结构直接接触固定结构，其中缓冲结构的杨氏模量小于固定结构的杨氏模量。

Structure of Micro Light Emitting Elements

The invention provides a structure of a micro light-emitting element, including a substrate, at least one micro light-emitting element, a fixed structure and at least one buffer structure. The micro-light-emitting elements are arranged on the substrate, and there is a vertical distance between the micro-light-emitting elements and the substrate. The fixed structure is arranged on the substrate and directly contacts the micro light-emitting elements. The Young's modulus of the buffer structure is smaller than that of the fixed structure.

【技术实现步骤摘要】
微型发光元件结构
本专利技术涉及一种半导体结构，尤其涉及一种微型发光元件结构。
技术介绍
目前微型发光二极管的转移主要是提供静电力或磁力等超距力的方式，将载体基板上的微型发光二极管转板至接收基板上。一般来说，发光二极管会提供固定结构来固持而使微型发光二极管较容易自载体基板上拾取并运输与转移至接收基板上放置，且通过固定结构来巩固微型发光二极管于转板时不会受到其他外因而影响质量。然而，由于固定结构本身的材料脆性的问题，使得固定结构在固持微型发光二极管运输与转移的过程中容易因受到的外力而脆裂，致使微型发光二极管的运输与转移的良率下降。如何让微型固定结构可以暂时地固持微型发光二极管，且可以更轻易且更有效率地运输与转移微型发光二极管于载体基板与接收基板之间，已成为目前业界相当重视的课题之一。
技术实现思路
本专利技术提供一种微型发光元件结构，其具有直接接触固定结构的缓冲结构，可有效提升微型发光元件的运输与转移的良率。本专利技术的微型发光元件结构，其包括基板、至少一微型发光元件、固定结构以及至少一缓冲结构。微型发光元件配置于基板上，且微型发光元件与基板之间具有垂直距离。固定结构配置于基板上且直接接触微型发光元件。缓冲结构直接接触固定结构，其中缓冲结构的杨氏模量小于固定结构的杨氏模量。在本专利技术的一实施例中，上述的固定结构的最大形变量小于微型发光元件与基板之间的垂直距离。在本专利技术的一实施例中，上述的微型发光元件具有彼此相对的第一表面与第二表面以及连接第一表面与第二表面的周围表面，第一表面面对基板，而第二表面相对远离基板，固定结构从周围表面往基板的方向延伸配置于基板上。在本专利技术的一实施例中，上述的固定结构与基板具有间距，缓冲结构包括多个缓冲结构，位于固定结构与基板的间距之间且直接接触基板以及固定结构，而微型发光元件、缓冲结构以及基板定义出空气间隙。在本专利技术的一实施例中，上述的缓冲结构直接接触微型发光元件的至少部分周围表面或/和至少部分第一表面。在本专利技术的一实施例中，上述的固定结构直接接触基板，缓冲结构包括多个缓冲结构，位于固定结构与基板间且直接接触基板以及固定结构，而微型发光元件、缓冲结构以及基板定义出空气间隙。在本专利技术的一实施例中，上述的缓冲结构直接接触微型发光元件的至少部分周围表面或/和至少部分第一表面。在本专利技术的一实施例中，上述的微型发光元件结构还包括应力缓冲结构，配置于微型发光元件与基板间且至少直接接触微型发光元件、缓冲结构、基板或上述的组合，应力缓冲结构于基板上的正投影面积小于微型发光元件于基板上的正投影面积。在本专利技术的一实施例中，上述的应力缓冲结构的杨氏模量小于缓冲结构的杨氏模量。在本专利技术的一实施例中，上述的缓冲结构直接接触固定结构、基板以及微型发光元件，且固定结构、微型发光元件以及基板定义出配置区，而缓冲结构填满配置区。在本专利技术的一实施例中，上述的固定结构从周围表面更延伸配置于微型发光元件的至少部分第二表面上。在本专利技术的一实施例中，上述的固定结构与第二表面的接触面积与第二表面的表面积的比值介于0.05至0.5。在本专利技术的一实施例中，上述的固定结构连续地配置于微型发光元件的第二表面。在本专利技术的一实施例中，上述的固定结构暴露出微型发光元件的部分第二表面。在本专利技术的一实施例中，上述的每一固定结构配置于微型发光元件的第二表面上的第一宽度与微型发光元件的第二表面的第二宽度的比值介于0.1至0.8之间。在本专利技术的一实施例中，上述的缓冲结构包括多个缓冲结构，配置于固定结构、微型发光元件与基板之间且直接接触固定结构、微型发光元件与基板，每一缓冲结构在垂直剖面上的高度等于微型发光元件在垂直剖面上从第二表面到基板的高度。在本专利技术的一实施例中，上述的缓冲结构包括多个缓冲结构，覆盖固定结构与基板，固定结构位于微型发光元件与缓冲结构之间，而固定结构、微型发光元件以及基板定义出空气间隙。在本专利技术的一实施例中，上述的固定结构直接接触至少部分周围表面。在本专利技术的一实施例中，上述的固定结构与周围表面的接触面积与周围表面的表面积的比值介于0.05至0.5。在本专利技术的一实施例中，上述的固定结构的顶面切齐于微型发光元件的第二表面。在本专利技术的一实施例中，上述的微型发光元件包括二个微型发光元件，固定结构位于此些微型发光元件之间。基于上述，在本专利技术的微型发光元件结构的设计中，固定结构配置于基板上且直接接触微型发光元件，且缓冲结构直接接触于固定结构，其中缓冲结构的杨氏模量小于固定结构的杨氏模量。藉此，可使得微型发光元件在不同的基板之间的运输与转移时，可由固定结构提供具有良好的固定与支撑，而由缓冲结构提供固定结构良好的缓冲性。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。附图说明图1A示出为本专利技术的一实施例的微型发光元件结构的剖面示意图。图1B至图1H示出为本专利技术的多个实施例的微型发光元件结构的剖面示意图。图1I示出为本专利技术的另一实施例的微型发光元件结构的剖面示意图。图2A示出为图1A的微型发光元件结构的俯视示意图。图2B示出为图1G的微型发光元件结构的俯视示意图。图2C至图2H示出为本专利技术的多个实施例的微型发光元件结构的俯视示意图。图2I示出为本专利技术的另一实施例的微型发光元件结构的俯视示意图。附图标号说明100a、100b、100c、100d、100e、100f、100g、100h、100i、200c、200d、200e、200f、200g、200h、200i：微型发光元件结构120：基板140、140a1、140a2：微型发光元件142：第一表面144：第二表面146：周围表面150：应力缓冲层160a、160d、160f、160g、160h、160i、260c、260d、260e、260f、260g、260h、260i：固定结构162g、164g、262c、262e、262f、262g、264c、264e、264f、264g、266e、266f、268e：子固定结构180a、180b、180d、180e、180f、180g、180h、182a、182b、182d、182e、182f、182g、182h、184a、184b、184d、184e、184f、184g、184h：缓冲结构A1：配置区A-A’、B-B’：剖线C1、C2、C3、C4：角落G：间距G1、G2、G4、G5、G6：空气间隙G3：间隙H1：垂直距离H2、H3：垂直高度S1、S2：顶面SD1、SD2、SD3、SD4：边缘W1、W2：宽度W3：第二宽度具体实施方式图1A示出为本专利技术的一实施例的微型发光元件结构的剖面示意图。图2A示出为图1A的微型发光元件结构的俯视示意图。在此需说明的是，图1A的微型发光元件结构100a是沿图2A的A-A’剖线所示出，且为了方便说明起见，图2A中省略示出部分构件。请先参照图1A，本实施例的微型发光元件结构100a包括基板120、至少一微型发光元件140、固定结构160a以及至少一缓冲结构180a。微型发光元件140配置于基板120上，且微型发光元件140与基板120之间具有垂直距离H1。固定结构160a配置于基板120上且直接接触微型发光元件140。缓冲结构180a直接接触固定结构160a，其中缓冲结构180a的杨氏模量小于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微型发光元件结构，其特征在于，包括：基板；至少一微型发光元件，配置于所述基板上，且所述至少一微型发光元件与所述基板之间具有垂直距离；固定结构，配置于所述基板上且直接接触所述至少一微型发光元件；以及至少一缓冲结构，直接接触所述固定结构，其中所述至少一缓冲结构的杨氏模量小于所述固定结构的杨氏模量。

【技术特征摘要】
1.一种微型发光元件结构，其特征在于，包括：基板；至少一微型发光元件，配置于所述基板上，且所述至少一微型发光元件与所述基板之间具有垂直距离；固定结构，配置于所述基板上且直接接触所述至少一微型发光元件；以及至少一缓冲结构，直接接触所述固定结构，其中所述至少一缓冲结构的杨氏模量小于所述固定结构的杨氏模量。2.根据权利要求1所述的微型发光元件结构，其特征在于，所述固定结构的最大形变量小于所述至少一微型发光元件与所述基板之间的所述垂直距离。3.根据权利要求1所述的微型发光元件结构，其特征在于，所述至少一微型发光元件具有彼此相对的第一表面与第二表面以及连接所述第一表面与所述第二表面的周围表面，所述第一表面面对所述基板，而所述第二表面相对远离所述基板，所述固定结构从所述周围表面往所述基板的方向延伸配置于所述基板上。4.根据权利要求3所述的微型发光元件结构，其特征在于，所述固定结构与所述基板具有间距，所述至少一缓冲结构包括多个缓冲结构，位于所述固定结构与所述基板的所述间距之间且直接接触所述基板以及所述固定结构，而所述至少一微型发光元件、所述多个缓冲结构以及所述基板定义出空气间隙。5.根据权利要求4所述的微型发光元件结构，其特征在于，所述多个缓冲结构直接接触所述至少一微型发光元件的至少部分所述周围表面或/和至少部分所述第一表面。6.根据权利要求3所述的微型发光元件结构，其特征在于，所述固定结构直接接触所述基板，所述至少一缓冲结构包括多个缓冲结构，位于所述固定结构与所述基板间且直接接触所述基板以及所述固定结构，而所述至少一微型发光元件、所述多个缓冲结构以及所述基板定义出空气间隙。7.根据权利要求6所述的微型发光元件结构，其特征在于，所述多个缓冲结构直接接触所述至少一微型发光元件的至少部分所述周围表面或/和至少部分所述第一表面。8.根据权利要求3所述的微型发光元件结构，其特征在于，所述微型发光元件结构还包括：应力缓冲结构，配置于所述至少一微型发光元件与所述基板间且至少直接接触所述至少一微型发光元件、所述多个缓冲结构、所述基板或上述的组合，所述应力缓冲结构于所述基板上的正投影面积小于所述至少一微型发光元件于所述基板上的正投影面积。9.根据权利要求8项所述的微型发光元件结构，其特征在于，所述应力缓冲结构的杨氏模量小于所述多个缓冲结构的杨氏模量。10.根据权利要求3所述的微型发光...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗玉云，吴志凌，苏义闵，
申请(专利权)人：英属开曼群岛商錼创科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：开曼群岛,KY