The invention relates to a polishing device, which comprises a polishing unit for polishing the outer ring of a bearing, a feeding unit for feeding to the polishing unit and a aggregate unit for unloading the polished outer ring of a bearing. The polishing unit consists of various polishing devices, and the polishing device is arranged in an arrangement. The feeding unit and the aggregate unit are arranged on both sides of the polishing unit. Through the polishing device, the continuous polishing of the bearing outer ring can be realized, and the production efficiency can be improved.
【技术实现步骤摘要】
抛光装置
本专利技术涉及轴承加工领域，具体涉及一种抛光装置。
技术介绍
锻造的钢圈作为加工轴承的内外、圈的坯件，轴承厂采购的坯件需要进行抛光处理。传统抛光处理是操作人员在抛光设备的一侧投加轴承外圈坯料，经过抛光的轴承外圈坯料由另一侧的操作人员进行收集，这样一台抛光设备就需要两个操作人员进行操作，而单台设备的抛光速率有限，因此，劳动力利用率低，因此，有必要针对上述问题进行解决。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种抛光装置，其可以实现对轴承外圈的连续抛光加工。本专利技术采取的技术方案具体如下。一种抛光装置，其特征在于：包括对轴承外圈进行抛光的抛光单元、用于向抛光单元进料的进料单元以及用于将抛光后的轴承外圈进行卸料的集料单元，抛光单元由各抛光装置组成，抛光装置呈排列状布置，进料单元和集料单元分置于抛光单元的两侧。具体的方案为：抛光装置包括抛光机构，抛光机构包括抛光砂轮和导轮，抛光砂轮和导轮平行相对布置，轴承外圈夹合在抛光砂轮与导轮之间，抛光砂轮对轴承的外圈进行抛光，轴承外圈沿着导轮的长度方向进行移动。抛光机构的两外侧设置B、C对辊送料机构，B对辊送料机构、抛光机构、C...
【技术保护点】
1.一种抛光装置，其特征在于：包括对轴承外圈进行抛光的抛光单元、用于向抛光单元进料的进料单元以及用于将抛光后的轴承外圈进行卸料的集料单元，抛光单元由各抛光装置组成，抛光装置呈排列状布置，进料单元和集料单元分置于抛光单元的两侧。
【技术特征摘要】
1.一种抛光装置，其特征在于：包括对轴承外圈进行抛光的抛光单元、用于向抛光单元进料的进料单元以及用于将抛光后的轴承外圈进行卸料的集料单元，抛光单元由各抛光装置组成，抛光装置呈排列状布置，进料单元和集料单元分置于抛光单元的两侧。2.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于：抛光装置包括抛光机构，抛光机构包括抛光砂轮和导轮，抛光砂轮和导轮平行相对布置，轴承外圈夹合在抛光砂轮与导轮之间，抛光砂轮对轴承的外圈进行抛光，轴承外圈沿着导轮的长度方向进行移动。3.根据权利要求2所述的抛光装置，其特征在于：抛光机构的两外侧设置B、C对辊送料机构，B对辊送料机构、抛光机构、C对辊送料机构依次顺延布置，A、B、C、D对辊送料机构送料原理相同，B对辊送料机构由B1进料辊和B2进料辊组成，B1、B2进料辊由同步驱动机构驱动同向转动。4.根据权利要求3所述的抛光装置，其特征在于：抛光砂轮浮动或调节式安装在机架上。5.根据权利要求3所述的抛光装置，其特征在于：抛光砂轮的旁侧设置有用于撒布冷却液的喷液装置。6.根据权利要求5所述的抛光装置，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯严，何再俊，张武新，陈松，
申请(专利权)人：合肥捷鑫轴承有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34
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