基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片数控抛光方法技术

本发明专利技术公开了基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片数控抛光方法，包括以下步骤：1）配置高配比抛光液，作为抛光液新料；2）采用循环抛光对蓝宝石晶片表面进行研磨抛光；3）将一次循环研磨抛光产生的剩余抛光液回收处理，作为抛光液旧料；4）在下次循环研磨抛光过程中，根据抛光液新料的挥发量添加抛光液旧料进行补液；所述高配比抛光液包括有抛光原液和水；所述高配比抛光液由抛光原液和水按照1：n的体积比均匀混合后得到；n的取值范围为1‑3；本发明专利技术所采取的技术方案解决了目前LED用蓝宝石晶片抛光的方法使得单片抛光成本偏高以及结晶程度较高导致不容易清洗打扫的问题。

【技术实现步骤摘要】
基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片数控抛光方法
本专利技术涉及LED用蓝宝石晶片抛光
，具体涉及一种基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片数控抛光方法。
技术介绍
蓝宝石α-Al2O3单晶体具有优良的光学、力学、热学、介电、耐腐蚀等性能，随着市场竞争的不断加大，如何生产出性能和价格都更合适的产品，才能抢占市场的先机，所以在保证质量的同时，成本优势就尤为重要，为了控制加工成本，需要在原材辅料上进行不断地优选改进，而对于抛光来说，抛光液成本是最高的一项，如何缩减抛光液的使用成本，成为必须攻克的难题；目前，蓝宝石晶片抛光使用的抛光液主要是氧化硅抛光液，购买的都是抛光原液，成本都较高，使用方法也都是采用1（原液）:1（水）的体积进行混合配比，但用下来单片抛光成本偏高，随着竞争的加剧，过高的成本很难抢占市场，且采用1：1的体积比混合使用结晶程度较高导致不容易清洗打扫的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片抛光方法，解决目前LED用蓝宝石晶片抛光的方法使得单片抛光成本偏高以及结晶程度较高导致不容易清洗打扫的问题。为解决上述的技术问题，本专利技术采本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片数控抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：1）配置高配比抛光液，作为抛光液新料；2）采用循环抛光对蓝宝石晶片表面进行研磨抛光；3）将一次循环研磨抛光产生的剩余抛光液回收处理，作为抛光液旧料；4）在下次循环研磨抛光过程中，根据抛光液新料的挥发量添加抛光液旧料进行补液。

【技术特征摘要】
1.一种基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片数控抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：1）配置高配比抛光液，作为抛光液新料；2）采用循环抛光对蓝宝石晶片表面进行研磨抛光；3）将一次循环研磨抛光产生的剩余抛光液回收处理，作为抛光液旧料；4）在下次循环研磨抛光过程中，根据抛光液新料的挥发量添加抛光液旧料进行补液。2.根据权利要求1所述的基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片数控抛光方法，其特征在于：所述高配比抛光液包括有抛光原液和水；所述高配比抛光液由抛光原液和水按照1：n的体积比均匀混合后得到；n的取值范围为1-3。3.根据权利要求2所述的基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片数控抛光方法，其特征在于：所述抛光原液的粒径范围为80nm-126nm；所述抛光原液中的颗粒物质均为多棱角结构。4.根据权利要求1所述的基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片数控抛光方法，其特征在于：所述对...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴康，邓源，黄微，
申请(专利权)人：云南蓝晶科技有限公司，
类型：发明
国别省市：云南,53