一种带有自吸喷淋装置的晶圆冲洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种带有自吸喷淋装置的晶圆冲洗装置，包括冲洗槽、喷淋管和抽水泵，所述冲洗槽共有三个，分别为第一槽、第二槽和第三槽，所述喷淋管设置于第二槽的顶部，所述喷淋管上开有喷淋孔，所述抽水泵连接喷淋管和第一槽的底部，所述第一槽的侧面设置有进水口。本实用新型专利技术通过设计一种带有自吸喷淋装置的晶圆冲洗装置，将传统的喷淋冲洗和溢流冲洗相结合，解决了喷淋力度不够且槽底颗粒残留的问题，增强了冲洗效果。

A Wafer Flushing Device with Self-priming Spraying Device

The utility model discloses a wafer flushing device with a self-priming sprinkler device, which comprises a flushing tank, a sprinkler pipe and a pump. The flushing tank has three grooves, namely, the first groove, the second groove and the third groove. The sprinkler pipe is arranged at the top of the second groove. The sprinkler hole is arranged on the sprinkler pipe, and the pump connects the bottom of the sprinkler pipe and the first groove. A water inlet is arranged on the side. By designing a wafer washing device with self-priming spraying device, the utility model combines the traditional spraying washing with overflow washing, solves the problems of insufficient spraying force and residual particles at the bottom of the groove, and enhances the washing effect.

【技术实现步骤摘要】
一种带有自吸喷淋装置的晶圆冲洗装置
本技术涉及半导体加工领域，尤其涉及一种带有自吸喷淋装置的晶圆冲洗装置。
技术介绍
在硅片生产过程中，每一道的酸碱浸泡后，都离不开纯水的冲洗，现行的办法是利用简单的阶梯式溢流或者QDR循环鼓泡喷淋。阶梯式溢流相对来说一阶比一阶的水干净，可以使晶圆在每一道冲洗过程变得更干净，而且比较节约水资源，但是冲洗的力度并不够，难以去除粘附性较强的颗粒。QDR冲洗有喷淋和底部鼓泡，且可设置多个循环，每个循环的水都是干净的，这样冲洗的力度较大，且循环式冲水也越来越干净，但长时间冲洗后，冲洗后的颗粒容易卡在槽底，对下次冲洗容易造成二次污染，反复冲洗并不能保证晶圆表面的洁净度，而且冲洗遍数过多则浪费水资源且耽误生产周期。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术提供了一种带有自吸喷淋装置的晶圆冲洗装置。实施方案：一种带有自吸喷淋装置的晶圆冲洗装置，包括冲洗槽、喷淋管和抽水泵，所述冲洗槽共有三个，分别为第一槽、第二槽和第三槽，所述喷淋管设置于第二槽的顶部，所述喷淋管上开有喷淋孔，所述抽水泵连接喷淋管和第一槽的底部，所述第一槽的侧面设置有进水口。进一步的，所述第一槽和第二槽的高度相同，所述第三槽的高度比第二槽的高度低。进一步的，所述第二槽顶部周边设置有喷淋管，喷淋管上设置有10-20个喷淋孔，所述第二槽底部靠近第三槽一侧开有出水口。有益效果：本技术通过设计一种带有自吸喷淋装置的晶圆冲洗装置，将传统的喷淋冲洗和溢流冲洗相结合，解决了喷淋力度不够且槽底颗粒残留的问题，增强了冲洗效果。附图说明图1为本技术结构示意图。具体实施方式下面结合附图对本技术的具体实施方式进行详细说明。如图所示，一种带有自吸喷淋装置的晶圆冲洗装置，包括冲洗槽1、喷淋管2和抽水泵3，所述冲洗槽1共有三个，分别为第一槽11、第二槽12和第三槽13，所述喷淋管2设置于第二槽12的顶部，所述喷淋管2上开有喷淋孔，所述抽水泵3连接喷淋管2和第一槽11的底部，所述第一槽11的侧面设置有进水口4。所述第一槽11和第二槽12的高度相同，所述第三槽13的高度比第二槽12的高度低，是为了便于第二槽中喷淋的水流入第三槽再次利用。所述第二槽12顶部周边设置有喷淋管2，喷淋管2上设置有10-20个喷淋孔，是为了便于对晶圆进行喷淋冲洗，所述第二槽12底部靠近第三槽13一侧开有出水口5，是为了使第二槽12的水顺利流入第三槽13。本技术专利需要设计三阶溢流冲洗槽，第三槽13位置比第一槽11和第二槽12低，第二槽12的底部增设小型的抽水泵3，并在槽顶周边增加设喷淋管2和喷淋孔，第一槽11为正常的溢流槽，对晶圆进行溢流冲洗。水从第一槽11的进水口流入，当硅片在酸液中出料时，首先放在第三槽13进行降温预洗，去掉晶圆上95%以上的酸液，当冲洗冲洗掉晶圆的大部分酸液后，将晶圆转移到第二槽12，开启喷淋装置，抽水泵3将第一槽11中的水抽取并从喷淋管2的喷淋孔中喷出，对晶圆表面的酸和颗粒做进一步喷淋清洗，喷洗用水从出水口5流入第三槽13再利用，再转移到第一槽11做最后一步溢流清洗，最后取出烘干。以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和本技术的优点。本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术的范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带有自吸喷淋装置的晶圆冲洗装置，其特征在于：包括冲洗槽、喷淋管和抽水泵，所述冲洗槽共有三个，分别为第一槽、第二槽和第三槽，所述喷淋管设置于第二槽的顶部，所述喷淋管上开有喷淋孔，所述抽水泵连接喷淋管和第一槽的底部，所述第一槽的侧面设置有进水口。

【技术特征摘要】
1.一种带有自吸喷淋装置的晶圆冲洗装置，其特征在于：包括冲洗槽、喷淋管和抽水泵，所述冲洗槽共有三个，分别为第一槽、第二槽和第三槽，所述喷淋管设置于第二槽的顶部，所述喷淋管上开有喷淋孔，所述抽水泵连接喷淋管和第一槽的底部，所述第一槽的侧面设置有进水口。2.根据权利要求1所述的一种带有...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪良恩，汪曦凌，
申请(专利权)人：安徽安芯电子科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34