烹饪设备及其上盖制造技术

本实用新型专利技术提供了一种烹饪设备及其上盖，上盖包括：密封件，包括密封内圈及密封外圈，密封内圈嵌套布置在密封外圈的内侧；盖板，与密封内圈及密封外圈抵靠，盖板上设有出气口，密封内圈围设出的空间与出气口连通，盖板位于密封内圈与密封外圈之间的位置处设有凸起限位结构。本方案提供的烹饪设备，利用凸起限位结构可在密封外圈沿盖板表面运动至与凸起限位结构抵靠的位置时对密封外圈进行抵靠限位，防止密封外圈继续向内移动出现内翻边问题，且凸起限位结构可在密封内圈沿盖板表面运动至与凸起限位结构抵靠的位置时对密封内圈进行抵靠限位，防止密封内圈继续向外移动出现外翻边问题，确保正负压密封可靠性。

【技术实现步骤摘要】
烹饪设备及其上盖
本技术涉及厨房器具领域，具体而言，涉及一种烹饪设备的上盖及一种烹饪设备。
技术介绍
正负压烹饪电压力锅等烹饪设备在烹饪过程中，不同时间段压力锅内部压力或为正或为负，为实现锅内部密闭环境，需对出气口进行密封，密封件一般为硅胶材质，当正压或负压过大时，密封件容易出现翻边问题，导致密封失效。
技术实现思路
为了解决上述技术问题至少之一，本技术的一个目的在于提供一种烹饪设备的上盖。本技术的另一个目的在于提供一种具有上述烹饪设备的上盖的烹饪设备。为实现上述目的，本技术第一方面的实施例提供了一种烹饪设备的上盖，包括：密封件，包括密封内圈及密封外圈，所述密封内圈嵌套布置在所述密封外圈的内侧；盖板，与所述密封内圈及所述密封外圈抵靠，所述盖板上设有出气口，所述密封内圈围设出的空间与所述出气口连通，所述盖板位于所述密封内圈与所述密封外圈之间的位置处设有凸起限位结构。本技术上述实施例提供的烹饪设备的上盖，盖板上位于密封内圈与密封外圈之间的位置处设有凸起限位结构，在与出气口连通的烹饪腔内处于负压状态时，密封外圈主要受到向内的气压力作用，利用凸起限位结构可当密封外圈沿盖板表面运动至与凸起限位结构抵靠本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种烹饪设备的上盖，其特征在于，包括：密封件，包括密封内圈及密封外圈，所述密封内圈嵌套布置在所述密封外圈的内侧；盖板，与所述密封内圈及所述密封外圈抵靠，所述盖板上设有出气口，所述密封内圈围设出的空间与所述出气口连通，所述盖板位于所述密封内圈与所述密封外圈之间的位置处设有凸起限位结构。

【技术特征摘要】
1.一种烹饪设备的上盖，其特征在于，包括：密封件，包括密封内圈及密封外圈，所述密封内圈嵌套布置在所述密封外圈的内侧；盖板，与所述密封内圈及所述密封外圈抵靠，所述盖板上设有出气口，所述密封内圈围设出的空间与所述出气口连通，所述盖板位于所述密封内圈与所述密封外圈之间的位置处设有凸起限位结构。2.根据权利要求1所述的烹饪设备的上盖，其特征在于，所述凸起限位结构包括环形凸筋，所述环形凸筋嵌套布置在所述密封外圈与所述密封内圈之间的位置处。3.根据权利要求2所述的烹饪设备的上盖，其特征在于，所述密封内圈轴向两端的直径大小不同，其中，所述密封内圈直径较小的一端位于所述环形凸筋的内侧并与所述盖板抵靠，所述密封内圈直径较大的一端处的外径D5与所述环形凸筋的内径D4满足：D4＜D5。4.根据权利要求1至3中任一项所述的烹饪设备的上盖，其特征在于，所述盖板上设有凹槽或凸台，所述盖板用于与所述密封外圈抵靠的表面为所述凹槽的槽底面或所述凸台的顶面，和/或所述盖板用于与所述密封内圈抵靠的表面为所述凹槽的槽底面或所述凸台的顶面。5.根据权利要求1至3中任一项所述的烹饪设备的上盖，其特征在于，所述盖板用于与所述密封外圈抵靠...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨云，程志喜，吕伟刚，罗嗣胜，卢均山，韩平英，
申请(专利权)人：佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44