【技术实现步骤摘要】
一种真空离子镀银工艺
本专利技术涉及一种真空离子镀银工艺，属于镀银
技术介绍
目前航空航天所用的标准件，都是采用传统的电镀技术，利用电镀液、电源等，会产生大量的废气、废水和废渣，对环境污染严重。
技术实现思路
本专利技术的目的在于：提供一种真空离子镀银工艺，以解决现有航空航天所用标准件的电镀技术较为落后，会产生大量的废气、废水和废渣，对环境污染严重的问题。为解决上述问题，拟采用这样一种真空离子镀银工艺，具体工艺如下：①刻蚀：真空：4.0x10-1Pa,偏压150伏，刻蚀电流：100-150A，用钛柱弧轰击5分钟；②中频镀银：真空：5.0x10-1Pa，光栓：20°，电压：100V，占空比：80％，电流：18-22A，时间：20min；③直流镀膜：真空：5.0x10-1Pa，光栓：20°，电压：100V，占空比：80％，电流：20-28A，时间：60min。上述工艺中，工架转速：8～10r/min；上述工艺中，优选地，刻蚀电流120A，中频镀银电流20A，直流镀膜电流25A；上述工艺中，刻蚀步骤中，电压从40伏逐渐增加，每5分钟加20伏，加到150伏后，稳定20min。工件利用上述工艺进行镀银的具体流程如下：工件验收→除油→清洗→上挂具→将工件放入真空离子镀银设备抽真空并进行真空离子镀银→拆卸挂具→将工件浸保护剂→干燥→检验→包装。与现有技术相比，本专利技术所述工艺代替传统的电镀银技术和方法，解决大量有毒气体、有毒污水、含银重金属污水的产生；极大的保障了操作工人的身心健康；在保证零件具有良好外观质量的情况下，更好的控制产品尺寸，由于该技术的操作和加工流...
【技术保护点】
1.一种真空离子镀银工艺，其特征在于：具体工艺如下：①刻蚀：真空：4.0x10‑1Pa,偏压150伏，刻蚀电流：100‑150A，用钛柱弧轰击5分钟l②中频镀银：真空：5.0x10‑1Pa，光栓：20°，电压：100V，占空比：80％，电流：18‑22A，时间：20min；③直流镀膜：真空：5.0x10‑1Pa，光栓：20°，电压：100V，占空比：80％，电流：20‑28A，时间：60min。
【技术特征摘要】
1.一种真空离子镀银工艺，其特征在于：具体工艺如下：①刻蚀：真空：4.0x10-1Pa,偏压150伏，刻蚀电流：100-150A，用钛柱弧轰击5分钟l②中频镀银：真空：5.0x10-1Pa，光栓：20°，电压：100V，占空比：80％，电流：18-22A，时间：20min；③直流镀膜：真空：5.0x10-1Pa，光栓：20°，电压：100V，占空比：80％，电流：20-28A，时间：60min。2.根据权利要求1所述一种真空离子镀银工艺，其特征在于：工架转速：8～10r/mi...
【专利技术属性】
技术研发人员：代文彪，袁光生，罗元凯，王文娟，
申请(专利权)人：贵州航天精工制造有限公司，
类型：发明
国别省市：贵州,52
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