【技术实现步骤摘要】
一种显示面板、制作方法和显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示面板、制作方法和显示装置。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)中的阵列制造工程通过在玻璃基板上制备各层薄膜图案，完成了包括薄膜晶体管在内的像素阵列，是实现晶体电学驱动的关键工程。以五层薄膜图案工艺为例，根据成膜的先后顺序分为：第一层金属制程、半导体制程、第二层金属制程、钝化层制程、透明电极层制程。在制备阵列基板各层薄膜中，从功能上可以分为导电薄膜和功能薄膜，其中导电薄膜包括金属薄膜和透明的氧化铟锡。一般采用磁控溅射来进行金属薄膜的沉积，金属薄膜经过曝光显影蚀刻后形成各种图案的金属层。第二层金属制程(M2)的部分图案会与第一层金属制程(M1)的部分图案发生重叠，M2制程从与M1制程不重叠的图案到重叠的图案会有一个爬坡的过程，爬坡的位置对线路的稳定性产生影响。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种显示效果均匀的显示面板、制作方法和显示装置。为实现上述目的，本专利技术公开了一种显示面板，所...
【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：第一基板，所述第一基板包括：衬底；第一金属层，形成在所述衬底上；第二金属层；绝缘层，设置在所述第一金属层和所述第二金属层之间，所述第一金属层和第二金属层绝缘；其中，所述第二金属层包括水平区域和倾斜区域，所述倾斜区域从第一高度向第二高度倾斜，所述第一高度高于第二高度，所述第二金属层的水平区域的厚度大于所述第二金属层的倾斜区域的厚度，所述第二金属层的倾斜区域的宽度大于所述第二金属层的水平区域的宽度。
【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：第一基板，所述第一基板包括：衬底；第一金属层，形成在所述衬底上；第二金属层；绝缘层，设置在所述第一金属层和所述第二金属层之间，所述第一金属层和第二金属层绝缘；其中，所述第二金属层包括水平区域和倾斜区域，所述倾斜区域从第一高度向第二高度倾斜，所述第一高度高于第二高度，所述第二金属层的水平区域的厚度大于所述第二金属层的倾斜区域的厚度，所述第二金属层的倾斜区域的宽度大于所述第二金属层的水平区域的宽度。2.如权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于，所述第二金属层的倾斜区域与所述衬底所在平面的夹角为θ1，所述第一金属层与所述衬底所在平面的夹角为θ2，其中，θ1＝θ2。3.如权利要求2所述的一种显示面板，其特征在于，所述第二金属层的倾斜区域的宽度为d6，所述第二金属层的水平区域的宽度为d5，其中，4.如权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于，所述第二金属层的倾斜区域包括第一倾斜区域和第二倾斜区域，所述第二金属层的水平区域包括顶部水平区域，所述顶部水平区域与所述第一金属层的位置对应，所述第一倾斜区域位于所述顶部水平区域的一侧，所述第二倾斜区域位于所述顶部水平区域的另一侧，所述第一倾斜区域的宽度大于所述第二金属层的水平区域的宽度，所述第二倾斜区域的宽度大于所述第二金属层的水平区域的宽度。5.如权利要求4所述的一种显示面板，其特征在于，所述第二金属层的水平区域包括第一区域和第二区域，所述顶部水平区域与第一高度等高，所述第一区域和第二区域与第二高度等高，所述第一区域包括第一邻接区和第一走线区，所述第一邻接区与所述第一倾斜区域连接，所述第一走线区远离所述第一倾斜区域，所述第一邻接区和第一倾斜区域的宽度相等且大于所述第一走线区的宽度。6....
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