一种镀膜机展平辊布局结构及使用该结构的镀膜机制造技术

本发明专利技术公开了一种镀膜机展平辊布局结构，包括真空室及设置于真空室的镀膜部件，所述镀膜部件包括带材传递系统及蒸发源，所述带材传递系统包括两个绕卷轮、两个主辊及两个蒸发源；在本设备工作时，两个绕卷轮中，其中一个作为收卷轮，另一个作为放卷轮；在带材传递路径上，两个主辊位于两个绕卷轮之间，且两个主辊中，其中一个主辊与带材的其中一侧作用，另一个主辊与带材的另一侧作用；两个蒸发源均用于汽化待镀材料，且一个蒸发源与一个主辊组成一个镀膜工位；在任意镀膜工位上，通过蒸发源加热所得的气相作用于与主辊贴合的带材段上。本设备可实现材料双面镀膜，同时便于获得更厚的镀膜厚度。

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜机展平辊布局结构及使用该结构的镀膜机
本专利技术涉及镀膜设备领域，特别涉及一种镀膜机展平辊布局结构。
技术介绍
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铜等。真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为最终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发高性能、高可靠性设备的同时本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜机展平辊布局结构，包括一个主辊(2)；其特征在于，还包括至少2个展平辊(4)，所述展平辊(4)分别位于主辊(2)的输入面和输出面两侧；所述位于主辊(2)两侧的展平辊(4)与主辊(2)与带材的作用面不同。

【技术特征摘要】
2018.09.30 CN 20182162319171.一种镀膜机展平辊布局结构，包括一个主辊(2)；其特征在于，还包括至少2个展平辊(4)，所述展平辊(4)分别位于主辊(2)的输入面和输出面两侧；所述位于主辊(2)两侧的展平辊(4)与主辊(2)与带材的作用面不同。2.根据权利要求1所述的一种镀膜机展平辊布局结构，其特征在于：所述位于主辊(2)两侧的展平辊(4)关于主辊(2)的一条直径所在的直线轴对称。3.根据权利要求1所述的一种镀膜机展平辊布局结构，其特征在于：所述位于主辊(2)两侧的展平辊(4)的轴线位于同一水平面上。4.根据权利要求1所述的一种镀膜机展平辊布局结构，其特征在于：所述位于主辊(2)两侧的展平辊(4)之间的带材覆盖的主辊(2)圆周部分对应的圆心角不小于180°。5.一种镀膜机，其特征在于：包括真空室(5)及设置于真空室(5)内的镀膜部件，所述镀膜部件包括传递组件(6)及与传递组件(6)匹配的蒸发源(3)，每个传递组件(6)包括一个绕卷轮(1)与一个主辊(2)；所述每个传递组件(6)还包括至少2个展平辊(4)，所述展平辊(4)分别位于主辊(2)的输入面和输出面两侧；所述位于主辊(2)两侧的展平辊(4)与主辊(2)与带材的作用面不同；在任意镀膜工位上，通过蒸发源(3)加热所...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈清胜，赵锐，
申请(专利权)人：四川海格锐特科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川,51