一种基于Micro-LED无掩模固定式紫外曝光机制造技术

本发明专利技术公开了一种基于Micro‑LED无掩模固定式紫外曝光机，包括Micro‑LED、计算机及图形控制软件、待曝光工件表面和工作台。Micro‑LED发出的光直接作用在曝光工作面上，用计算机及图形控制软件控制Micro‑LED显示曝光图形。本发明专利技术一种基于Micro‑LED无掩模固定式紫外曝光机，由于Micro‑LED发出的光直接作用在待曝光工件表面上，无复杂的光机损耗，可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度等一系列革命性的技术进步。并且结构小巧，易于和机器人相结合接入自动化流水线。

【技术实现步骤摘要】
一种基于Micro-LED无掩模固定式紫外曝光机
本专利技术涉及一种紫外曝光机，尤其涉及一种基于Micro-LED无掩模固定式紫外曝光机。
技术介绍
在微电子、光学、线路板等微加工领域，紫外曝光机具有非常重要的应用。传统掩模式曝光机使用的是大尺寸平行紫外光源加掩模的曝光形式。而目前现有无掩模曝光机采用的是光源、光源准直系统、DMD芯片以及投影镜头的复杂结构，导致光源能量到工作表面能量损失过高，同时由于光源功率和DMD芯片最大承受功率受限，无法达到足够的曝光强度。
技术实现思路
现有传统掩模式曝光机和无掩模紫外曝光机，系统效率低，曝光强度不足等问题。而本专利技术采用一种基于Micro-LED无掩模固定式紫外曝光机，Micro-LED是在芯片集成高密度微小尺寸LED阵列，并保证每一个LED像素可定址，并单独驱动点亮。底层用CMOS集成电路工艺制成驱动电路。CMOS集成电路工艺主要包括硅基CMOS电路工艺和玻璃基CMOS电路工艺。Micro-LED发出的光直接作用到待曝光工件表面，没有经过准直、投影、芯片等一系列光学系统的损耗，所以不受光学系统能量传输效率、芯片最大功率承受能力以及光源功率的限制。因此本专利技术所述曝光机可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度等一系列革命性的技术进步。本专利技术提供一种基于Micro-LED无掩模固定式紫外曝光机，该系统包括Micro-LED、计算机及图形控制软件、待曝光工件表面和工作台。所述Micro-LED是在芯片集成高密度微小尺寸LED阵列，并保证每一个LED像素可定址，并单独驱动点亮的一种微型显示芯片及其各种封装产品。所述Micro-LED为作为光源及图形投影，光波长为190～420nm，每个LED像素尺寸为：长≥2μm，宽≥2μm。LED阵列的行数M≥2，列数N≥2。所述计算机及图形控制软件是指图形分切，瞬时图形数据向Micro-LED传输。所述待曝光工件表面与Micro-LED平行，Micro-LED和待曝光工件表面没有相对运动。所述Micro-LED与待曝光工件表面没有间隙或有较小间隙，这样保证单个Micro-LED像素发射光线抵达待曝光工件表面光程较小进而形成较小的光斑，保证曝光图像精度。所述工作台用于放置待曝光工件表面。本专利技术所提供一种基于Micro-LED无掩模固定式紫外曝光机的主要优点和积极效果如下：由于Micro-LED发出的光直接作用在待曝光工件表面上，无复杂的光机损耗，可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度等一系列革命性的技术进步。并且结构小巧，易于和机器人相结合接入自动化流水线。附图说明为进一步说明本专利技术的
技术实现思路
，以下结合实施例及附图详细说明如后，其中：图1为本专利技术的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本专利技术进一步详细说明。请参阅图1所示，本专利技术提供一种基于Micro-LED无掩模固定式紫外曝光机，包括：一Micro-LED1是在芯片集成高密度微小尺寸LED阵列，并保证每一个LED像素可定址，并单独驱动点亮的一种微型显示芯片及其各种封装产品；-Micro-LED1为作为光源及图形投影，光波长为190～420nm，每个LED像素尺寸为：长≥2μm，宽≥2μm。LED阵列的行数M≥2，列数N≥2；-计算机及图形控制软件2是指图形分切，瞬时图形数据向Micro-LED传输；-待曝光工件表面3与Micro-LED1平行，Micro-LED1和待曝光工件表面3没有相对运动；-Micro-LED1与待曝光工件表面3没有间隙或有较小间隙，这样保证单个Micro-LED1像素发射光线抵达待曝光工件表面3光程较小进而形成较小的光斑，保证曝光图像精度；-工作台4用于放置待曝光工件表面3；以上所述的具体实施例，对于本专利技术的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本专利技术的具体实施例而已，并不局限于本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于Micro‑LED无掩模固定式紫外曝光机，其特征在于，包括Micro‑LED、计算机及图形控制软件、待曝光工件表面和工作台。

【技术特征摘要】
1.一种基于Micro-LED无掩模固定式紫外曝光机，其特征在于，包括Micro-LED、计算机及图形控制软件、待曝光工件表面和工作台。2.如权利要求1所述的一种基于Micro-LED无掩模固定式紫外曝光机，其特征在于，所述Micro-LED是在芯片集成高密度微小尺寸LED阵列，并保证每一个LED像素可定址，并单独驱动点亮的一种微型显示芯片及其各种封装产品。3.如权利要求1所述的一种基于Micro-LED无掩模固定式紫外曝光机，其特征在于，所述Micro-LED为作为光源及图形投影，光波长为190～420nm，每个LED像素尺寸为：长≥2μm，宽≥2μm。LED阵列的行数M≥2，列数N≥2。4.如权利要求1所述的一种基于Micro-LED无掩...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙雷，
申请(专利权)人：北京德瑞工贸有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11