显示面板和显示装置制造方法及图纸

技术编号:20654613 阅读:25 留言:0更新日期:2019-03-23 06:27
本发明专利技术提供一种显示面板和显示装置,显示面板包括阵列基板和与阵列基板对盒设置的对侧基板,阵列基板和对侧基板之间设有液晶层,在阵列基板上具有阵列排布的多个子像素区域,在对侧基板上面向液晶层的一侧设有至少一个追踪图案,追踪图案具有曝光时用于对对侧基板进行对位追踪的有效追踪部,有效追踪部的延伸方向沿对侧基板在曝光时的移动方向,且有效追踪部的延伸方向与子像素区域的排列方向平行。本发明专利技术在BM‑Less技术中利用UV

【技术实现步骤摘要】
显示面板和显示装置
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种显示面板和显示装置。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)是目前市场上应用最为广泛的显示产品,液晶显示器主要包括液晶显示面板和背光模块,其中,液晶显示面板主要包括阵列基板、彩膜基板以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶,彩膜基板主要包括用于通过色阻单元(R/G/B)形成有色光的彩色滤光层、用于防止像素边缘漏光的黑色矩阵(BlackMatrix,BM)、以及用于维持盒厚的隔垫物(PhotoSpacer,PS)。COA(ColorFilteronArray)技术是将彩色滤光层制备在阵列基板上的技术。由于COA结构的显示面板不存在彩膜基板与阵列基板的对位问题,因此可以降低显示面板制备过程中对盒制程的难度,避免了对盒时的误差,因此黑色矩阵可以设计为窄线宽,提高了开口率。进一步的,一种新型的BM-Less技术是基于COA技术上将BM与PS集合于同一BPS材料且同一制程完成并设计在Array基板上的一种技术,与传统的液晶显示技术比较,将黑色矩阵、隔垫物及彩色滤光层全部设计在阵列基板侧,这样不仅可以避免对盒制程中由于对盒精度的误差,或者曲面显示技术中由于面板弯曲造成的平移带来的露光,更重要的是节省一道材料及制程,缩短生产时间,降低了产品成本。此外,随着大型显示面板的发展,更佳的视觉表现也越来越高,而紫外线诱导多区域垂直配向(UltravioletInducedMulti-domainVerticalAlignment,UV2A)技术是具有多项优点的显示技术,制程简单且有着更广的视角与更快的应答速度,若是搭配BM-Less技术则可以更好的降低成本与提升光学品味。UV2A技术为液晶垂直配向的一种方法,紫外光(UV)通过掩膜版(Mask),对像素(pixel)中不同区域进行照光,配向膜发生光化学反应,在液晶滴入后,可使液晶形成一定角度的预倾角。在UV2A制程中,需使用掩膜板对像素中不同的区域曝光,为保证精确性,曝光时在基板平移过程中,掩膜板需要与待曝光基板中特定的图形作对位及追踪。然而,上述的BM-Less技术在利用UV2A技术进行配向时,彩膜基板侧无彩色滤光层、黑色矩阵以及隔垫物,因而掩膜板和待曝光的基板难以实现对位及追踪。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示面板和显示装置,在BM-Less技术中利用UV2A技术进行配向时,能够使掩膜板和待曝光基板进行对位及追踪。第一方面,本专利技术提供一种显示面板,包括阵列基板和与阵列基板对盒设置的对侧基板,阵列基板和对侧基板之间设有液晶层,在阵列基板上具有阵列排布的多个子像素区域,在对侧基板上面向液晶层的一侧设有至少一个追踪图案,追踪图案具有曝光时用于对对侧基板进行对位追踪的有效追踪部,有效追踪部的延伸方向沿对侧基板在曝光时的移动方向,且有效追踪部的延伸方向与子像素区域的排列方向平行。第二方面,本专利技术提供一种显示装置,包括如上述所述的显示面板。本专利技术的显示面板和显示装置,显示面板包括阵列基板和与阵列基板对盒设置的对侧基板,阵列基板和对侧基板之间设有液晶层,在阵列基板上具有阵列排布的多个子像素区域,在对侧基板上面向液晶层的一侧设有至少一个追踪图案,追踪图案具有曝光时用于对对侧基板进行对位追踪的有效追踪部,有效追踪部的延伸方向沿对侧基板在曝光时的移动方向,且有效追踪部的延伸方向与子像素区域的排列方向平行。在基于BM-Less技术而利用UV2A技术进行配向时,即使在对侧基板上无彩色滤光层、黑色矩阵以及隔垫物,但由于设置有追踪图案,该追踪图案可以在曝光时和掩膜板上的掩膜板对位图案配合,以实现掩膜板和待曝光的对侧基板的对位及追踪,以实现掩膜板相对于阵列基板的准确定位。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术提供的显示面板中阵列基板的多畴显示配向的示意图;图2为本专利技术实施例一提供的显示面板中对侧基板的多畴显示配向的示意图;图3为本专利技术实施例一提供的显示面板中另一种追踪图案的结构示意图;图4为本专利技术实施例二提供的显示面板中对侧基板的多畴显示配向的示意图;图5为本专利技术实施例二提供的显示面板中另一种追踪图案的结构示意图。附图标记说明:1—对侧基板;2—导电膜层;3—第一基板;5—阵列基板;6—掩膜板;8—追踪图案形成层;21、81—子区域;22、82—追踪图案;51—子像素区域;52—黑色矩阵;61—掩膜图形;62—掩膜板对位图案;221、821—有效追踪部;222、822—子封闭图形;223、823—子封闭图形边缘。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本专利技术保护的范围。随着大型显示面板的发展,更佳的视觉表现也越来越高,而UV2A是目前最流行之一的显示技术,有着更广的视角与更快的应答速度。UV2A的关键技术在于对阵列基板和其对侧基板进行曝光。如上所述,本申请的显示面板基于BM-Less技术,将黑色矩阵、隔垫物及彩色滤光层全部设计在阵列基板侧。首先以对阵列基板进行光配向为例来进行说明,图1所示为本专利技术实施例提供的显示面板中阵列基板的多畴显示配向的示意图。在图1中,字母“R”代表子像素区域51阵列排布的行方向,字母“C”代表子像素区域51阵列排布的列方向。如图1所示,阵列基板5包括多个阵列排布的子像素区域51和设于多个子像素区域51之间纵横交错的黑色矩阵52,在阵列基板5上,多个阵列排布的子像素区域51的排列方向指子像素区域51阵列排布的行方向或者列方向。多畴显示配向方法将在阵列基板5侧的一颗子像素区域51分为不同的畴(区域),对各个畴采用不同的配向方向,以获得较大的视野角。与之对应地,掩膜板6上设有多个长条状的掩膜图形61,其沿所述列方向延伸,掩膜图形61的宽度例如是子像素区域51的行方向尺寸的一半,其长度可以是阵列基板5沿所述列方向的长度的一半。对于阵列基板5上的各个子像素区域51的不同区域进行不同方向的曝光时,为了确保在曝光扫描的过程中,掩膜板6上的掩膜图形61与阵列基板5的相应子像素区域51精准对位,在掩膜板6上会设计多个对位图案,此处以设有一个掩膜板对位图案62为例进行说明,当然掩膜板对位图案62的个数可以根据实际需要选择多个。掩膜板对位图案62与掩膜图形61平行设置,在阵列基板5上,可以以位于阵列基板最左端部的黑色矩阵52作为对位图案,在曝光扫描的过程中,UV光源位于掩膜板6上方,掩膜板6固定不动,阵列基板5相对于掩膜板沿子像素区域51的列方向匀速移动,对阵列基板5进行光配向。利用电荷耦合元件、即CCD(Charge-CoupledDevice)图像传感器可以追踪到阵列基板5上的作为对位图案的黑色矩阵52以及掩本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种显示面板,包括阵列基板和与所述阵列基板对盒设置的对侧基板,所述阵列基板和所述对侧基板之间设有液晶层,其特征在于,在所述阵列基板上具有阵列排布的多个子像素区域,在所述对侧基板上面向所述液晶层的一侧设有至少一个追踪图案,所述追踪图案具有曝光时用于对对侧基板进行对位追踪的有效追踪部,所述有效追踪部的延伸方向沿所述对侧基板在曝光时的移动方向,且所述有效追踪部的延伸方向与所述子像素区域的排列方向平行。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,包括阵列基板和与所述阵列基板对盒设置的对侧基板,所述阵列基板和所述对侧基板之间设有液晶层,其特征在于,在所述阵列基板上具有阵列排布的多个子像素区域,在所述对侧基板上面向所述液晶层的一侧设有至少一个追踪图案,所述追踪图案具有曝光时用于对对侧基板进行对位追踪的有效追踪部,所述有效追踪部的延伸方向沿所述对侧基板在曝光时的移动方向,且所述有效追踪部的延伸方向与所述子像素区域的排列方向平行。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述追踪图案为封闭图形,所述追踪图案的其中一个边缘为所述有效追踪部。3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述追踪图案为矩形。4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述追踪图案包括多个子封闭图形,所述多个子封闭图形均具有沿所述对侧基板在曝光时的移动方向延伸的边缘,所述多个沿所述对侧基板在曝光时的移动方向延伸的边缘构成所述有效追踪部。5.根据权利要求1-4任一项所述的显示面板,其特征在于,所述对侧基板包括第一基...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨仁光储周硕
申请(专利权)人:成都中电熊猫显示科技有限公司
类型:发明
国别省市:四川,51

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