一种镀膜系统技术方案

本申请涉及薄膜太阳能生产技术领域，具体涉及一种镀膜系统。本申请提供的镀膜系统，能够支持对基板镀多个不同种类的膜层，以得到性能更好的具有复合膜层的基板；与现有的镀膜系统相比，本申请提供的镀膜系统在基板上制备多层膜层时基板不用从系统内取出，因此不会与外界大气接触破除真空并暴露大气，能够避免因膜层与空气接触氧化，导致膜层内产生杂质的问题发生，基板上的膜层质量更好；并且相邻两个工艺腔之间设有一个调温腔，通过调温腔调整基板的温度，使基板的温度满足下一个工艺腔制备温度的需求，减少了进入下一个反应腔中的温度调整时间，大大的提高了生产效率、提高产能。

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜系统
本申请涉及薄膜太阳能生产
，具体涉及一种镀膜系统。
技术介绍
目前市场上对薄膜太阳能电池的需求正逐渐增长，制造薄膜太阳能电池的技术更成为近年来的研究热点，LPCVD(LowPressureChemicalVaporDeposition-低气压化学气相沉积)作为薄膜天阳能电池膜层的主要形成方法，被广泛应用在薄膜太阳能电池生产领域；现有的公开了一种LPCVD系统，设有用于放置若干片基板的传输垫板，通过传输垫板将加热板的热量传输至需要镀膜的基片；系统中还设有反应腔，用于对基片进行镀膜，比如ZnO(氧化锌)膜。由于各个膜层所需的制造温度不同，现有的LPCVD系统一次只能制备一个膜层，造成工艺不够灵活。
技术实现思路
(一)本申请所要解决的技术问题是：现有LPCVD系统一次只能生产一种膜层，导致连续生产的节拍控制及生产效率低。(二)技术方案为了解决上述技术问题，本申请实施例提供了一种镀膜系统，所述镀膜系统包括：传输装置、多个工艺腔和相邻两个所述工艺腔之间设有的调温腔；其中，所述传输装置配置为将基板运输至所述工艺腔和所述调温腔内；每个所述工艺腔配置为通入各自对应的工艺气体以对所述基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜系统，其特征在于，所述镀膜系统包括：传输装置、多个工艺腔和相邻两个所述工艺腔之间设有的调温腔；其中，所述传输装置配置为将基板运输至所述工艺腔和所述调温腔内；每个所述工艺腔配置为通入各自对应的工艺气体以对所述基板进行镀膜；所述调温腔配置为将镀膜后的基板调温至下一个工艺腔对应的指定温度。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜系统，其特征在于，所述镀膜系统包括：传输装置、多个工艺腔和相邻两个所述工艺腔之间设有的调温腔；其中，所述传输装置配置为将基板运输至所述工艺腔和所述调温腔内；每个所述工艺腔配置为通入各自对应的工艺气体以对所述基板进行镀膜；所述调温腔配置为将镀膜后的基板调温至下一个工艺腔对应的指定温度。2.根据权利要求1所述的镀膜系统，其特征在于：所述调温腔为加热腔或第一冷却腔。3.根据权利要求2所述的镀膜系统，其特征在于：所述加热腔内设有第一匀热板和第一搬运装置，所述第一搬运装置用于将所述传输装置上的工件搬运到所述第一匀热板上，或将所述第一匀热板上的工件搬运到所述传输装置上。4.根据权利要求3所述的镀膜系统，其特征在于：所述第一搬运装置包括第一顶针机构和第一驱动机构，所述第一匀热板安装在所述加热腔的下部，所述第一顶针机构包括第一安装架和竖直安装在所述第一安装架上的多个第一顶针本体，多个所述第一顶针本体由下至上穿过所述第一匀热板；所述第一驱动机构与所述第一安装架相连，以带动所述第一安装架上下移动；位于所述加热腔内的传输装置设置在所述第一匀热板的上侧。5.根据权利要求2所述的镀膜系统，其特征在于：所述第一冷却腔内设有第二匀热板和第二搬运装置，所述第二搬运装置用于将所述传输装置上的工件搬运到所述第二匀热板上，或将所述第二匀热板上的工件搬运到所述传输装置上。6.根据权利要求5所述的镀膜系统，其特征在于：所述第二搬运装置包括第二顶针机构和第二驱动机构，所述第二匀热板安装在所述第一冷却腔的下部，所述第二顶针机构包括第二安装架和竖直安装在所述第二安装架上的...

【专利技术属性】
技术研发人员：马峥，张风港，张津燕，
申请(专利权)人：君泰创新北京科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11