一种用于卷绕镀膜系统沉积辊的防护装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于卷绕镀膜系统沉积辊的防护装置，属于真空镀膜技术领域。所述装置包括：防护罩和绝缘垫，防护罩同轴套装在沉积辊的两端，且与沉积辊和基膜均不接触；防护罩为筒状结构，筒状罩体上开有两个用于基膜的卷入和卷出的穿膜开口，且穿膜开口与基膜不接触；防护罩的底部设有防护罩底座，防护罩底座固定在绝缘垫上，绝缘垫固定在真空室腔壁上。将沉积辊置于防护罩内部，并使基膜边缘通过穿膜开口狭缝穿入和穿出防护罩内部，可有效地抑制沉积气体在沉积辊两端的污染，提高良品率，延长清洁周期，提高生产效率，并可增加镀膜设备的膜材幅宽通用性。

【技术实现步骤摘要】
一种用于卷绕镀膜系统沉积辊的防护装置
本专利技术涉及一种用于卷绕镀膜系统沉积辊的防护装置，属于真空镀膜

技术介绍
真空卷绕镀膜技术，即在真空室内通过热蒸发、磁控溅射、等离子体增强等方法在柔性卷料基膜表面镀制功能薄膜的技术。其工作原理是蒸发、溅射或者是其它真空镀膜方法中的任意一种。以等离子体增强化学气相沉积技术为例，是在沉积室利用辉光放电使气体电离后在基膜上进行化学反应沉积的薄膜的制备方法。该方法可在较低温度下形成固体膜。例如在一个反应室内使基体材料包覆通过阴极，通入反应气体至较低气压(1～10Pa)，基体保持一定温度，以中频、射频、微波等激发，或直流高压激发，脉冲激发等方式产生辉光放电使基膜附近气体电离。从而使反应气体活化，并使基体表面产生阴极溅射。在热化学反应和等离子体化学反应的共同作用下使反应气体在基膜表面沉积成膜。目前，在柔性基膜的卷绕镀膜生产中，往往面临着膜层附着污染沉积辊的问题。这是因为柔性基膜的幅宽小于沉积辊的宽度，因而沉积辊的两端暴露在沉积气体中，在连续镀膜的过程中，暴露在外的沉积辊两端被持续地污染，形成的结痂会逐渐增厚，进而影响膜层质量和生产效率，往往在镀膜设备运行一段时间后不得不进行清洁工作。传统的卷绕式镀膜设备中真空腔内的防护结构，通常会加装若干挡板进行隔离，限制沉积气体的运动范围。然而，这类挡板限制的是沿卷绕走带方向的范围，并不能解决沉积辊两端未被基膜覆盖的区域的污染问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种用于卷绕镀膜系统沉积辊的防护装置，以解决现有卷绕镀膜设备的沉积辊两端污染问题。为实现上述目的，本专利技术的技术方案如下。一种用于卷绕镀膜系统沉积辊的防护装置，所述装置包括：防护罩和绝缘垫，所述防护罩材质为奥氏体不锈钢，所述防护罩同轴套装在沉积辊的两端，且与沉积辊和基膜均不接触；所述防护罩为筒状结构，筒状罩体上开有两个用于基膜的卷入和卷出的穿膜开口，且穿膜开口与基膜不接触；所述防护罩的底部设有防护罩底座，所述防护罩底座固定在绝缘垫上，所述绝缘垫固定在真空室腔壁上。优选的，所述穿膜开口沿平行于基膜走向延伸出两段空心的延长保护段。优选的，所述基膜侧边伸入防护罩内部的长度为30～50mm。有益效果：(1)将沉积辊两端套装在防护罩内，且使基膜两侧边进入防护罩内，有效地减少等离子体向沉积辊两端的运动，从而防止沉积气体在沉积辊两端的污染。(2)沉积辊两端的清洁能够保证基膜边缘平整，使基膜与沉积辊良好接触，不易发生褶皱，从而提高良品率；(3)延长清洁周期，提高生产效率。(4)针对不同幅宽的基膜可替换不同尺寸型号的防护罩，使不同幅宽的基膜都能在同一台镀膜设备上进行镀膜，有效保护沉积辊不受污染。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单说明。显然，所描述的附图只是本专利技术的个别实施例，而非全部实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它设计方案和附图。图1为本专利技术所述防护装置的立体图。图2为本专利技术所述防护装置与沉积辊的装配关系示意图。其中：1－沉积辊，2－防护罩，3－绝缘垫，4－防护罩底座，5－穿膜开口，6－延长保护段，7－通孔，8－基膜。具体实施方式参照图1及图2，一种用于卷绕镀膜设备沉积辊(以对阴极卷对卷镀膜设备为例是指阴极辊)的防护装置，用于沉积辊1两端暴露部分的防沉积污染，该防护装置包括防护罩2及绝缘垫3其中，防护罩2材质为奥氏体不锈钢，防护罩2主体为筒状，带有环形防护罩底座4，并有两个穿膜开口5，开口的目的是使基膜能够穿入和穿出防护罩2内部，使沉积辊获得更好的防护效果。穿膜开口5外部带有延长保护段6，其目的也是为防护罩内部获得更好的防护效果。绝缘垫3设置在环形防护罩底座4下部，绝缘垫3为环形，绝缘垫3和防护罩底座4上设置有通孔7，可通过螺栓安装在真空室腔壁上，螺栓与真空室绝缘。所述防护结构的具体尺寸根据实际应用情况可进行相应调整，本实施例中沉积辊的直径为133mm，长为600mm。防护罩2内壁与基膜8膜面的距离为2mm，穿膜开口5和延长保护段6的狭缝宽度为3mm，延长保护段6的长度为30mm，在低气压(1～10Pa)下，具有良好的阻挡效果，尤其是在沉积辊内部配有约束磁体的情况下则能取得更好的效果。防护罩2筒体高度为60mm，基膜8两侧边缘分别通过防护罩穿膜开口5穿入和穿出防护罩2内部，但不接触，基膜8两侧边缘进入防护罩2的部分长度为30mm，以保证对沉积辊1的阻挡效果。在整卷膜材镀制完成之后切除边缘部分，以保证镀膜均匀性。本专利技术的防护罩可根据膜材幅宽替换，即幅宽较窄的膜材可使用较深桶壁深度的防护罩，从而使得不同幅宽的基膜都可以在同一台镀膜设备上镀制，且都能对沉积辊暴露部分进行防污染保护。总之本专利技术有助于提高良品率及生产效率，且有助于增加镀膜设备的膜材适用性。综上所述，以上仅为本专利技术的较佳实施例而已，并非用于限定本专利技术的保护范围。凡在本专利技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于卷绕镀膜系统沉积辊的防护装置，其特征在于：所述装置包括：防护罩(2)和绝缘垫(3)，所述防护罩(2)材质为奥氏体不锈钢，所述防护罩(2)同轴套装在沉积辊(1)的两端，且与沉积辊(1)和基膜(8)均不接触；所述防护罩(2)为筒状结构，筒状罩体上开有两个用于基膜(8)的卷入和卷出的穿膜开口(5)，穿膜开口(5)与基膜(8)不接触；所述防护罩(2)的底部设有防护罩底座(4)，所述防护罩底座(4)固定在绝缘垫(3)上，所述绝缘垫(3)固定在真空室腔壁上。

【技术特征摘要】
1.一种用于卷绕镀膜系统沉积辊的防护装置，其特征在于：所述装置包括：防护罩(2)和绝缘垫(3)，所述防护罩(2)材质为奥氏体不锈钢，所述防护罩(2)同轴套装在沉积辊(1)的两端，且与沉积辊(1)和基膜(8)均不接触；所述防护罩(2)为筒状结构，筒状罩体上开有两个用于基膜(8)的卷入和卷出的穿膜开口(5)，穿膜开口(5)与基膜(8)不接触；所述防护罩(2)的底部设有防...

【专利技术属性】
技术研发人员：王小军，党文强，冯煜东，董茂进，何丹，李中华，
申请(专利权)人：无锡泓瑞航天科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32