【技术实现步骤摘要】
电镀系统的气体搅拌装置
本技术有关一种电镀系统的气体搅拌装置,特别是一种以更为积极、可靠的手段来改良电镀时流场不均匀的缺失,以提升电镀品质的气体搅拌装置。
技术介绍
电镀为一种电解反应,利用电解反应把一种金属镀在另一种金属的表面上,以形成一层金属外壳薄膜,我们将这样的过程称为电镀。而电镀技术广泛的应用在各种不同用途与不同领域上。从早期以美观为主的装饰用途,如于容器表面上形成一具有光泽的薄膜,渐渐发展到现今应用于高科技产业,如半导体的制程中,是现今科技产业中不可或缺的一项技术。常见的电镀条件不外乎电流密度、搅拌、电流波形、电镀位置(电流分布)等;其中,改善搅拌条件(如水流搅拌、空气搅拌、阴极搅拌、超音波搅拌)可以快速除去阴极表面的氢气泡反应,进而提升了电镀效率、改善膜厚分布、消除烧焦现象、改善锡铅选镀界面线等多项优点。习有电镀处理装置在充填电镀液的电镀槽的底部处设置有用以出电镀液的电镀液喷出装置,及空气喷出装置,这种装置以由空气喷出装置喷出的空气搅拌由电镀液喷出装置喷出的电镀液,被镀物,例如印刷电路板被浸在电镀液中。由于由空气喷出装置喷出的空气沿着印刷电路板上升到液 ...
【技术保护点】
1.一种电镀系统的气体搅拌装置,其特征在于,该电镀系统具有一槽体以供装设电镀液,该气体搅拌装置至少包含:一扩散板,设置于该槽体接近底部,与该槽体底部形成一空间,该扩散板具有复数穿孔,且该扩散板并设有至少一突出部,该突出部朝向该槽体顶部;以及一气体导管,由该槽体的一个壁面穿入,以将一气体注入该槽体,该气体导管位于该扩散板下方的部分设置复数个朝下的气体流出孔。
【技术特征摘要】
2018.06.22 TW 1072083621.一种电镀系统的气体搅拌装置,其特征在于,该电镀系统具有一槽体以供装设电镀液,该气体搅拌装置至少包含:一扩散板,设置于该槽体接近底部,与该槽体底部形成一空间,该扩散板具有复数穿孔,且该扩散板并设有至少一突出部,该突出部朝向该槽体顶部;以及一气体导管,由该槽体的一个壁面穿入,以将一气体注入该槽体,该气体导管位于该扩散板下方的部分设置复数个朝下的气体流出孔。2.如权利要求1所述电镀系统的气体搅拌装置,其特征在于,该槽体容置放一电路板治具以夹持一待镀物。3.如权利要求2所述电镀系统的气体搅拌装置,其特征在于,该扩散板的突出部两侧分别具有平面部以及连接该突出部及平面部的连接部,该扩散板的突出部相对位于该待镀物下方。4.如权利要求3所述电镀系统的气体搅拌装置,其特征在于,该连接部为斜面。5.如权利要求4所述电镀系统的气体搅拌装置,其特征在于,该...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑文锋,许吉昌,孙尚培,黄伯轩,吴博轩,
申请(专利权)人:先丰通讯股份有限公司,
类型:新型
国别省市:中国台湾,71
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