改进弹性体耐磨性用的无机涂层的离子束辅助沉积制造技术

在钻头中使用的弹性体密封件，其中在弹性体密封件的表面上沉积无机表面改性材料。借助无机原子，通过对较硬表面提供软质密封件表面支持，从而改进在动态界面处密封件的耐磨性。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及弹性体密封件，更特别地，本专利技术涉及通过使用离子束辅助沉积，用硬质涂层涂布弹性体密封件，来改进弹性体密封件的耐磨性。
技术介绍
和专利技术概述
技术介绍
物理气相沉积(PVD) 物理气相沉积(PVD)方法(常常称为薄膜法)是原子沉积法，其中从固体或液体源中以原子或分子形式气化材料，通过真空或低压气体(或等离子体)环境以蒸汽形式输送到基底上，在此它冷凝。附图说明图1A和1B是PVD法总的示意图。典型地，PVD法用于沉积厚度范围为数纳米到数千纳米的膜；然而，也可使用它们形成多层涂层、分级组成的沉降物、非常厚的沉积物和自立式结构。基底的尺寸范围可以是非常小到非常大，例如对于建筑玻璃来说，10′×12′的玻璃板。基底的形状范围可以是从平坦到复杂的几何形状，例如手表带和工具钻头。典型的PVD沉积速度为10-100埃(1-10纳米)/秒。可使用反应性沉积法，将PVD法用于沉积元素和合金以及化合物的膜。在反应性沉积法中，通过沉积材料与周围气体环境，例如氮气(例如，氮化钛，TiN)或者与共沉积材料(例如，碳化钛，TiC)反应，形成化合物。准反应性沉积是由化合物源沉积化合物材料本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种密封件，其包括：　　　　具有动态密封界面的弹性体主体；和　　　　沉积在该弹性体主体表面上且增加表面硬度的无机表面改性材料；　　　　于是在动态密封条件下，在动态密封界面处密封件的磨耗和摩擦特征得到改进。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：隋平群，魏荣华，
申请(专利权)人：霍利贝顿能源服务公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]