固化性组合物、固化物及固化物的制造方法技术

一种固化性组合物，其含有平均粒径为50nm以下的湿式二氧化硅粒子(A)、聚合性化合物(B)、聚合引发剂(C)和着色剂(D)。所述湿式二氧化硅粒子(A)中的金属的含量优选为1000ppm以下。另外，所述湿式二氧化硅粒子(A)优选为胶体分散的二氧化硅粒子。

Manufacturing methods of solidified compositions, solidified products and solidified products

A curable composition comprising wet silica particles (A), polymeric compounds (B), polymeric initiators (C) and colorants (D) with an average particle size of less than 50 nm. The metal content in the wet silica particle (A) is preferably less than 1000 ppm. In addition, the wet silica particle (A) is preferably a colloidal dispersed silica particle.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】固化性组合物、固化物及固化物的制造方法
本专利技术涉及含有二氧化硅粒子和着色剂的固化性组合物。
技术介绍
含有聚合性化合物和聚合引发剂的固化性组合物(有时根据需要含有着色剂)可以通过照射紫外线等活性能量射线或加热而聚合固化，因此在显示器材料等各种用途中是有用的。近年来，就用于IPS/FFS模式的液晶显示器的滤色器用黑色抗蚀剂而言，要求高遮光性、高电阻(高绝缘性)、高精细，但存在没有以高水准兼顾高电阻和高精细的滤色器的问题。专利文献1、2、3及4中公开了能够制作高电阻的固化物的组合物。专利文献1中公开了一种感光性组合物，其含有光固化性树脂、丙烯酸树脂粒子、遮光性颜料，可得到高电阻的固化物。专利文献2中公开了通过使用由二氧化硅被覆的着色剂而得到高电阻的固化物的着色组合物。专利文献3中公开了通过使用内包于炭黑中的二氧化硅而得到高电阻的固化物的着色组合物。专利文献4中公开了通过含有利用气相反应合成的粒状二氧化硅、黑色有机颜料及光固化性树脂而得到高电阻的固化物的黑色抗蚀剂用感光性树脂组合物。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2010-256589号公报专利文献2：日本特开2001-115043号公报专利文献3：日本特开2008-150428号公报专利文献4：日本特开2008-304583号公报
技术实现思路
但是，由专利文献1中记载的感光性组合物得到的固化物存在遮光性低的问题。由专利文献2中记载的着色感光性物得到的固化物由于着色剂的表面被二氧化硅覆盖，因此存在呈发白的颜色、难以得到漆黑性高的固化物的问题。由专利文献3中记载的着色组合物得到的固化物存在不能得到充分的电阻的问题。专利文献4中记载的光固化性树脂存在保存稳定性的问题，进而得到的固化物的平滑性存在问题。因此，本专利技术的目的在于提供一种能制作下述固化物的固化性组合物，所述固化物能够以满足高电阻及高精细的图案的制作的水准实现。另外，在使用黑色颜料作为着色剂的固化性组合物的情况下，可以制作高遮光的固化物。本专利技术通过提供下述[1]～[8]，实现了上述目的。[1]一种固化性组合物，其含有平均粒径为50nm以下的湿式二氧化硅粒子(A)[以下，也记载为二氧化硅粒子(A)]、聚合性化合物(B)、聚合引发剂(C)及着色剂(D)。[2]根据上述[1]所述的固化性组合物，其中，上述二氧化硅粒子(A)中的金属的含量为1000ppm以下。[3]根据上述[1]或[2]所述的固化性组合物，其中，聚合性化合物(B)为下述通式(I)所示的化合物，或者为具有使下述通式(I)所示的化合物与不饱和一元酸进行酯化而成的结构的不饱和化合物，或者为具有下述结构的不饱和化合物，该结构为使具有使下述通式(I)所示的环氧化合物与不饱和一元酸进行酯化而成的结构的不饱和化合物进一步与多元酸酐进行酯化而成的结构。[化学式1](式中，M表示直接键合、碳原子数为1～20的烃基、-O-、S-、-SO2-、-SS-、-SO-、-CO-、-OCO-、选自下述式(a)、(b)、(c)或(d)所表示的组中的取代基，M所表示的基团中的氢原子可被卤素原子取代，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8(以下，也记载为R1～R8)分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～20的烃基或卤素原子，R1～R8所表示的基团中的亚甲基可在氧不相邻的条件下被-O-取代，n为0～10的数，在n为0以外的情况下，多个存在的R1～R8及M分别相同或不同。)[化学式2](式中，R9表示碳原子数为1～20的烃基，R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37及R38(以下，也记载为R10～R38)分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～20的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团、或卤素原子，R10～R38所表示的基团中的亚甲基可在氧不相邻的条件下被-O-或-S-取代，R10与R11、R11与R12、R12与R13、R13与R14、R22与R15、R15与R16、R30与R23、R23与R24、R24与R25、R38与R31、R31与R32、R32与R33、R34与R35、R35与R36、及R36与R37可键合而形成环，式中的*表示这些式所表示的基团在*部分处与相邻的基团键合。)[4]根据上述[1]～[3]中任一项所述的固化性组合物，其中，上述聚合引发剂(C)为具有下述通式(II)所示的基团的化合物。[化学式3](式中，R41和R42分别独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、氰基、碳原子数为1～20的烃基或含有杂环的碳原子数为2～20的基团，R41及R42所表示的碳原子数为1～20的烃基或含有杂环的碳原子数为2～20的基团中的氢原子可被卤素原子、硝基、氰基、羟基、氨基、羧基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基、环氧基、乙烯基、乙烯基醚基、巯基、异氰酸酯基或含有杂环的碳原子数为2～20的基团取代，R41及R42所表示的基团中的亚甲基可被-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NR43-、-NR43CO-、-S-、-CS-、-SO2-、-SCO-、-COS-、-OCS-或-CSO-取代，R43表示氢原子、碳原子数为1～20的烃基，m表示0或1，式中的*表示这些式所表示的基团在*部分处与相邻的基团键合。[5]根据上述[1]～[4]中任一项所述的固化性组合物，其中，上述着色剂(D)为黑色颜料。[6]一种固化物的制造方法，其具有使用上述[1]～[5]中任一项所述的固化性组合物、并使该固化性组合物固化的工序。[7]上述[1]～[5]中任一项所述的固化性组合物的固化物。[8]一种滤色器，其含有上述[7]所述的固化物。附图说明图1是表示与形成于基板上的图案与基板之间的锥角对应的角θ的示意图。具体实施方式以下，基于优选的实施方式对本专利技术的固化性组合物进行说明。本专利技术的固化性组合物含有平均粒径为50nm以下的湿式二氧化硅粒子(A)、聚合性化合物(B)、聚合引发剂(C)和着色剂(D)。以下，对各成分依次进行说明。<二氧化硅粒子(A)>本专利技术的固化性组合物中使用的二氧化硅粒子(A)是由平均粒径为50nm以下的湿式二氧化硅形成的粒子。湿式二氧化硅是在液体中合成的非晶质的二氧化硅。本专利技术的固化性组合物中使用的二氧化硅粒子(A)例如可以通过用无机酸中和硅酸钠的沉淀法或凝胶法、或将烷氧基硅烷水解的溶胶凝胶法等得到。在本专利技术中，从对聚合性化合物、溶剂的分散性良好的方面出发，在湿式二氧化硅中，特别优选胶体分散的二氧化硅粒子，从同样的观点出发，优选表面处理二氧化硅。本专利技术的固化性组合物中使用的二氧化硅粒子(A)对于作为杂质的金属的含量没有特别规定，但优选金属的含量少。二氧化硅粒子(A)中的金属浓度分散在适当的分散介质中后，可以通过ICP-MS法高感度地测定。另外，作为在二氧化硅粒子(A)中含有时不优选的金属，可以举出铁、钠、钛、铝、钾、钙、锆及镁。二氧化硅粒子(A)中的金属含量优选为1000ppm以下，更优选为100ppm以下，进一步优选为1ppm以下。本专利技术的固化性组合物中使用的二氧化硅粒子(A)的平均粒径为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种固化性组合物，其含有平均粒径为50nm以下的湿式二氧化硅粒子(A)、聚合性化合物(B)、聚合引发剂(C)和着色剂(D)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.16 JP 2016-1822101.一种固化性组合物，其含有平均粒径为50nm以下的湿式二氧化硅粒子(A)、聚合性化合物(B)、聚合引发剂(C)和着色剂(D)。2.根据权利要求1所述的固化性组合物，其中，所述湿式二氧化硅粒子(A)中的金属的含量为1000ppm以下。3.根据权利要求1或2所述的固化性组合物，其中，聚合性化合物(B)为下述通式(I)所示的化合物，或者为具有使下述通式(I)所示的化合物与不饱和一元酸进行酯化而成的结构的不饱和化合物，或者为具有下述结构的不饱和化合物，该结构为使具有使下述通式(I)所示的环氧化合物与不饱和一元酸进行酯化而成的结构的不饱和化合物进一步与多元酸酐进行酯化而成的结构，通式(I)中，M表示直接键合、碳原子数为1～20的烃基、-O-、-S-、-SO2-、-SS-、-SO-、-CO-、-OCO-、选自下述式(a)、(b)、(c)或(d)所表示的组中的取代基，M所表示的基团中的氢原子可被卤素原子取代，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8即R1～R8分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～20的烃基或卤素原子，R1～R8所表示的基团中的亚甲基可在氧不相邻的条件下被-O-取代，n为0～10的数，在n为0以外的情况下，多个存在的R1～R8及M分别相同或不同，式(a)、(b)、(c)、(d)中，R9表示碳原子数为1～20的烃基，R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37及R38即R10～R38分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～20的烃基、含有杂...

【专利技术属性】
技术研发人员：筱塚豊史，品川真澄，六谷翔，三原大树，松平桂典，
申请(专利权)人：株式会社艾迪科，
类型：发明
国别省市：日本,JP