一种用于蚀刻液生产的清洗系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种用于蚀刻液生产的清洗系统，包括储液罐限位单元以及喷淋单元；所述储液罐限位单元包括横梁，在所述横梁上设置有竖直向下延伸的竖梁，在所述竖梁上设置有上横板、下横杆；在所述上横板上设置有悬挂装置，在所述下横杆上设置有支撑装置；所述喷淋单元包括并列竖直设置的第一喷管、第二喷管，所述第一喷管、第二喷管连接于一阀门。本实用新型专利技术结构简单，方便使用，能够有效提高对蚀刻液储液罐的清洗效率；通过第一喷管、第二喷管分开设置，从而使第一喷头能够进行直喷，第二喷头能够侧喷，使用时较为方便地向储液装置的罐底以及内侧壁进行喷淋清洗；通过旋拧的方式开启或者关闭阀门，非常方便，并且阀门不易损坏。

A Cleaning System for Etching Fluid Production

The utility model discloses a cleaning system for the production of etching liquor, which comprises a liquid storage tank limiting unit and a spray unit; the liquid storage tank limiting unit comprises a cross beam, on which a vertical downward extending vertical beam is arranged, an upper cross plate and a lower cross bar are arranged, and a suspension device is arranged on the upper cross plate, and a support is arranged on the lower cross bar. The spray unit comprises a first nozzle and a second nozzle arranged vertically in parallel, and the first nozzle and the second nozzle are connected to a valve. The utility model has the advantages of simple structure, convenient use, and can effectively improve the cleaning efficiency of the etching liquid storage tank; the first nozzle can be directly sprayed through the separation of the first nozzle and the second nozzle, and the second nozzle can be side sprayed, so that the bottom and inner wall of the liquid storage device can be sprayed and cleaned more conveniently when used; the valve can be opened or closed by screwing. It is very convenient and the valve is not easily damaged.

【技术实现步骤摘要】
一种用于蚀刻液生产的清洗系统
本技术涉及一种用于蚀刻液生产的清洗系统，属于蚀刻液生产设备

技术介绍
蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wetetching)和干蚀刻(dryetching)两类。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量(WeightReduction)仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。蚀刻液是一种铜版、锌版等印刷凹凸版雕刻用原料，通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。由于蚀刻液属于化学原料，因此在对每一种类蚀刻液进行储存时应避免进入杂质以及其他化学成分。蚀刻液通常存储于储液罐内，在向储液罐内灌入蚀刻液时应保持内部的清洁，避免储液罐内壁上附着有其他化学成分的材料残渣，因此需要对储液罐进行清洗。而现有的清洗都是通过工人手持清洗喷管插入到储液罐内进行喷淋清洗，清洗后的水则存留在储液罐内无法及时排出，只能等基本清洗完毕后将倾倒清洗本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于蚀刻液生产的清洗系统，其特征在于：包括储液罐限位单元以及喷淋单元；所述储液罐限位单元包括横梁，在所述横梁上设置有竖直向下延伸的竖梁，在所述竖梁上设置有上横板、下横杆；在所述上横板上设置有悬挂装置，在所述下横杆上设置有支撑装置；所述悬挂装置包括吸盘碗，所述吸盘碗的碗口朝向下方设置，一竖直设置的螺杆固定在所述吸盘碗的上端，一压碗扣在所述吸盘碗上，并且所述压碗的边缘压住所述吸盘碗的碗口翻边，所述螺杆穿过所述压碗上的通孔，一螺母螺接于所述螺杆上，所述螺母包括竖直筒部以及位于竖直筒部上部的挡环部；在所述上横板上设置有用于所述竖直筒部穿过的穿孔；所述喷淋单元包括并列竖直设置的第一喷管、第二喷管...

【技术特征摘要】
1.一种用于蚀刻液生产的清洗系统，其特征在于：包括储液罐限位单元以及喷淋单元；所述储液罐限位单元包括横梁，在所述横梁上设置有竖直向下延伸的竖梁，在所述竖梁上设置有上横板、下横杆；在所述上横板上设置有悬挂装置，在所述下横杆上设置有支撑装置；所述悬挂装置包括吸盘碗，所述吸盘碗的碗口朝向下方设置，一竖直设置的螺杆固定在所述吸盘碗的上端，一压碗扣在所述吸盘碗上，并且所述压碗的边缘压住所述吸盘碗的碗口翻边，所述螺杆穿过所述压碗上的通孔，一螺母螺接于所述螺杆上，所述螺母包括竖直筒部以及位于竖直筒部上部的挡环部；在所述上横板上设置有用于所述竖直筒部穿过的穿孔；所述喷淋单元包括并列竖直设置的第一喷管、第二喷管，所述第一喷管、第二喷管连接于一阀门；所述阀门连接于入水管；所述第一喷管的上端部设置有第一喷头，所述第二喷管的侧壁上设置有若干第二喷头。2.如权利要求1所述的用于蚀刻液生产的清洗系统，其特征在于：所述阀门包括一竖直设置的筒状阀体，所述阀体的上端封闭，下端设置有外螺纹用于螺接于所...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭小英，
申请(专利权)人：吉安宏达秋科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江西,36