The invention relates to a cleaning coating machine and a cleaning coating method, which mainly solves the problem of low surface Darin value of the parts to be plated after plasma cleaning in the prior art. Cleaning and coating machine includes: powder gasifier, high temperature cracking furnace, treatment chamber, cold trap, vacuum pump, plasma cleaning component, gas tank and gas valve, gas tank is connected with treatment chamber through gas valve; central controller, central controller and powder gasifier, high temperature cracking furnace, powder valve, rotatable bracket assembly, cold trap, vacuum pump and so on. The plasma cleaning module includes: plasma controller, plasma positive plate and plasma negative plate, plasma positive plate and plasma negative plate are set on both sides of the rotating bracket module, plasma controller and central controller, plasma positive plate, plasma negative plate and gas valve are connected, and the cleaning and coating method can solve the problem well. It can be used in the industrial production of poly (p-xylene) coating.
【技术实现步骤摘要】
一种清洗镀膜机及清洗镀膜方法
本专利技术涉及清洗镀膜机及清洗镀膜方法。技术背景随着电子产品对镀膜的质量要求的提升,在镀膜工序之前需要添加等离子清洗工序对产品进行清洗以提高镀膜质量。现有的用于聚对二甲苯镀膜的真空镀膜机和等离子清洗机是两台独立的设备,在配合过程中存在如下问题:1、需要将待镀件放入等离子清洗机的腔体内抽真空后打等离子体清洗产品表面,再恢复常压后取出待镀件放入真空镀膜机的腔体内再抽真空到指定真空值后开始镀膜。多次抽真空的操作,耗时长,影响加工处理效率,并且随着时间的延长,等离子清洗的效果减弱。2、两种设备在配合处理过程中,待镀件需要在不同腔体间转移、搬运和重新排布,容易受到环境及操作人员的二次污染,影响等离子清洗的效果。为了解决上述存在的缺陷,中国专利技术申请201510449218.X,一种低应力的各项同性有机物填充的装置及方法中公开了一种将抽真空与镀膜集成一体的装置,其在蒸发室内的样品夹具托盘的正上方设置等离子清洗源,解决了上述缺陷,但是其等离子清洗得到的待镀件表面的达因值不高,从而导致等离子清洗后的待镀件的表面亲水性以及镀膜后的膜层附着力不佳。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题之一是现有技术中存在的等离子清洗后待镀件表面达因值地、亲水性差一级附着力差的技术问题,提供一种清洗镀膜机,该清洗镀膜机等离子清洗后的待镀件表面达因值较高,且镀膜后的膜层与待镀件之间具有良好的附着力。本专利技术所要解决的技术问题之二是提供一种与解决技术问题之一相对应的清洗镀膜方法。为解决上述技术问题之一,本专利技术采取的技术方案如下:一种清洗镀膜机,包括依次连 ...
【技术保护点】
1.一种清洗镀膜机,包括依次连通的粉体气化炉、高温裂解炉、处理腔、冷阱以及真空泵,所述高温裂解炉与处理腔之间通过粉体阀门连通,所述处理腔内设有用于摆放待镀件的可转动托架组件以及等离子清洗组件,其特征在于,还包括:若干组气体罐组,每组所述气体罐组均包括一气体罐以及一气体阀门,所述气体罐通过所述气体阀门与所述处理腔的内部连通;中控器,所述中控器分别与所述粉体气化炉、高温裂解炉、粉体阀门、可转动托架组件、冷阱、真空泵和等离子清洗组件连接;所述等离子清洗组件包括:等离子控制器、等离子正极板与等离子负极板,所述等离子正极板与等离子负极板分别设置于所述可转动托架组件的两侧,所述等离子控制器分别与所述中控器、等离子正极板、等离子负极板以及气体阀门连接。
【技术特征摘要】
1.一种清洗镀膜机,包括依次连通的粉体气化炉、高温裂解炉、处理腔、冷阱以及真空泵,所述高温裂解炉与处理腔之间通过粉体阀门连通,所述处理腔内设有用于摆放待镀件的可转动托架组件以及等离子清洗组件,其特征在于,还包括:若干组气体罐组,每组所述气体罐组均包括一气体罐以及一气体阀门,所述气体罐通过所述气体阀门与所述处理腔的内部连通;中控器,所述中控器分别与所述粉体气化炉、高温裂解炉、粉体阀门、可转动托架组件、冷阱、真空泵和等离子清洗组件连接;所述等离子清洗组件包括:等离子控制器、等离子正极板与等离子负极板,所述等离子正极板与等离子负极板分别设置于所述可转动托架组件的两侧,所述等离子控制器分别与所述中控器、等离子正极板、等离子负极板以及气体阀门连接。2.根据权利要求1所述的清洗镀膜机,其特征在于:所述气体罐组至少有四个,且分别装有氩气、氧气、氢气和氮气。3.根据权利要求1所述的清洗镀膜机,其特征在于:所述可转动托架组件包括托架以及转动机构,所述托架设置于所述转动机构上,所述托架在所述转动机构的带动下绕着其自身的轴线转动,所述转动机构与中控...
【专利技术属性】
技术研发人员:钦晔,
申请(专利权)人:苏州凯瑞纳米科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。