透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜、以及透明导电性膜制造技术

本发明专利技术提供一种透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其即使在设置了透明导电层的透明导电性膜中，也能够得到充分的耐粘连性，并且能够抑制识别性的下降。该带光学调整层的硬涂层膜具备由非结晶性聚合物构成的透明基材膜、顺序地层叠在该透明基材膜的一个面上的硬涂层及其上的光学调整层。光学调整层含有多个颗粒，这些颗粒的平均颗粒直径比光学调整层的平均膜厚大，该平均颗粒直径r1与该平均膜厚d1具有以下关系：50nm≤(r1‑d1)≤1900nm。光学调整层的表面的除了由颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra为0.3nm～20nm的范围。

Hard coatings with optical adjustment layer and transparent conductive films for transparent conductive films

The invention provides a hard coating film with an optical adjusting layer for a transparent conductive film. Even in a transparent conductive film with a transparent conductive layer, the hard coating film can obtain sufficient adhesion resistance and can suppress the decline of recognition. The hard coating film with an optical adjustment layer has a transparent substrate film consisting of an amorphous polymer, a hard coating on one surface of the transparent substrate film in sequence and an optical adjustment layer thereon. The average particle diameter of the optical adjustment layer is larger than the average film thickness of the optical adjustment layer. The relationship between the average particle diameter R1 and the average film thickness D1 is as follows: 50 nm ((r1) D1 (< 1900 nm). The arithmetic average roughness Ra of the surface of the optical adjustment layer is in the range of 0.3-20 nm except for the convex part formed by the particles.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜、以及透明导电性膜
本专利技术涉及使用透明膜作为基材的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜、以及透明导电性膜。
技术介绍
以前，例如如智能手机、平板终端等那样，作为能够通过触摸显示画面而输入信息的装置，广泛地使用了静电电容式等的触摸屏。在此，作为触摸屏用的透明导电性膜，一般在基材膜上，通过蒸镀、喷溅等工艺方法层叠氧化铟锡(ITO：IndiumTinOxide)作为透明导电层(例如参照专利文献1)。另外，作为透明导电性膜的基材，使用了作为双折射大的结晶性聚合物膜的聚对酞酸乙二酯膜，但例如在戴着太阳镜操作移动终端那样的情况下，存在由于偏光太阳镜的使用而产生干涉条纹(uneveninterference)的问题，因此提出了使用双折射小的非结晶性聚合物膜作为基材。但是，通过将非结晶性聚合物膜作为基材的透明导电性膜消除了上述干涉条纹的发生，但非结晶性聚合物膜与结晶性聚合物膜相比，存在膜的表面容易产生伤痕的缺点。另外，非结晶性聚合物膜与结晶性聚合物膜相比，还存在容易划伤的缺点，因此在膜的运输时，存在由于与运输辊等平滑面紧贴而产生皱褶从而划伤的问题。因此，可以考虑在非结晶性聚合物膜的单面或双面设置了硬涂层的透明导电性膜用的硬涂层膜。但在该情况下存在以下的问题：如果将硬涂层膜卷绕为卷状，则重叠的硬涂层膜的基材的背面与硬涂层、或硬涂层之间紧贴的粘连的问题。因此，提出了在非结晶性聚合物膜上设置包含1～5μm的颗粒的硬涂层，使得在硬涂层及其上的ITO层(透明导电层)等的表面形成凹凸来改进耐粘连性(anti-blocking)(例如参照专利文献2、3)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平7-68690号公报专利文献2：日本特开2013-107349号公报专利文献3：日本特开2013-243115号公报
技术实现思路
但是，在成为基材的非结晶性聚合物膜上设置包含1～5μm大小的颗粒的硬涂层使得在ITO层(透明导电层)等的表面形成凹凸的情况下，根据硬涂层、其上的ITO层(透明导电层)等的厚度，在颗粒大小为1～2μm时耐粘连性存在不足之虞，如果颗粒大小大于2μm则识别性存在下降之虞。本专利技术提供一种透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜、以及使用了该带光学调整层的硬涂层膜的透明导电性膜，其即使在通过蒸镀、喷溅法等设置了透明导电层的透明导电性膜中，也能够得到充分的耐粘连性，并且能够抑制识别性的下降。为了达到上述目的，本专利技术的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜、以及透明导电性膜由以下结构构成。即，本专利技术的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜具备由非结晶性聚合物构成的透明基材膜、顺序地层叠在该透明基材膜的至少一个面上的硬涂层及其上的光学调整层。在此，上述光学调整层含有多个颗粒，这些颗粒的平均颗粒直径比上述光学调整层的平均膜厚大，该平均颗粒直径r1与该平均膜厚d1具有以下关系：50nm≤(r1-d1)≤1900nm。另外，上述光学调整层的表面的除了由上述颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra处于0.3nm～20nm的范围。在此，在光学调整层由多个层(高折射率层+低折射率层)构成的情况下，平均颗粒直径r1是所添加的颗粒(平均颗粒直径比平均膜厚d1大的颗粒)整体的平均颗粒直径，但平均膜厚d1在向双方的层添加了颗粒时、只向高折射率层添加了颗粒时，是整体的平均膜厚，在只向低折射率层添加了颗粒时，是低折射率层的平均膜厚(以下相同)。根据该透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，在层叠在硬涂层上的光学调整层上含有多个颗粒。另外，该光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径r1比光学调整层的平均膜厚d1大，该差处于50nm～1900nm的范围。另外，光学调整层的表面的除了由颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra为0.3nm～20nm。这样，通过将光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径与光学调整层的平均膜厚之间的差设为50nm以上，将光学调整层的表面的上述特定部分中的算术平均粗糙度Ra设为0.3nm以上，即使在此后通过蒸镀、喷溅法等在光学调整层上设置透明导电层所得的透明导电性膜中，也能够得到充分的耐粘连性。另外，通过将光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径r1与光学调整层的平均膜厚的差设为1900nm以下，将光学调整层的表面的上述特定部分中的算术平均粗糙度Ra设为20nm以下，在此后的透明导电性膜中，也能够抑制识别性的下降。另外，上述光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径r1处于100nm～2000nm的范围，该平均颗粒直径r1(nm)与该颗粒的个数N(个/mm2)具有以下的关系：199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)。在此，颗粒的个数N是指从光学调整层的表面(在光学调整层有多层的情况下，为其最表面)位于50nm以上的高度的颗粒的个数(以下相同)。另外，上述光学调整层的平均膜厚d1与该光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径r1具有以下的关系：(d1/r1)<0.5。另外，上述硬涂层含有多个颗粒，这些颗粒的平均颗粒直径小于上述硬涂层的平均膜厚，这些颗粒偏在于上述硬涂层的表面。另外，上述硬涂层的平均膜厚d2与该硬涂层所含有的颗粒的平均颗粒直径r2具有以下的关系：(d2/r2)＞2。另外，上述光学调整层的表面的凹侧面积对于每661780μm2为200000μm2以下。在此，光学调整层的表面的凹侧面积是指相对于不存在光学调整层所含有的颗粒的部分的光学调整层的平均高度成为3nm以上的凹侧的光学调整层的表面的面积(以下相同)。另外，也可以将上述硬涂层和上述光学调整层设置在上述透明基材膜的一个面，在该透明基材膜的另一个面侧粘贴保护膜使得形成最外层。另外，也可以将上述硬涂层和上述光学调整层设置在上述透明基材基材膜的两个面，在该透明基材膜的任意一个面侧粘贴保护膜使得形成最外层。另外，在上述带光学调整层的硬涂层膜的光学调整层的表面形成透明导电层来形成本专利技术的透明导电性膜。专利技术效果根据本专利技术的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，使光学调整层含有颗粒，使该颗粒的平均颗粒直径比光学调整层的平均膜厚大50nm～1900nm的范围，将光学调整层的表面的除了由颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra设为0.3nm～20nm，由此即使在此后设置透明导电层所得的透明导电性膜中，也能够得到充分的耐粘连性，能够抑制识别性的下降。附图说明图1是本专利技术的第一实施方式的带光学调整层的硬涂层膜的截面示意图。图2同样地是表示光学调整层的颗粒的平均颗粒直径与个数之间的关系的图。图3是本专利技术的第二实施方式的带光学调整层的硬涂层膜的截面示意图。图4是本专利技术的第三实施方式的带光学调整层的硬涂层膜的截面示意图。图5是本专利技术的其他实施方式的带光学调整层的硬涂层膜的截面示意图。图6是本专利技术的另一个实施方式的带光学调整层的硬涂层膜的截面示意图。附图标记说明1：带光学调整层的硬涂层膜；2：透明基材膜；3：硬涂层；3a：颗粒；4：光学调整层；4a：颗粒；6：保护膜。具体实施方式以下，根据附图说明用于实施本专利技术的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜以及透明导电性膜的方式。图1～图2表示本专利技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，具备由非结晶性聚合物构成的透明基材膜、顺序地层叠在该透明基材膜的至少一个面上的硬涂层及其上的光学调整层，其中：上述光学调整层含有多个颗粒，这些颗粒的平均颗粒直径比上述光学调整层的平均膜厚大，该平均颗粒直径r1与该平均膜厚d1具有以下关系：50nm≤(r1‑d1)≤1900nm，另外，上述光学调整层的表面的除了由上述颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra为0.3nm～20nm的范围。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.07.10 JP 2017-1350981.一种透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，具备由非结晶性聚合物构成的透明基材膜、顺序地层叠在该透明基材膜的至少一个面上的硬涂层及其上的光学调整层，其中：上述光学调整层含有多个颗粒，这些颗粒的平均颗粒直径比上述光学调整层的平均膜厚大，该平均颗粒直径r1与该平均膜厚d1具有以下关系：50nm≤(r1-d1)≤1900nm，另外，上述光学调整层的表面的除了由上述颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra为0.3nm～20nm的范围。2.根据权利要求1所述的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其中：上述光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径r1为100nm～2000nm的范围，该平均颗粒直径r1(nm)与该颗粒的个数N(个/mm2)具有以下的关系：199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)。3.根据权利要求1或2所述的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其中：上述光学调整层的平均膜厚d1与该光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径r1具有以下的关系：(d1/r1)<0.5。4.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：五岛大治，松本裕伸，市冈和也，铃木亚耶，福冈孝宏，木村正人，
申请(专利权)人：东山薄膜株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP