The invention relates to the field of semiconductor technology, in particular to an automatic semiconductor wafer spraying mechanism and its spraying equipment. The spraying mechanism includes a spraying platform, a rotating disc, a rotating lifting driving device, a horizontal vertical moving device, a nozzle and a splash cover; the rotating disc is set on the spraying platform, and the rotating lifting driving device is set at the bottom of the rotating disc, and the rotating lifting and rotating disc is driven by the rotating lifting driving device; the horizontal vertical moving device is set on the spraying platform, and the nozzle is set on the water spraying platform. On the horizontal and vertical movable device, the horizontal and vertical movable device drives the nozzle to move horizontally and vertically; the splashproof cover matches with the rotating disc, and prevents the glue splashing when spraying glue. The invention has the advantages that the nozzle can move around to improve the spraying efficiency, the rotating disc can rise and fall, the spraying effect can be improved, the spraying nozzle can be tested before working, and the blockage of the nozzle can be prevented.
【技术实现步骤摘要】
一种全自动半导体晶片喷胶机构及其喷胶设备
本专利技术涉及半导体
,尤其涉及一种全自动半导体晶片喷胶机构及其喷胶设备。
技术介绍
随着半导体晶圆制程工艺技术的发展,对晶片喷胶的技术度要求越来越高,各种半导体晶片喷胶设备随之产生。但目前的半导体喷胶设备的喷胶情况不稳定,设备没有设置清洁装置,会导致喷嘴堵塞,从而导致喷胶的效果不佳。大多数的喷胶设备都只有单一方向的运动,无法实现多方位移动,会受到局限、影响喷胶质量。
技术实现思路
本专利技术的目的是:针对现有技术存在的不足,提供一种能够使旋转盘升降、能使喷嘴前后左右移动、并且设置清洁装置的全自动半导体晶片喷胶机构及其喷胶设备。为实现本专利技术之目的,采用以下技术方案予以实现:一种全自动半导体晶片喷胶机构,该机构包括喷胶平台、旋转盘、旋转升降驱动装置、水平竖直移动装置、喷嘴和防溅罩;所述的喷胶平台设置在机架的中层,所述的旋转盘设置在喷胶平台上,所述的旋转升降驱动装置设置在旋转盘的底部,旋转升降驱动装置包括电机、主动轮、从动轮、传送带、旋转轴、气缸、气缸支架、气缸连接板和滑环;所述的电机通过电机支架固定设置在喷胶平台的底部,电机的转动轴与主动轮连接,主动轮与从动轮通过传送带连接;从动轮设置在旋转轴上,所述的旋转轴通过轴承设置在喷胶平台上,旋转轴顶端与旋转盘底部中心固定连接,旋转轴的底端与滑环连接,所述的滑环通过滑环支撑板固定在气缸支架的底部上,所述的气缸支架固定设置在喷胶平台的底部,所述的气缸设置在气缸支架上,气缸的活塞杆与气缸连接板连接,气缸连接板上设置有多个顶针,每个顶针的顶部均穿过喷胶平台与旋转盘的底部连接; ...
【技术保护点】
1.一种全自动半导体晶片喷胶机构,其特征在于,该机构包括喷胶平台(1)、旋转盘(2)、旋转升降驱动装置(3)、水平竖直移动装置(4)、喷嘴(5)和防溅罩(6);所述的喷胶平台(1)设置在机架(10)的中层,所述的旋转盘(2)设置在喷胶平台(1)上,所述的旋转升降驱动装置(3)设置在旋转盘(2)的底部,旋转升降驱动装置(3)包括电机(31)、主动轮(32)、从动轮(33)、传送带(34)、旋转轴(35)、气缸(36)、气缸支架(37)、气缸连接板(38)和滑环(39);所述的电机(31)通过电机支架(311)固定设置在喷胶平台(1)的底部,电机(31)的转动轴与主动轮(32)连接,主动轮(32)与从动轮(33)通过传送带(34)连接;从动轮(33)设置在旋转轴(35)上,所述的旋转轴(35)通过轴承(351)设置在喷胶平台(1)上,旋转轴(35)顶端与旋转盘(2)底部中心固定连接,旋转轴(35)的底端与滑环(39)连接,所述的滑环(39)通过滑环支撑板(391)固定在气缸支架(37)的底部上,所述的气缸支架(37)固定设置在喷胶平台(1)的底部,所述的气缸(36)设置在气缸支架(37)上 ...
【技术特征摘要】
1.一种全自动半导体晶片喷胶机构,其特征在于,该机构包括喷胶平台(1)、旋转盘(2)、旋转升降驱动装置(3)、水平竖直移动装置(4)、喷嘴(5)和防溅罩(6);所述的喷胶平台(1)设置在机架(10)的中层,所述的旋转盘(2)设置在喷胶平台(1)上,所述的旋转升降驱动装置(3)设置在旋转盘(2)的底部,旋转升降驱动装置(3)包括电机(31)、主动轮(32)、从动轮(33)、传送带(34)、旋转轴(35)、气缸(36)、气缸支架(37)、气缸连接板(38)和滑环(39);所述的电机(31)通过电机支架(311)固定设置在喷胶平台(1)的底部,电机(31)的转动轴与主动轮(32)连接,主动轮(32)与从动轮(33)通过传送带(34)连接;从动轮(33)设置在旋转轴(35)上,所述的旋转轴(35)通过轴承(351)设置在喷胶平台(1)上,旋转轴(35)顶端与旋转盘(2)底部中心固定连接,旋转轴(35)的底端与滑环(39)连接,所述的滑环(39)通过滑环支撑板(391)固定在气缸支架(37)的底部上,所述的气缸支架(37)固定设置在喷胶平台(1)的底部,所述的气缸(36)设置在气缸支架(37)上,气缸(36)的活塞杆与气缸连接板(38)连接,气缸连接板(38)上设置有多个顶针(381),每个顶针(381)的顶部均穿过喷胶平台(1)与旋转盘(2)的底部连接;所述的水平竖直移动装置(4)设置在喷胶平台(1)上且位于旋转盘(2)的一侧,水平竖直移动装置(4)包括电缸支架(41)、竖直电缸(42)、支撑连接板(43)、水平电缸(44)、滑动底板(45)、导轨架(46)、调节杆(47)、固定螺杆(48);所述电缸支架(41)固定设置在喷胶平台(1)上,所述的竖直电缸(42)固定设置在电缸支架(41)上,竖直电缸(42)中的移动块与所述的支撑连接板(43)固定连接,所述的水平电缸(44)的左端固定设置在支撑连接板(43)上,所述的滑动底板(45)固定设置在水平电缸(44)的移动块的正面上,所述的导轨架(46)固定设置在滑动底板(45)的正面上,所述的调节杆(47)设置在导轨架(46)上,调节杆(47)能在导轨架(46)上上下移动;所述的固定螺杆(48)设置在导轨架(46)的正面上,通...
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