一种亮银色陶瓷后盖制造技术

本实用新型专利技术提供了一种亮银色陶瓷后盖，包括陶瓷本体以及镀设在所述陶瓷本体上的显色层；所述陶瓷本体为黑色陶瓷胚体，所述显色层的材质为铬。应用本实用新型专利技术的技术方案，效果是：产品结构精简；通过黑色陶瓷本体和铬材质显色层的组合，能有效获得亮银色的陶瓷产品，呈现别样的美观效果，满足消费者的需求。

A Bright Silver Ceramic Back Cover

The utility model provides a bright silver ceramic back cover, which comprises a ceramic body and a chromogenic layer plated on the ceramic body; the ceramic body is a black ceramic embryo body, and the chromium material of the chromogenic layer is chromium. The technical scheme of the utility model has the following effects: the product structure is simplified; bright silver ceramic products can be effectively obtained through the combination of black ceramic body and chromium material color layer, showing different aesthetic effects and meeting the needs of consumers.

【技术实现步骤摘要】
一种亮银色陶瓷后盖
本技术涉及电子产品
，具体涉及一种亮银色陶瓷后盖。
技术介绍
随着智能手机的日趋流行与普及，对于后盖需求呈多样化发展，而新材料陶瓷成为众多制造商所首选，陶瓷具有其独特的抗干扰性，提升手机信号。但陶瓷属于不透明材质，不像玻璃能在产品背面丝印不同颜色LOGO，再通过正面显示不同颜色来达到消费者对LOGO的个性化需求。综上所述，急需一种符合消费者个性化需求的陶瓷产品。
技术实现思路
本技术目的在于提供一种亮银色陶瓷后盖，产品美观，能够满足消费者的个性化需求，具体技术方案如下：一种亮银色陶瓷后盖，包括陶瓷本体以及镀设在所述陶瓷本体上的显色层；所述陶瓷本体为黑色陶瓷胚体；所述显色层的材质为铬。以上技术方案中优选的，所述显色层的厚度为100-500nm。以上技术方案中优选的，所述显色层设置在所述陶瓷本体上形成LOGO图案。以上技术方案中优选的，所述显色层的厚度为125nm。以上技术方案中优选的，所述显色层的厚度为199nm。以上技术方案中优选的，所述显色层的厚度为258nm。以上技术方案中优选的，所述显色层的厚度为368nm。以上技术方案中优选的，所述显色层的厚度为469nm。以上技术方案中优选的，所述显色层上设有保护层，所述保护层的厚度为1-30nm。以上技术方案中优选的，所述保护层为通过丝印方式设置的油墨保护层。应用本技术的技术方案，具有以下有益效果：(1)本技术的亮银色陶瓷后盖包括陶瓷本体以及镀设在所述陶瓷本体上的显色层，结构精简；所述陶瓷本体为黑色陶瓷胚体，所述显色层的材质为铬，能有效获得亮银色的陶瓷产品，呈现别样的美观效果，满足消费者的需求。(2)本技术中显色层设置在所述陶瓷本体上形成LOGO图案，能够满足装饰需求，实用性强。(3)本技术中显色层上设有保护层，所述保护层的厚度为1-30nm，所述保护层为通过丝印方式设置的油墨保护层。保护层的设置，能够对显色层进行有效保护，延长产品使用寿命。除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本技术还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本技术作进一步详细的说明。附图说明构成本申请的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：图1是本技术优选实施例1的亮银色陶瓷后盖结构示意图；图2是图1的局部剖面图；其中，1、陶瓷本体，2、显色层，3、保护层，4、LOGO图案。具体实施方式以下结合附图对本技术的实施例进行详细说明，但是本技术可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。实施例1：参见图1，一种亮银色陶瓷后盖，包括陶瓷本体1、显色层2以及保护层，详情如下：所述陶瓷本体1为黑色陶瓷胚体。所述显色层2镀设在所述陶瓷本体1上形成LOGO图案，显色层的厚度为125nm，所述显色层2的材质为铬。所述保护层3的厚度为1-30nm，为通过丝印方式设置的油墨保护层。亮银色陶瓷后盖上的LOGO图案4由所述显色层2和所述保护层3组成。本实施例产品的制作方法具体是：1、抛亮陶瓷产品，将黑色陶瓷胚体进行抛亮，要求表面粗糙度小于50nm，表面洁净度要求水滴角大于100°。2、丝印油墨，具体丝印参数如下：通过钢丝网网版(网目要求500目，张力23±3N，膜厚8-10um)丝印油墨(油墨膜厚4-7μm，2.3丝印油墨粘度要求50000-70000mpa.s)，刮刀必须75-80°，刮刀速度110-130之间回墨速度控制在120-140之间，油墨印刷后露出LOGO图案(即LOGO图案部分不印刷油墨)3、将印刷油墨后的陶瓷本体进行烘烤，烘烤温度控制在160°，烘烤时间30分钟，隧道线15M。4、电镀显色层，具体镀膜参数如下：a、采用真空磁控溅射镀膜机，采用靶材为铬靶；b、设定靶材速率0.5nm/s，RF设定电流2000W，铬靶设定电流5000W，N2流量80sccm，Ar流量100sccm，铬靶Ar流量100sccm。5、丝印保护层，具体是：在显色层上丝印保护层，保护层的材质为普通的保护油墨。6、褪镀油墨层，具体褪镀参数如下：褪镀药剂采用LR-201；将褪镀药剂加热至80℃，褪镀时间30min。7、将褪镀后的产品进行清洗，得到亮银色陶瓷后盖。实施例2-实施例5：实施例2与实施例1不同之处在于：所述显色层的厚度为199nm；具体镀膜参数如下：a、采用真空磁控溅射镀膜机，采用靶材为铬靶；b、设定靶材速率0.8nm/s，RF设定电流2100W，铬靶设定电流6000W，N2流量85sccm，Ar流量110sccm，铬靶Ar流量110sccm。实施例3与实施例1不同之处在于：所述显色层的厚度为258nm，具体镀膜参数如下：a、采用真空磁控溅射镀膜机，采用靶材为铬靶；b、设定靶材速率2.5nm/s，RF设定电流2500W，铬靶设定电流7200W，N2流量100sccm，Ar流量150sccm，铬靶Ar流量200sccm。实施例4与实施例1不同之处在于：所述显色层的厚度为368nm，具体镀膜参数如下：a、采用真空磁控溅射镀膜机，采用靶材为铬靶；b、设定靶材速率2.8nm/s，RF设定电流2800W，铬靶设定电流7900W，N2流量100sccm，Ar流量150sccm，铬靶Ar流量180sccm。实施例5与实施例1不同之处在于：所述显色层的厚度为469nm，具体镀膜参数如下：a、采用真空磁控溅射镀膜机，采用靶材为铬靶；b、设定靶材速率3nm/s，RF设定电流3000W，铬靶设定电流8000W，N2流量100sccm，Ar流量150sccm，铬靶Ar流量200sccm。实施例2-实施例5能够成功获得与实施例1相似的亮银色陶瓷后盖。以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，对于本领域的技术人员来说，本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种亮银色陶瓷后盖，其特征在于，包括陶瓷本体(1)以及镀设在所述陶瓷本体(1)的显色面上的显色层(2)；所述陶瓷本体(1)为黑色陶瓷胚体；所述显色层(2)的材质为铬。

【技术特征摘要】
1.一种亮银色陶瓷后盖，其特征在于，包括陶瓷本体(1)以及镀设在所述陶瓷本体(1)的显色面上的显色层(2)；所述陶瓷本体(1)为黑色陶瓷胚体；所述显色层(2)的材质为铬。2.根据权利要求1所述的亮银色陶瓷后盖，其特征在于，所述显色层(2)的厚度为100-500nm。3.根据权利要求2所述的亮银色陶瓷后盖，其特征在于，所述显色层(2)设置在所述陶瓷本体(1)上形成LOGO图案。4.根据权利要求2所述的亮银色陶瓷后盖，其特征在于，所述显色层(2)的厚度为125nm。5.根据权利要求2所述的亮银色陶瓷后盖，其特征在于，所述显色层...

【专利技术属性】
技术研发人员：周群飞，何小亮，
申请(专利权)人：蓝思科技长沙有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南,43